[發明專利]載置臺和等離子體處理裝置

有效

• 申請號: 201711284031.4
• 申請日: 2017-12-07
• 公開（公告）號: CN108183058B
• 公開（公告）日: 2020-03-10
• 發明（設計）人: 上田雄大
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01J37/20
• 分類號: H01J37/20;H01J37/32
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種載置臺，其特征在于，包括：

用于載置被處理體的基座；

包圍載置所述被處理體的區域且設置于所述基座上的聚焦環；

形成有貫通孔的連結部件，其被插入在所述基座上的與所述聚焦環的下部對應的區域形成的插入孔，將所述基座與所述基座的下方的部件連結；和

升降銷，其被插入所述連結部件的所述貫通孔，以能夠從所述插入孔自由突出的方式設置在所述基座，并且，通過由驅動機構驅動而從所述插入孔突出，使所述聚焦環上升。

2.如權利要求1所述的載置臺，其特征在于：

所述聚焦環隔著形成有貫通孔的伸縮性的導熱部件設置在所述基座上，

所述升降銷在從所述插入孔突出而使所述聚焦環上升時，穿過所述導熱部件的所述貫通孔與所述聚焦環的下部抵接，

所述導熱部件隨著所述聚焦環的上升而伸長，以填補所述基座和所述聚焦環之間的間隙。

3.如權利要求1或2所述的載置臺，其特征在于，還包括：

發熱部件，其配置于所述基座和所述聚焦環之間，覆蓋所述基座上的與所述聚焦環的下部對應的區域之中除所述插入孔之外的區域。

4.如權利要求1或2所述的載置臺，其特征在于：

所述聚焦環的下部形成了有底形狀的孔，

所述升降銷與所述有底形狀的孔嵌合。

5.如權利要求1或2所述的載置臺，其特征在于，還包括：

形成于所述基座的內部的使制冷劑流通的制冷劑流路。

6.一種等離子體處理裝置，其特征在于：

包括權利要求1～5中任一項所述的載置臺。