[發明專利]去除掩模版上顆粒的裝置和方法在審
| 申請號: | 201711234834.9 | 申請日: | 2017-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN107942616A | 公開(公告)日: | 2018-04-20 |
| 發明(設計)人: | 何洪波;戴韞青;王劍;趙彬 | 申請(專利權)人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/82 | 分類號: | G03F1/82 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產權代理有限公司31211 | 代理人: | 戴廣志 |
| 地址: | 201203 上海市浦東新區*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 去除 模版 顆粒 裝置 方法 | ||
技術領域
本發明涉及半導體制造領域,特別是涉及一種去除掩模版上顆粒的裝置。本發明還涉及一種去除掩模版上顆粒的方法
背景技術
在半導體的制造工藝中,要建立起一個復雜結構的器件,將百萬個晶體管連接起來的電路,需要重復幾十次光刻和刻蝕工藝步驟把不同的圖形轉移到基元上,掩模版就是書寫圖形的模板。
在掩模版的使用過程中,設備中的顆粒物會掉落在掩模版上,這些顆粒物在光刻投影過程中會在基板或元件上形成重復缺陷,影響光刻質量,導致芯片成品率的大大降低。掩模版顆粒去除的辦法是先在掩模版移載機上用氮氣槍吹,接著在掩模版顆粒檢測器上檢測掩模版上是否還存在頑固顆粒,如果還存在頑固顆粒無法去除,就在自動開盒器上(參見圖1)打開掩模版標準盒,用無塵棉簽手動擦除頑固顆粒。現有的自動開盒器如圖1所示,其四周是開放式的,掩模版標準盒打開以后,掩模版直接暴露在空氣中,凈化間里不可避免的一些微小顆粒以及無塵服上的顆粒會掉落在掩模版上,導致掩模版的二次污染,嚴重的話需要返回掩模版廠家進行清洗,影響工藝進程。圖1中,標號4為照明燈,7為自動開盒器,3為掩模版裝載架。
發明內容
本發明要解決的技術問題是提供一種去除掩模版上顆粒的裝置,能夠有效提高去除掩模版上顆粒缺陷的效率;為此,本發明還要提供一種采用所述裝置去除掩模版上顆粒的方法。
為解決上述技術問題,本發明的去除掩模版上顆粒的裝置,包括:一透明的玻璃箱體,位于該玻璃箱體內的一自動開盒器,該自動開盒器的上端具有與其成一體的掩模版裝載架,且掩模版裝載架固定連接在玻璃箱體的上端,位于該玻璃箱體一側且與其密封連接的手套,位于玻璃箱體一側端的進氣口,位于與進氣口相對的玻璃箱體另一側端的出氣口。
采用上述裝置的去除掩模版上顆粒的方法,包括如下步驟:
步驟1、在透明的玻璃箱體內充滿高純氮氣;
步驟2、將掩模版放在掩模版裝載架上,采用自動開盒器打開掩模版標準盒;
步驟3、打開照明燈,通過玻璃箱體觀察掩模版上存在顆粒缺陷的位置;
步驟4、通過與玻璃箱體密封連接的手套,用無塵棉簽手動去除顆粒物。
掩模版在開盒的過程中會引入新的顆粒物,采用本發明的裝置和方法,將自動開盒器放在充滿氮氣的玻璃箱體里使用和操作,成為封閉式的掩模版顆粒手動去除裝置,避免開盒過程中引入新的顆粒物;使用與玻璃箱體密封連接的手套進行操作,避免在手動去除顆粒物缺陷時在掩模版上引入新的顆粒物,提高了去除掩模版上顆粒缺陷的效率,避免了掩模版的二次污染
附圖說明
下面結合附圖與具體實施方式對本發明作進一步詳細的說明:
圖1是傳統的自動開盒器示意圖;
圖2是所述去除掩模版上顆粒的裝置結構示意圖。
具體實施方式
掩模版在使用過程中不可避免的會附著顆粒物,某些頑固顆粒物無法在移載機中用氮氣槍去除,需要在凈化間自動開盒器上打開掩模版標準盒,手動移除。但是現有的自動開盒器如圖1所示,其四周是開放式的,在操作過程中有可能會引入新的顆粒,造成二次污染。
本發明提出了一種新的去除掩模版上頑固顆粒的裝置,將自動開盒器放入一個透明的玻璃箱體內,四周是玻璃箱體封閉,使其處于一個密封的環境中,避免開盒過程中引入新的顆粒物。
結合圖2所示,所述去除掩模版上顆粒的裝置在下面的實施例中,包括:一透明的玻璃箱體6,該玻璃箱體6在本實施例中為一正立方體,當然也可采用其它形狀的箱體,如長立方體。一自動開盒器7位于該玻璃箱體6內,使其處于一個密封的環境中。該自動開盒器7的上端具有與其成一體的掩模版裝載架3,且掩模版裝載架3固定連接在玻璃箱體6的上端。在所述玻璃箱體6的一側,具有一個與其密封連接的手套5,該手套5可為橡膠制品。進氣口1位于所述玻璃箱體6的一側端,例如,在本實施例中位于玻璃箱體6左側下端靠近最外側的位置。出氣口2位于與進氣口1相對的玻璃箱體的另一側端,例如,在本實施例中位于玻璃箱體6右側上端靠近最內側的位置,出氣口2與手套5位于所述玻璃箱體6的同一側。
還包括一照明燈4,該照明燈為強光燈,位于所述去除掩模版上顆粒的裝置外面,在進行去除掩模版上的顆粒物時,提供充分的照明,能夠看清楚顆粒物的位置。
玻璃箱體的上方是自動開盒器7以及掩膜版裝載架3,上側有玻璃門。不放掩膜版的時候,上側門是封閉的,需要放掩膜版的時候上側門打開,無塵棉簽也是從上側門放入,可以一次性的放入大包的無塵棉簽,可以長的時間使用。
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G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





