[發(fā)明專利]擦拭裝置及排出裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711282907.1
• 申請日: 2017-12-07
• 公開（公告）號: CN108621581B
• 公開（公告）日: 2022-04-01
• 發(fā)明（設計）人: 真鍋力;原和幸;平塚昌史;片岡雅樹
• 申請（專利權）人: 富士膠片商業(yè)創(chuàng)新有限公司
• 主分類號: B41J2/165
• 分類號: B41J2/165
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權代理有限公司 11127
• 代理人: 王小東

本發(fā)明提供擦拭裝置及排出裝置。該擦拭裝置包括：接觸構件，此接觸構件具有頂端部與基端部，所述頂端部構造成用來接觸噴嘴表面；支撐構件，此支撐構件沿所述噴嘴表面朝一側相對移動，并且支撐所述接觸構件的所述基端部，使得所述接觸構件能朝所述一側以及與所述一側相反的另一側搖擺；以及復位構件，此復位構件設置在所述支撐構件處，并且通過借助所述復位構件的復位力沿朝所述一側的搖擺方向推動或者牽拉所述接觸構件而將所述接觸構件的所述頂端部按壓至所述噴嘴表面。

技術領域

本發(fā)明涉及擦拭裝置以及排出裝置。

背景技術

日本未審專利申請?zhí)亻_平10-278285號公報公開了用于噴墨記錄頭的清潔機構。此清潔機構使擦拭構件接觸具有噴墨記錄頭的噴嘴的表面并且移除粘附至此表面的粘附物質(zhì)。清潔機構能夠選擇擦拭構件以第一壓力接觸具有噴嘴的表面的狀態(tài)以及擦拭構件以低于第一壓力的第二壓力接觸所述表面的狀態(tài)。

就構造而言，諸如擦拭構件之類的接觸構件布置在記錄頭旁邊使得接觸構件的頂端部在與噴嘴表面相交的方向上與噴嘴表面重疊，接觸構件沿噴嘴表面移動，并且在接觸構件的頂端部借助接觸構件的彈力被按壓至噴嘴表面的同時接觸構件擦拭噴嘴表面。在此構造的情況下，接觸構件需要一定剛性(耐久性)以便不大幅彎曲。因此，難以減小接觸構件在噴嘴表面上的負載。如果接觸構件的頂端部與噴嘴表面之間的重疊量由于例如更換接觸構件時的附接誤差而增大，則噴嘴表面上的負載可能過度增加。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是，與接觸構件的頂端部僅借助彈性變形的接觸構件的彈力被按壓至噴嘴表面的構造相比，減小接觸構件的頂端部在噴嘴表面上的負載相對于接觸構件的頂端部與噴嘴表面之間的重疊量的變化而發(fā)生的變化。

根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供一種擦拭裝置，此擦拭裝置包括：接觸構件，此接觸構件具有頂端部與基端部，所述頂端部構造成用來接觸噴嘴表面；支撐構件，此支撐構件沿所述噴嘴表面朝一側相對移動，并且支撐所述接觸構件的所述基端部，使得所述接觸構件能朝所述一側以及與所述一側相反的相反側搖擺；以及復位構件，此復位構件設置在所述支撐構件處，并且通過借助所述復位構件的復位力沿朝所述一側的搖擺方向推動或者牽拉所述接觸構件而將所述接觸構件的所述頂端部按壓至所述噴嘴表面。

根據(jù)本發(fā)明的第二方面，所述擦拭裝置可以進一步包括：限制部分，此限制部分通過限制所述接觸構件朝所述相反側的搖擺移動超出預定范圍而使所述接觸構件以彎曲方式變形從而使得所述頂端部朝所述相反側彎曲，并且使所述頂端部借助所述接觸構件的彈力被按壓至所述噴嘴表面；以及調(diào)節(jié)機構，此調(diào)節(jié)機構調(diào)節(jié)所述接觸構件的所述頂端部與所述噴嘴表面沿與所述噴嘴表面相交的方向重疊的重疊量

根據(jù)本發(fā)明的第三方面，所述復位構件可以是軸向方向沿所述噴嘴表面布置的螺旋彈簧。

根據(jù)本發(fā)明的第四方面，所述復位構件可以是軸向方向布置成與所述噴嘴表面相交的螺旋彈簧。

根據(jù)本發(fā)明的第五方面，提供一種擦拭裝置，此擦拭裝置包括：接觸構件，此接觸構件具有頂端部與基端部，所述頂端部構造成接觸噴嘴表面；支撐構件，此支撐構件沿所述噴嘴表面朝一側相對移動，并且支撐所述接觸構件的所述基端部使得所述接觸構件能沿朝所述噴嘴表面的接觸方向以及離開所述噴嘴表面的分離方向移動；復位構件，此復位構件設置在所述支撐構件處，并且通過借助所述復位構件的復位力沿所述接觸方向推動或者牽拉所述接觸構件而將所述接觸構件的所述頂端部按壓至所述噴嘴表面；限制部分，此限制部分通過限制所述接觸構件在所述分離方向上的移動超出預定范圍使所述接觸構件彈性變形，并且使所述頂端部借助所述接觸構件的彈力被按壓至所述噴嘴表面；以及調(diào)節(jié)機構，此調(diào)節(jié)機構調(diào)節(jié)所述接觸構件的所述頂端部與所述噴嘴表面沿與所述噴嘴表面相交的方向重疊的重疊量。

根據(jù)本發(fā)明的第六方面，提供一種排出裝置，此排出裝置包括：排出部分，此排出部分包括噴嘴表面，此噴嘴表面具有排出液體的噴嘴；以及根據(jù)第一至第五方面中任一方面所述的擦拭裝置，在此擦拭裝置中，所述接觸構件接觸所述噴嘴表面并且借助所述支撐構件朝所述一側的相對移動而擦拭所述噴嘴表面。