[發明專利]對準標記、基板及其制作方法、曝光對準方法

有效

• 申請號: 201711242791.9
• 申請日: 2017-11-30
• 公開（公告）號: CN109856930B
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發明（設計）人: 麻清琳;趙寶杰;周聰慧;王麗;李堅;趙言;惠翔;王雄偉;馬春紅
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 彭久云

一種對準標記、基板及其制作方法、曝光對準方法。該對準標記包括對準區域、周邊區域和遮擋區域。對準區域具有外輪廓；周邊區域至少圍繞部分所述對準區域的外輪廓設置；遮擋區域圍繞所述對準區域的外輪廓設置，且不與所述周邊區域重合；所述對準區域和所述遮擋區域是不透明的，所述周邊區域至少是部分透明的。該對準標記可以使得曝光機更準確地獲取對準標記的位置，從而提高基板與掩模板對位的準確性。同時，該對準標記還減少對準錯誤的報警，提高生產效率。

技術領域

本公開至少一實施例涉及一種對準標記、基板及其制作方法、曝光對準方法。

背景技術

在光刻工藝中的曝光工序中，通常會采用曝光機配合掩模板進行。在這個過程中，需要將掩模板與被加工物例如基板進行對準，之后曝光機發射光束通過掩模板從而對被加工物表面上涂覆的光刻膠進行曝光。為了進行對準，通常需要在基板和掩模板上分別設置/形成一個或多個對準標記，用于將基板與掩模板對準。

發明內容

本公開至少一實施例提供一種對準標記，該對準標記包括對準區域、周邊區域和遮擋區域。對準區域具有外輪廓；周邊區域至少圍繞部分所述對準區域的外輪廓設置；遮擋區域圍繞所述對準區域的外輪廓設置，且不與所述周邊區域重合；所述對準區域和所述遮擋區域是不透明的，所述周邊區域至少是部分透明的。

例如，該對準標記中，所述對準區域為多邊形。

例如，該對準標記中，所述對準區域為矩形。

例如，該對準標記中，所述周邊區域包括多個沿所述對準區域的外輪廓的每條邊延伸方向延伸并超出所述對準區域的外輪廓的條形結構。

例如，該對準標記中，所述對準區域為圓形。

例如，該對準標記中，所述周邊區域的形狀為環形，所述環形的輪廓形狀與所述對準區域的外輪廓的形狀相同。

例如，該對準標記中，所述周邊區域包括多個沿所述對準區域的切線方向延伸并超出所述對準區域的外輪廓的條形結構。

例如，該對準標記中，所述對準區域和所述遮擋區域的材料為感光材料。

本公開至少一實施例還提供一種基板，該基板包括本公開的實施例提供的任意一種對準標記。

例如，該基板還包括工作區和位于所述工作區域周邊的非工作區；所述對準標記位于所述非工作區內。

例如，該基板還包括將所述基板的工作區劃分為多個陣列單元的黑矩陣；所述對準標記的對準區域和遮擋區域的材料與所述黑矩陣的材料相同。

本公開至少一實施例還提供一種基板的制作方法，該方法包括提供襯底基板，所述襯底基板包括工作區以及位于所述工作區周邊的非工作區；在所述襯底基板上形成不透明膜層；以及對所述不透明膜層進行圖案化，以形成所述對準標記的對準區域、周邊區域和遮擋區域。

例如，該基板的制作方法中，所述不透明膜層為黑色感光膜層，采用光刻工藝實現所述圖案化。

例如，該基板的制作方法中，所述基板還包括黑矩陣，所述基板的制作方法還包括在襯底基板的工作區域中形成所述黑矩陣；所述對準標記與所述黑矩陣經由同一工藝同時形成。

本公開至少一實施例還提供一種曝光對準方法，該方法包括：提供基板、曝光機和掩模板，其中，所述基板上形成有本公開的實施例提供的任意一種對準標記的第一對準標記，所述掩模板包括第二對準標記；通過所述曝光機獲取所述第一對準標記的對準區域的位置信息；以及調整所述基板與所述掩模板之間的相對位置，將所述掩模板與所述基板對準。

例如，該曝光對準方法中，所述曝光機包括鏡頭，所述掩模板位于所述鏡頭與所述基板之間，通過所述鏡頭采集所述對準標記的遮擋區域的圖像信息。