[發(fā)明專利]柔性顯示器件及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711242212.0 | 申請日: | 2017-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN108962935B | 公開(公告)日: | 2021-01-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 高卓 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東聚華印刷顯示技術(shù)有限公司;TCL科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 鄭彤 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市廣州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 柔性 顯示 器件 及其 制備 方法 | ||
1.一種柔性顯示器件,其特征在于,包括:
柔性薄膜基板,所述柔性薄膜基板的表面包括器件區(qū)域和第一封裝區(qū)域,所述第一封裝區(qū)域設(shè)有第一環(huán)形凹槽;
柔性封裝基板,所述柔性封裝基板的表面設(shè)有與所述第一環(huán)形凹槽對應的第二環(huán)形凹槽;
電學發(fā)光部件,層疊于所述器件區(qū)域;
所述第一環(huán)形凹槽和第二環(huán)形凹槽中均填充有納米玻璃漿料,所述第一環(huán)形凹槽和第二環(huán)形凹槽中的納米玻璃漿料熔融形成納米玻璃漿料熔融部,使所述柔性薄膜基板和所述柔性封裝基板形成整體,并使所述電學發(fā)光部件封裝于所述柔性薄膜基板和所述柔性封裝基板之間;
其中,所述納米玻璃漿料包括無機非金屬材料,所述無機非金屬材料選自二氧化硅或氧化硅硼類金屬鹽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性顯示器件,其特征在于,所述納米玻璃漿料包括聚酰亞胺溶液和無機非金屬材料,所述無機非金屬材料占所述納米玻璃漿料總質(zhì)量的30-50%。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的柔性顯示器件,其特征在于,所述聚酰亞胺溶液包括聚酰亞胺、交聯(lián)劑和溶劑,其中聚酰亞胺的濃度為20-25wt%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性顯示器件,其特征在于,所述第一環(huán)形凹槽的深度為5-8μm,寬度為30-50μm;和/或,所述第二環(huán)形凹槽的深度為5-8μm,寬度為30-50μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的柔性顯示器件,其特征在于,所述柔性薄膜基板和所述柔性封裝基板的材質(zhì)均為聚酰亞胺。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的柔性顯示器件,其特征在于,所述納米玻璃漿料熔融部與所述電學發(fā)光部件間隔設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的柔性顯示器件,其特征在于,所述柔性薄膜基板表面還層疊設(shè)置有第一阻隔層;和/或,所述柔性封裝基板表面還層疊設(shè)置有第二阻隔層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的柔性顯示器件,其特征在于,所述第一阻隔層為聚對二甲苯與氮化硅交替設(shè)置的復合材料或二氧化硅與氮化硅交替設(shè)置的復合材料;和/或,所述第二阻隔層為聚對二甲苯與氮化硅交替設(shè)置的復合材料或二氧化硅與氮化硅交替設(shè)置的復合材料。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的柔性顯示器件,其特征在于,所述電學發(fā)光部件為OLED器件。
10.一種柔性顯示器件的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
提供第一載體基板,于所述第一載體基板表面涂覆聚酰亞胺溶液,固化形成柔性薄膜基板;所述柔性薄膜基板的表面包括器件區(qū)域和第一封裝區(qū)域,于所述第一封裝區(qū)域形成第一環(huán)形凹槽,所述第一環(huán)形凹槽中填充有納米玻璃漿料;
于所述器件區(qū)域形成電學發(fā)光部件;
提供第二載體基板,于所述第二載體基板表面涂覆聚酰亞胺溶液,固化形成柔性封裝基板;所述柔性封裝基板的表面設(shè)有與所述第一環(huán)形凹槽對應的第二環(huán)形凹槽,所述第二環(huán)形凹槽中填充有納米玻璃漿料;剝離所述第二載體基板;
將所述柔性封裝基板對位貼合于所述柔性薄膜基板,并使所述第一環(huán)形凹槽和所述第二環(huán)形凹槽相對合;
對所述第一環(huán)形凹槽和所述第二環(huán)形凹槽相對合的部位進行激光照射,使所述第一環(huán)形凹槽和第二環(huán)形凹槽中的納米玻璃漿料熔融在一起形成納米玻璃漿料熔融部,使所述柔性薄膜基板和所述柔性封裝基板形成整體,將所述電學發(fā)光部件封裝在所述柔性薄膜基板和所述柔性封裝基板內(nèi);
剝離所述第一載體基板,即得所述柔性顯示器件。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制備方法,其特征在于,所述第一載體基板與所述柔性薄膜基板之間還形成有第一離型層,所述第一離型層對應于所述第一環(huán)形凹槽所圍成的區(qū)域;和/或,所述第二載體基板與所述柔性封裝基板之間還形成有第二離型層,所述第二離型層對應于所述第二環(huán)形凹槽所圍成的區(qū)域。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





