[發(fā)明專利]有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711261061.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108155213A | 公開(公告)日: | 2018-06-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 尹海榮;曹正鉉;金埈永 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/32 | 分類號(hào): | H01L27/32;H01L51/52 |
| 代理公司: | 北京德琦知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018 | 代理人: | 梁洪源;康泉 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置 第一電極 保護(hù)層 有機(jī)發(fā)光層 開口 像素限定層 邊緣間隔 第二電極 限定開口 暴露 | ||
本發(fā)明涉及一種有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置。該有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置包括:在保護(hù)層上的第一電極;在保護(hù)層上并且限定開口的像素限定層,開口暴露第一電極的至少一部分;在第一電極上的有機(jī)發(fā)光層;以及在有機(jī)發(fā)光層上的第二電極。保護(hù)層具有與開口重疊的凹槽部分,并且凹槽部分在平面上與開口的邊緣間隔開。
相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
2016年12月2日遞交且名稱為“有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置及其制造方法”的韓國專利申請(qǐng)第10-2016-0163690號(hào)通過引用整體合并于此。
技術(shù)領(lǐng)域
本文描述的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例涉及有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置及其制造方法。
背景技術(shù)
有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示裝置具有低功耗、高亮度以及高響應(yīng)速度。一種類型的OLED顯示裝置具有包括OLED的多層結(jié)構(gòu)。此類結(jié)構(gòu)可根據(jù)視角產(chǎn)生色移,這會(huì)降低顯示質(zhì)量。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例,一種有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置,包括:基板;在基板上的保護(hù)層;在保護(hù)層上的第一電極;在保護(hù)層上并且限定開口的像素限定層,開口暴露第一電極的至少一部分;在第一電極上的有機(jī)發(fā)光層;以及在有機(jī)發(fā)光層上的第二電極,其中保護(hù)層具有與開口重疊的凹槽部分,并且其中凹槽部分在平面上與開口的邊緣間隔開。
在保護(hù)層與像素限定層重疊的邊界處,保護(hù)層相對(duì)于基板的表面可具有相等的高度。在保護(hù)層與像素限定層重疊的邊界處,保護(hù)層的高度和基板的表面的高度之間的差可約為0.1μm或者更小。開口的邊緣相對(duì)于基板的表面可具有相等的高度。開口的邊緣的高度與基板的表面的高度之間的差可約為0.1μm或者更小。凹槽部分可與開口的邊緣間隔開約0.5μm至約5.0μm。凹槽部分可在平面上與開口的邊緣間隔開約0.5μm至約2.0μm。
凹槽部分的邊緣的至少一部分可平行于開口邊緣。凹槽部分可具有從約1.0μm至約2.0μm的范圍的寬度。凹槽部分可具有從約0.2μm至約1.0μm的范圍的深度。凹槽部分可具有從約0.3μm至約0.7μm的范圍的深度。
顯示裝置可包括基板與保護(hù)層之間的薄膜晶體管,其中第一電極通過保護(hù)層中的接觸孔與薄膜晶體管接觸,并且其中凹槽部分的深度小于接觸孔的深度。保護(hù)層可包括以從約1μm至約6μm的范圍的間距設(shè)置的多個(gè)凹槽部分。凹槽部分中的每一個(gè)可具有線平面形狀。凹槽部分可彼此平行。凹槽部分可處于徑向方向上。凹槽部分中的每一個(gè)可具有點(diǎn)平面形狀。凹槽部分可具有不同深度。顯示裝置可包括像素限定層上的間隔物。
根據(jù)一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例,一種用于制造有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置的方法,包括:在基板上施加光敏材料以形成光敏材料層;圖案化光敏材料層以形成具有凹槽部分的保護(hù)層;在保護(hù)層上形成第一電極并覆蓋凹槽部分;在保護(hù)層上形成像素限定層,像素限定層限定開口,開口暴露第一電極的至少一部分;在第一電極的開口處形成發(fā)光層;以及在發(fā)光層上形成第二電極,其中凹槽部分與開口重疊并且在平面上與開口的邊緣間隔開。
在保護(hù)層與像素限定層重疊的邊界處,保護(hù)層相對(duì)于基板的表面可具有相等的高度。在保護(hù)層與像素限定層重疊的邊界處,保護(hù)層的高度和基板的表面的高度之間的差可約為0.1μm或者更小。形成保護(hù)層可包括:圖案化光敏材料層,并且然后熱固化圖案化后的光敏材料層。
附圖說明
通過參照附圖詳細(xì)描述示例性實(shí)施例,各特征將對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員變得顯而易見,附圖中:
圖1圖示像素的實(shí)施例;
圖2圖示像素的電路圖實(shí)施例;
圖3圖示沿圖1中的線I-I’截取的剖視圖;
圖4A圖示第一電極和開口的實(shí)施例,并且圖4B圖示第一電極下方的凹槽部分的實(shí)施例;
圖5A和5B圖示包括第一電極、開口和凹槽部分的另一實(shí)施例;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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