[發明專利]顯影液的濃度管理裝置以及基板的顯影處理系統

在審

• 申請號: 201711234540.6
• 申請日: 2017-11-29
• 公開（公告）號: CN108957967A
• 公開（公告）日: 2018-12-07
• 發明（設計）人: 中川俊元
• 申請（專利權）人: 株式會社平間理化研究所
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王婷

1.一種顯影液的濃度管理裝置，其中，

所述顯影液的濃度管理裝置具備：

測定機構，其對與反復使用且顯現堿性的顯影液的成分濃度具有關聯的所述顯影液的多個特性值進行測定；

運算機構，其基于由所述測定機構測定出的所述多個特性值并利用多變量解析法來計算所述顯影液的成分濃度；

控制機構，其基于由所述運算機構算出的顯影液的成分濃度值，以使所述顯影液的成分濃度成為規定的管理值或者規定的管理值以下的方式向所述顯影液供給補充液；以及

累計流量計，其計測由所述控制機構供給的補充液的累計流量。

2.一種顯影液的濃度管理裝置，其中，

所述顯影液的濃度管理裝置具備：

密度儀；

控制機構，其基于由所述密度儀測定出的顯現堿性的顯影液的密度，根據所述顯影液的密度與吸收二氧化碳濃度之間的對應關系，以使所述顯影液的吸收二氧化碳濃度成為規定的管理值或者規定的管理值以下的方式向所述顯影液供給補充液；以及

累計流量計，其計測由所述控制機構供給的補充液的累計流量。

3.一種顯影液的濃度管理裝置，其中，

所述顯影液的濃度管理裝置具備：

測定機構，其對反復使用且顯現堿性的顯影液的導電率、溶解光致抗蝕劑濃度以及吸收二氧化碳濃度進行測定；

控制機構，其具備數據存儲部以及控制部，所述數據存儲部存儲有導電率數據，該導電率數據按照以所述溶解光致抗蝕劑濃度以及吸收二氧化碳濃度為指標而確定的濃度區域，具有預先確認了實現規定的顯影性能的所述顯影液的導電率值，所述控制部將存儲于所述數據存儲部的所述導電率數據中的、根據由所述測定機構測定出的所述顯影液的溶解光致抗蝕劑濃度以及吸收二氧化碳濃度的測定值而確定的濃度區域的導電率值作為控制目標值，以使所述顯影液的導電率成為所述控制目標值的方式向所述顯影液供給補充液；以及

累計流量計，其計測由所述控制機構供給的補充液的累計流量。

4.一種基板的顯影處理系統，其中，

所述基板的顯影處理系統具備：

顯影處理裝置，其使用顯影液對基板進行處理；

顯影液的濃度管理裝置，其管理在所述顯影處理裝置中反復使用的所述顯影液的濃度；

配管，其與所述顯影處理裝置連接，將由所述濃度管理裝置向所述顯影液供給的補充液輸送至所述顯影處理裝置；以及

累計流量計，其設于所述配管，

所述濃度管理裝置具備：

測定機構，其測定與所述顯影液的成分濃度具有關聯的多個特性值；

運算機構，其基于由所述測定機構測定出的所述多個特性值并利用多變量解析法來計算所述顯影液的成分濃度；以及

控制機構，其基于由所述運算機構算出的顯影液的成分濃度值，以使所述顯影液的成分濃度成為規定的管理值或者規定的管理值以下的方式向所述顯影液供給補充液。

5.根據權利要求4所述的基板的顯影處理系統，其中，

所述基板的顯影處理系統還具備：

顯影液的調制裝置，其將所述顯影液調制為新液；以及

新液用配管，其與所述顯影處理裝置以及所述調制裝置連接，通過所述濃度管理裝置向在所述顯影處理裝置中反復使用的顯影液供給由所述調制裝置調制出的所述新液，

在所述新液用配管中配備有累計流量計。

6.根據權利要求4所述的基板的顯影處理系統，其中，

所述基板的顯影處理系統還具備：

顯影液的再生裝置，其將在所述顯影處理裝置中使用后的所述顯影液再生為能夠再利用的再生液；以及

再生液用配管，其與所述顯影處理裝置以及所述再生裝置連接，通過所述濃度管理裝置向在所述顯影處理裝置中反復使用的顯影液供給由所述再生裝置再生的所述再生液，

在所述再生液用配管中配備有累計流量計。