[發明專利]對準標記、基板及其制作方法、曝光對準方法

有效

• 申請號: 201711242791.9
• 申請日: 2017-11-30
• 公開（公告）號: CN109856930B
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發明（設計）人: 麻清琳;趙寶杰;周聰慧;王麗;李堅;趙言;惠翔;王雄偉;馬春紅
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 彭久云

1.一種對準標記，位于透明的待構圖基板上，且包括：

對準區域，具有外輪廓，配置為在曝光過程中被曝光機識別以將所述待構圖基板與掩模板對準；

周邊區域，其中，所述周邊區域是透明的且是所述待構圖基板的一部分，包括圍繞所述對準區域的整個所述外輪廓的透明的封閉的環形部分，以使在所述曝光過程中進行曝光對準時，所述曝光機在對所述對準區域進行識別時識別到所述對準區域的灰度與其周圍的所述透明的封閉的環形部分的灰度之間存在差異；以及

遮擋區域，至少圍繞部分所述對準區域的外輪廓設置，且不與所述周邊區域重合；其中，所述對準區域和所述遮擋區域是不透明的，所述對準區域和所述遮擋區域是通過在所述透明的待構圖基板上形成不透明膜層以及對所述不透明膜層進行圖案化而形成的，所述待構圖基板包括透明的非工作區，所述透明的非工作區位于所述遮擋區域外側且圍繞所述遮擋區域。

2.根據權利要求1所述的對準標記，其中，所述對準區域為多邊形。

3.根據權利要求2所述的對準標記，其中，所述對準區域為矩形。

4.根據權利要求2或3所述的對準標記，其中，所述封閉的環形部分的外輪廓為多邊形，所述周邊區域包括多個沿所述封閉的環形部分的外輪廓的每條邊的延伸方向延伸并超出所述封閉的環形部分的外輪廓的條形結構。

5.根據權利要求1所述的對準標記，其中，所述對準區域為圓形。

6.根據權利要求2或3或5所述的對準標記，其中，所述周邊區域的封閉的環形部分的外輪廓形狀與所述對準區域的外輪廓的形狀相同。

7.根據權利要求5所述的對準標記，其中，所述周邊區域包括多個沿所述封閉的環形部分的外輪廓的切線方向延伸并超出所述封閉的環形部分的外輪廓的條形結構。

8.根據權利要求1所述的對準標記，其中，所述對準區域和所述遮擋區域的材料為感光材料。

9.一種待構圖基板，包括至少一個權利要求1-8任一所述的對準標記。

10.根據權利要求9所述的待構圖基板，包括：

工作區和位于所述工作區周邊的非工作區；

所述對準標記位于所述非工作區內。

11.根據權利要求9所述的待構圖基板，其中，所述待構圖基板為顯示基板。

12.根據權利要求11所述的待構圖基板，其中，所述待構圖基板為母板，所述母板包括多個基板單元，每個所述基板單元包括將所述基板單元劃分為多個陣列單元的黑矩陣；

所述對準標記的對準區域和遮擋區域的材料與所述黑矩陣的材料相同。

13.一種權利要求9-10或12任一所述的待構圖基板的制作方法，包括：

提供襯底基板，所述襯底基板包括工作區以及位于所述工作區周邊的非工作區；

在所述襯底基板上形成不透明膜層；以及

對所述不透明膜層進行圖案化，以形成所述對準標記的對準區域、周邊區域和遮擋區域。

14.根據權利要求13所述的待構圖基板的制作方法，其中，所述不透明膜層為黑色感光膜層，采用光刻工藝實現所述圖案化。

15.根據權利要求13所述的待構圖基板的制作方法，其中，所述待構圖基板還包括黑矩陣，所述待構圖基板的制作方法還包括在襯底基板的工作區域中形成所述黑矩陣；

所述對準標記與所述黑矩陣經由同一工藝同時形成。