[發明專利]清潔方法

有效

• 申請號: 201711277807.X
• 申請日: 2017-12-06
• 公開（公告）號: CN108149221B
• 公開（公告）日: 2021-06-25
• 發明（設計）人: 田村辰也;梅原隆人
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種清潔方法，包括以下工序：

第一清潔工序，在處理室內在使上表面能夠載置基板的旋轉臺在第一清潔位置旋轉的狀態下，從所述旋轉臺的基板載置面的上方供給清潔氣體；以及

第二清潔工序，在使所述旋轉臺在比所述第一清潔位置靠下方的第二清潔位置旋轉的狀態下，從所述旋轉臺的基板載置面的上方供給所述清潔氣體；

其中，在所述第一清潔工序中，供給所述清潔氣體第一時間；在所述第二清潔工序中，供給所述清潔氣體第二時間；并且

基于在所述旋轉臺的上表面堆積的反應生成物的堆積量和在所述旋轉臺的側表面和/或下表面堆積的反應生成物的堆積量來決定所述第一時間與所述第二時間的比率，其中，在所述旋轉臺的上表面堆積的反應生成物的堆積量比所述旋轉臺的側表面和/或下表面堆積的反應生成物的堆積量多的情況下，使所述第二時間比所述第一時間長；在所述旋轉臺的側表面和/或下表面堆積的反應生成物的堆積量比所述旋轉臺的上表面堆積的反應生成物的堆積量多的情況下，使所述第一時間比所述第二時間長。

2.根據權利要求1所述的清潔方法，其特征在于，

在所述第一清潔工序之后進行所述第二清潔工序。

3.根據權利要求2所述的清潔方法，其特征在于，

在所述第一清潔工序之后且所述第二清潔工序之前包括第三清潔工序，在該第三清潔工序中，在使所述旋轉臺一邊從所述第一清潔位置向所述第二清潔位置移動一邊進行旋轉的狀態下，從所述旋轉臺的基板載置面的上方供給所述清潔氣體。

4.根據權利要求1所述的清潔方法，其特征在于，

在所述第二清潔工序之后進行所述第一清潔工序。

5.根據權利要求4所述的清潔方法，其特征在于，

在所述第二清潔工序之后且所述第一清潔工序之前包括第四清潔工序，在該第四清潔工序中，在使所述旋轉臺一邊從所述第二清潔位置向所述第一清潔位置移動一邊進行旋轉的狀態下，從所述旋轉臺的基板載置面的上方供給所述清潔氣體。

6.根據權利要求1所述的清潔方法，其特征在于，

交替重復進行所述第一清潔工序和所述第二清潔工序。

7.根據權利要求1所述的清潔方法，其特征在于，包括以下工序：

第三清潔工序，該第三清潔工序在所述第一清潔工序之后，在使所述旋轉臺一邊從所述第一清潔位置向所述第二清潔位置移動一邊進行旋轉的狀態下，從所述旋轉臺的基板載置面的上方供給所述清潔氣體；以及

第四清潔工序，該第四清潔工序在所述第二清潔工序之后，在使所述旋轉臺一邊從所述第二清潔位置向所述第一清潔位置移動一邊進行旋轉的狀態下，從所述旋轉臺的基板載置面的上方供給所述清潔氣體，

按照所述第一清潔工序、所述第三清潔工序、所述第二清潔工序以及所述第四清潔工序的順序重復進行這些工序。

8.根據權利要求1至7中的任一項所述的清潔方法，其特征在于，

所述清潔氣體包括ClF₃氣體。