[發明專利]包括傾斜的凸起區域和傾斜的凹陷區域的烹飪板

有效

• 申請號: 201711265650.9
• 申請日: 2017-12-05
• 公開（公告）號: CN108606648B
• 公開（公告）日: 2023-03-21
• 發明（設計）人: 皮埃爾·布維爾;讓-克里斯托夫·貝松;克里斯托弗·格思瑞
• 申請（專利權）人: SEB公司
• 主分類號: A47J37/06
• 分類號: A47J37/06
• 代理公司: 北京市萬慧達律師事務所 11111
• 代理人: 李強;段曉玲

1.一種用于烹飪烤架(G)的烹飪板(1)，所述烹飪板包括凸起區域，所述凸起區域沿著大致直的方向延伸并且用于收納待烹飪食物，并且在所述凸起區域的邊上設置凹陷區域，所述凹陷區域用于收集食物的汁并且朝向至少一個排出孔(81)排出食物的汁，所述凸起區域具有朝向所述至少一個排出孔(81)的第一傾斜度，并且所述凹陷區域具有朝向所述至少一個排出孔(81)的第二傾斜度，所述第二傾斜度比所述第一傾斜度更大，其特征在于，所述凸起區域和所述凹陷區域具有朝向所述至少一個排出孔(81)增大的傾斜度。

2.根據權利要求1所述的烹飪板(1)，其特征在于，所述凸起區域的增大的第一傾斜度由遠離所述至少一個排出孔的第一斜坡和靠近所述至少一個排出孔的第二斜坡形成，所述第二斜坡大于所述第一斜坡。

3.根據權利要求2所述的烹飪板(1)，其特征在于，所述凸起區域的第一傾斜度的第一斜坡在所述凸起區域的長度的至少一半上延伸。

4.根據權利要求1所述的烹飪板(1)，其特征在于，所述凹陷區域的第二傾斜度由遠離所述至少一個排出孔的第一斜坡和靠近所述至少一個排出孔的第二斜坡形成，所述第二斜坡大于所述第一斜坡。

5.根據權利要求4所述的烹飪板(1)，其特征在于，所述凹陷區域的第二傾斜度的第一斜坡在所述凹陷區域的長度的至少一半上延伸。

6.根據權利要求4或5所述的烹飪板(1)，其特征在于，所述第二傾斜度的第二斜坡大于所述第二傾斜度的第一斜坡一等級。

7.根據權利要求1至5中任一項所述的烹飪板(1)，其特征在于，所述凸起區域的高度(F)相對于所述烹飪板(1)的參考表面(18)來限定，所述高度隨著所述凸起區域與所述至少一個排出孔(81)靠近而增大。

8.根據權利要求1至5中任一項所述的烹飪板(1)，其特征在于，所述凸起區域彼此平行并且規則地間隔確定的距離(d)。

9.根據權利要求8所述的烹飪板(1)，其特征在于，所述凸起區域之間的確定的距離(d)與每個凸起區域的寬度之間的比介于1和1.5之間。

10.根據權利要求1至5中任一項所述的烹飪板(1)，其特征在于，所述至少一個排出孔(81)實現在溝槽(8)中，所述溝槽根據汁的流動方向設置在所述凸起區域和所述凹陷區域的上游。

11.根據權利要求10所述的烹飪板(1)，其特征在于，所述溝槽(8)具有朝向所述至少一個排出孔(81)的傾斜度(K)。

12.根據權利要求1至5中任一項所述的烹飪板(1)，其特征在于，所述至少一個排出孔(81)設置在所述烹飪板(1)的周邊部分(11)上。

13.一種烹飪烤架(G)，其特征在于，所述烹飪烤架包括根據權利要求1至12中任一項所述的烹飪板(1)。

14.根據權利要求13所述的烹飪烤架(G)，其特征在于，所述烹飪烤架包括位于側部(10)處的增高柱(61)，所述增高柱與所述至少一個排出孔(81)相對，所述烹飪板(1)設置在所述增高柱(61)上。

15.根據權利要求13或14所述的烹飪烤架(G)，所述烹飪烤架能夠設置在平坦支撐部(S)上，其特征在于，所述凸起區域的第一傾斜度由相對于所述平坦支撐部(S)具有第一角度(A)的第一斜坡和具有第二角度(B)的第二斜坡形成，并且所述第二角度(B)大于所述第一角度(A)。