[發(fā)明專利]一種利用低壓器件實(shí)現(xiàn)耐高壓的高速IO電路有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711249090.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107786195B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-04-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 嚴(yán)智 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 珠海億智電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H03K19/003 | 分類號(hào): | H03K19/003;H03K19/0185 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205 | 代理人: | 俞梁清 |
| 地址: | 519080 廣東省珠海市高*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 利用 低壓 器件 實(shí)現(xiàn) 高壓 高速 io 電路 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種利用1.8V耐壓CMOS器件實(shí)現(xiàn)的耐5V高速IO電路,包括:耐壓保護(hù)單元U1、ESD保護(hù)管M1與M2、ESD保護(hù)電阻R1與R2。所述IO電路在正常工作時(shí),電路輸入輸出信號(hào)擺幅可以達(dá)到3.3V。該IO電路在PAD短接到5V的情況下,耐壓保護(hù)單元能夠保護(hù)M1與M2不會(huì)產(chǎn)生耐壓?jiǎn)栴},同時(shí)不會(huì)將電流引入到3.3V電源上,避免將3.3V電源拉高。IO電路的電容非常小,以保證該電路在GHz的頻率上仍能保持正常工作。IO電路依然保持傳統(tǒng)IO電路的ESD泄放路徑,與傳統(tǒng)的IO電路相比,本發(fā)明的電路利用1.8V耐壓器件并能工作在3.3V電源電壓下,具有一般IO所不具有的大擺幅、高速、耐高壓性能,而且能夠在28nm等缺乏3.3V耐壓器件的先進(jìn)工藝制程下實(shí)現(xiàn),具有靈活廣泛的應(yīng)用。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及微電子技術(shù)中的ESD(Electrostatic Discharge)技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種利用1.8V耐壓器件實(shí)現(xiàn)的耐5V高速IO電路,該電路在如USB 2.0等需要該特性的應(yīng)用場(chǎng)合中具有靈活而廣泛的應(yīng)用。
背景技術(shù)
任何兩個(gè)不同材料的物體摩擦,都有可能產(chǎn)生靜電。當(dāng)電子元器件在制造、生產(chǎn)、組裝、測(cè)試、存放、搬運(yùn)等過(guò)成中,靜電會(huì)積累在人體、儀器、存放設(shè)備等之中,甚至在電子器件本身也會(huì)積累電荷。當(dāng)靜電源與其它物體接觸時(shí),存在著電荷流動(dòng),將產(chǎn)生潛在的破壞性電壓、電流以及電磁場(chǎng),嚴(yán)重時(shí)可以將其中的物體擊毀,這就是靜電放電ESD。
隨著集成電路技術(shù)和工藝水平的不斷發(fā)展,芯片上的晶體管以及器件尺寸越做越小,芯片的集成度越來(lái)越高,這些對(duì)芯片ESD保護(hù)提出了更高的要求,使得集成電路的靜電放電保護(hù)電路的設(shè)計(jì)難度達(dá)到了空前的高度。尤其是進(jìn)入28nm的工藝節(jié)點(diǎn)以后,普通IO器件的耐壓由以前的3.3V降到1.8V,但某些應(yīng)用如USB 2.0對(duì)耐壓的要求并沒(méi)有下降,同時(shí)隨著高速接口工作的速度越來(lái)越高,擺幅要求越來(lái)越高,IO的實(shí)現(xiàn)難度也越來(lái)越高。
IO電路在ESD防護(hù)電路中扮演著至關(guān)重要的角色。傳統(tǒng)的IO電路如圖1所示,一般IO電路可以采用二極管實(shí)現(xiàn),如方案1所示,該方案vdd可以接3.3V,IO的輸出擺幅可以達(dá)到3.3V,其缺點(diǎn)在于當(dāng)PAD端接5V時(shí),D1會(huì)有一個(gè)較大的導(dǎo)通電流,導(dǎo)致電源vdd被反灌電甚至是拉高,從而導(dǎo)致內(nèi)部電路器件的損壞;另外,兩個(gè)二極管的電容較大會(huì)降低IO的最高工作速度。一般IO電路也可以采用MOS管實(shí)現(xiàn),如方案2所示,在28nm以下尺寸的先進(jìn)工藝下,由于只有1.8V耐壓器件,該方案vdd只能接1.8V,IO的輸出擺幅只可以達(dá)到1.8V,另外當(dāng)PAD端接5V時(shí),M1會(huì)有一個(gè)較大的導(dǎo)通電流,導(dǎo)致電源vdd被反灌電甚至是拉高,從而導(dǎo)致內(nèi)部電路器件的損壞;另外,兩個(gè)MOS的電容較大會(huì)降低IO的最高工作速度。在某些應(yīng)用場(chǎng)合,如USB 2.0中,需要3.3V電壓擺幅,同時(shí)需要耐5V的輸入電壓,也需要達(dá)到較高的速度時(shí),以上兩種結(jié)構(gòu)均不適合使用,尤其是先進(jìn)納米工藝下。因此,設(shè)計(jì)出具有更靈活更廣泛應(yīng)用的IO電路,對(duì)整個(gè)微電子的發(fā)展是非常有意義的。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種IO電路的結(jié)構(gòu),該電路結(jié)構(gòu)利用1.8V耐壓器件實(shí)現(xiàn),能夠達(dá)到3.3V電壓擺幅,同時(shí)能夠耐5V的輸入電壓,并能夠達(dá)到GHz以上的高速要求,該技術(shù)使得該IO電路在先進(jìn)納米工藝下具有更靈活更廣泛的應(yīng)用。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明設(shè)計(jì)方案如圖2所示,包括:耐壓保護(hù)單元U1、ESD保護(hù)管M1與M2、ESD保護(hù)電阻R1與R2。耐壓保護(hù)單元上端接M1的漏極,下端接M2的漏極,左端接高速接口內(nèi)部電路,右邊接PAD;ESD保護(hù)管M1的源極接電路電源vdd,漏極接耐壓保護(hù)單元U1的上端,柵極連接到ESD保護(hù)電阻R1的一端;ESD保護(hù)管M2的源極接電路地gnd,漏極接耐壓保護(hù)單元U1的下端,柵極連接到ESD保護(hù)電阻R2的一端;ESD保護(hù)電阻R1的一端連接到M1的柵極,而另外一端連接到電源電壓vdd上;ESD保護(hù)電阻R2的一端連接到M2的柵極,而另外一端連接到地gnd上。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于珠海億智電子科技有限公司,未經(jīng)珠海億智電子科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711249090.8/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 互動(dòng)業(yè)務(wù)終端、實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)及實(shí)現(xiàn)方法
- 街景地圖的實(shí)現(xiàn)方法和實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)
- 游戲?qū)崿F(xiàn)系統(tǒng)和游戲?qū)崿F(xiàn)方法
- 圖像實(shí)現(xiàn)裝置及其圖像實(shí)現(xiàn)方法
- 增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)的實(shí)現(xiàn)方法以及實(shí)現(xiàn)裝置
- 軟件架構(gòu)的實(shí)現(xiàn)方法和實(shí)現(xiàn)平臺(tái)
- 數(shù)值預(yù)報(bào)的實(shí)現(xiàn)方法及實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)
- 空調(diào)及其冬眠控制模式實(shí)現(xiàn)方法和實(shí)現(xiàn)裝置以及實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)
- 空調(diào)及其睡眠控制模式實(shí)現(xiàn)方法和實(shí)現(xiàn)裝置以及實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)
- 輸入設(shè)備實(shí)現(xiàn)方法及其實(shí)現(xiàn)裝置





