[發明專利]顯影液的濃度管理裝置以及基板的顯影處理系統

在審

• 申請號: 201711234540.6
• 申請日: 2017-11-29
• 公開（公告）號: CN108957967A
• 公開（公告）日: 2018-12-07
• 發明（設計）人: 中川俊元
• 申請（專利權）人: 株式會社平間理化研究所
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王婷

本發明提供最適于將基板的顯影所使用的顯影液管理為最佳的狀態的服務的顯影液的濃度管理裝置以及基板的顯影處理系統。基板處理系統中，顯影液的濃度管理裝置(B)、顯影處理裝置(A)、調制顯影液的新液的調制裝置(E)、對使用后的顯影液進行再生的再生裝置(F)由配管連接。顯影液的濃度管理裝置(A)測定顯影處理裝置(B)的顯影液的物性或者成分濃度并供給顯影液的原液或新液、再生液，從而將顯影液管理為最佳的濃度。所供給的補充液由設于配管的累計流量計(151、152、153、154、155)計測。能夠基于由累計流量計(151、152、153、154、155)計測出的補充液的累計流量來計算顯影液的濃度管理的費用或基板的顯影處理費用。

技術領域

本發明涉及顯影液的濃度管理裝置以及基板的顯影處理系統，尤其是在半導體或者液晶面板中的電路基板的顯影工序中等為了對光致抗蝕劑膜進行顯影而反復使用的顯現堿性的顯影液的濃度管理裝置以及基板的顯影處理系統。

背景技術

在用于實現半導體或液晶面板等的微細布線加工的光刻法的顯影工序中，作為將在基板上制膜后的光致抗蝕劑溶解的藥液，使用顯現堿性的顯影液(以下也稱作“堿性顯影液”)。堿性顯影液被維持管理為根據需要的規定的濃度而使用，以使其性能最大限度地被發揮。顯影液的濃度管理通過顯影液的成分濃度的監視和基于測定出的濃度的補充液的補給來進行。作為補給的補充液，除了顯影液的原液或純水以外，還使用新調制出的堿性顯影液(以下也稱作“新液”)或再生處理為能夠再利用的堿性顯影液(以下也稱作“再生液”)等。

另外，堿性顯影液吸收空氣中的二氧化碳并產生碳酸鹽而容易劣化。另外，堿性顯影液因光致抗蝕劑的溶解而產生光致抗蝕劑鹽，導致對顯影處理來說有效的堿成分被消耗。因此，反復使用的堿性顯影液成為不僅含有堿成分還含有光致抗蝕劑、二氧化碳的多成分系。而且，這些成分分別以不同的作用度而對顯影性能產生影響。因而，為了高精度地對顯影液的顯影性能進行維持管理，需要綜合考慮這些成分對顯影性能帶來的影響來進行顯影液管理。

以往，為了維持管理堿性顯影液的濃度，使用堿性顯影液而處理基板的人(以下也稱作“基板制造者”)購入并使用顯影液的濃度管理裝置。基板制造者必須調配顯影液的原液、新液等作為為了管理堿性顯影液的濃度而補給的補充液。另外，在基板制造者自身調制新液時，必須購入用其原料自動地對堿性顯影液進行調制的調制裝置并運用該調制裝置。另外，基板制造者為了自身準備再生液而必須購入將使用后的顯影液再生處理為能夠再利用的再生裝置。

作為堿性顯影液的管理裝置，例如，下述的專利文獻1記載有如下內容：測定與堿性顯影液的成分濃度具有關聯的多個特性值，基于測定出的多個測定值并利用多變量解析法來計算堿性顯影液的成分濃度，基于該測定值以及計算值而向顯影液輸送補充液。

另外，專利文獻2記載有如下的顯影液管理裝置：測定顯影液的密度，使用顯影液的密度值與吸收二氧化碳濃度值之間的對應關系，以使顯影液的吸收二氧化碳濃度成為規定的管理值或者管理值以下的方式向顯影液供給補充液。專利文獻3記載有如下的顯影液管理裝置：具備數據存儲部，該數據存儲部存儲有導電率數據，該導電率數據按照以顯影液的溶解光致抗蝕劑濃度以及吸收二氧化碳濃度為指標而確定的區域，具有確認了實現規定的顯影性能的顯影液的導電率值，將根據顯影液的溶解光致抗蝕劑濃度的測定值以及吸收二氧化碳濃度的測定值而確定的濃度區域的存儲于數據存儲部的導電率值作為控制目標值，向顯影液補給補充液。

在先技術文獻

專利文獻1：日本特開2017-28089號公報

專利文獻2：日本特開2017-28090號公報

專利文獻3：日本特開2017-28091號公報