[發明專利]擦拭裝置及排出裝置

有效

• 申請號: 201711282907.1
• 申請日: 2017-12-07
• 公開（公告）號: CN108621581B
• 公開（公告）日: 2022-04-01
• 發明（設計）人: 真鍋力;原和幸;平塚昌史;片岡雅樹
• 申請（專利權）人: 富士膠片商業創新有限公司
• 主分類號: B41J2/165
• 分類號: B41J2/165
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 王小東

1.一種擦拭裝置，該擦拭裝置包括：

接觸構件，此接觸構件具有頂端部與基端部，所述頂端部構造成用來接觸噴嘴表面；

支撐構件，此支撐構件沿所述噴嘴表面朝一側相對移動，并且支撐所述接觸構件的所述基端部，使得所述接觸構件能朝所述一側以及與所述一側相反的相反側搖擺；

復位構件，此復位構件設置在所述支撐構件處，并且通過借助所述復位構件的復位力沿朝所述一側的搖擺方向推動或者牽拉所述接觸構件而將所述接觸構件的所述頂端部按壓至所述噴嘴表面；以及

限制部分，此限制部分通過限制所述接觸構件朝所述相反側的搖擺移動超出預定范圍，使所述接觸構件以彎曲方式變形從而使得所述頂端部朝所述相反側彎曲，并且使所述頂端部借助所述接觸構件的彈力被按壓至所述噴嘴表面，從而使得所述接觸構件的按壓力大于所述接觸構件的搖擺移動不被所述限制部分限制的非限制狀態下所述接觸構件的按壓力。

2.根據權利要求1所述的擦拭裝置，該擦拭裝置進一步包括：

調節機構，此調節機構調節所述接觸構件的所述頂端部與所述噴嘴表面沿與所述噴嘴表面相交的方向重疊的重疊量。

3.根據權利要求1或者2所述的擦拭裝置，

其中，所述復位構件是軸向方向沿所述噴嘴表面布置的螺旋彈簧。

4.根據權利要求1或者2所述的擦拭裝置，

其中，所述復位構件是軸向方向布置成與所述噴嘴表面相交的螺旋彈簧。

5.一種擦拭裝置，該擦拭裝置包括：

接觸構件，此接觸構件具有頂端部與基端部，所述頂端部構造成接觸噴嘴表面；

支撐構件，此支撐構件沿所述噴嘴表面朝一側相對移動，并且支撐所述接觸構件的所述基端部，使得所述接觸構件能沿朝所述噴嘴表面的接觸方向以及離開所述噴嘴表面的分離方向移動；

復位構件，此復位構件設置在所述支撐構件處，并且通過借助所述復位構件的復位力沿所述接觸方向推動或者牽拉所述接觸構件而將所述接觸構件的所述頂端部按壓至所述噴嘴表面；

限制部分，此限制部分通過限制所述接觸構件在所述分離方向上的移動超出預定范圍，使所述接觸構件彈性變形，并且使所述頂端部借助所述接觸構件的彈力被按壓至所述噴嘴表面，從而使得所述接觸構件的按壓力大于所述接觸構件的移動不被所述限制部分限制的非限制狀態下所述接觸構件的按壓力；以及

調節機構，此調節機構調節所述接觸構件的所述頂端部與所述噴嘴表面沿與所述噴嘴表面相交的方向重疊的重疊量。

6.一種排出裝置，該排出裝置包括：

排出部分，此排出部分包括噴嘴表面，此噴嘴表面具有排出液體的噴嘴；以及

根據權利要求1至5中任一項所述的擦拭裝置，在此擦拭裝置中，所述接觸構件接觸所述噴嘴表面并且借助所述支撐構件朝所述一側的相對移動而擦拭所述噴嘴表面。

7.根據權利要求6所述的排出裝置，

其中，所述擦拭裝置是根據權利要求2所述的擦拭裝置，并且

其中，所述排出裝置具有包括第一模式與第二模式的兩種模式，在所述第一模式中，所述接觸構件在所述預定范圍內朝所述相反側搖擺，并且所述接觸構件的所述頂端部借助所述復位構件的復位力被按壓至所述噴嘴表面；并且在所述第二模式中，所述接觸構件朝所述相反側超出預定范圍的搖擺移動被所述限制部分限制，并且所述接觸構件的所述頂端部借助所述接觸構件的彈力被按壓至所述噴嘴表面。