[發明專利]一種多通道集成濾光片及其制造方法

在審

• 申請號: 201711220449.9
• 申請日: 2017-11-29
• 公開（公告）號: CN107703575A
• 公開（公告）日: 2018-02-16
• 發明（設計）人: 周東平
• 申請（專利權）人: 蘇州晶鼎鑫光電科技有限公司
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及光學儀器技術領域，具體涉及一種多通道集成濾光片及其制造方法。

背景技術

在現代光學儀器中，其中一種光學元件是濾光片，多通道濾光片是指集成有多個光學通道的濾光片。隨著光學技術和空間遙感應用技術的發展，對多通道濾光片的需求越來越多。

現有技術中所公開的多通道濾光片是通過對許多片單一通道的單片濾光片進行精密切割，然后拼接膠粘而成。由此產生的多通道濾光片機械性能差，在震動等惡劣環境中的耐受性能不高，而且由于缺乏統一的基準面，裝配調校困難，再者，具有體積較大的缺點，不利于光學儀器的小型化制造。

發明內容

本發明的目的在于提供一種多通道集成濾光片及其制造方法。

為實現上述發明目的之一，本發明采用如下技術方案：

一種多通道集成濾光片，包括一塊完整的基片，所述基片上設置有至少兩處光學濾光片膜層。

為實現上述另一發明目的，本發明采用如下技術方案：

一種多通道集成濾光片的制造方法，依次包括以下步驟：

S1、在基片待設置光學通道的一側表面均勻涂覆光刻膠，采用光刻工藝處理涂覆有光刻膠的基片，僅保留光學通道設計區域內的光刻膠；

S2、通過蒸鍍、電鍍或印刷工藝在步驟S1所得基片留有光刻膠的一側表面上設置質地松散的納米掩膜層；

S3、通過光學高真空蒸鍍工藝在步驟S2所得基片的納米掩膜層上設置至少一層質地松散的金屬膜層或介質膜層；

S4、采用光刻膠去除液與步驟S3所得基片反應，以得到光學通道設計區域內鏤空，其它區域層疊覆蓋有納米掩膜層和金屬膜層或者是介質膜層的基片；

S5、通過光學高真空蒸鍍工藝在步驟S4所得基片待設置光學通道的一側表面上形成光學濾光片膜層；

S6、采用納米掩膜層和金屬膜層或者是介質膜層的去除液與步驟S5所得基片反應，然后水洗，以得到只在光學通道設計區域內留有光學濾光片膜層的基片；

S7、重復上述步驟S1-S6，以在同一完整基片上設置至少兩處光學濾光片膜層。

作為本發明進一步改進的技術方案，步驟S3中執行光學高真空蒸鍍工藝的溫度為室溫至160攝氏度。

作為本發明進一步改進的技術方案，步驟S5中執行光學高真空蒸鍍工藝的溫度為150至300攝氏度。

作為本發明進一步改進的技術方案，所述基片為玻璃、石英、藍寶石、硅、鍺、硫化鋅、硒化鋅光學基片材料中的一種。

作為本發明進一步改進的技術方案，所述納米掩膜層的材料選自Ag、Cu、Al、CaCO3、Na3AlF6、CaF2、BaF2、NaCl、ZnS、ZnSe和感光膠、PI膠中的一種。

作為本發明進一步改進的技術方案，所述金屬膜層或介質膜層的材料選自Ag、Cu、Al、CaCO3、Na3AlF6、CaF2、BaF2、NaCl、ZnS、ZnSe和感光膠、PI膠中的一種。

作為本發明進一步改進的技術方案，步驟S3中所述金屬膜層或介質膜層為1-20層。

作為本發明進一步改進的技術方案，所述光學濾光片膜層由SiO2、Ta2O5、Nb2O5、TiO2、ZrO2、Al2O3、MgF2中至少兩種材料構成的膜結構層疊構成。

作為本發明進一步改進的技術方案，納米掩膜層和金屬膜層或者是介質膜層的去除液選自鹽酸、硝酸、硫酸、氫氧化鈉、氫氧化鉀、乙醇、乙醚、丙酮、IPA、石油醚中的一種或多種。

相對于現有技術，本發明的技術效果在于：

本發明在一塊完整的基片上設置多處光學濾光片膜層，以形成多個光學通道，光學通道之間相互隔絕，互不干擾，各自通過要求的光譜波段上的光線，實現濾光功能。由于是將多個光學濾光片膜層都制作在一片基片上，因此具有機械性能佳，在震動等惡劣環境中的耐受性能好的優點，而且光學濾光片膜層具有統一的基準面，裝配調校容易，再者，體積較小，使得光學儀器的體積易于實現小型化。

附圖說明

圖1是多通道集成濾光片的制造過程示意圖。

具體實施方式

以下將結合具體實施方式對本發明進行詳細描述。但這些實施方式并不限制本發明，本領域的普通技術人員根據這些實施方式所做出的結構、方法、或功能上的變換均包含在本發明的保護范圍內。

以下提供本發明的一種實施方式：

一種多通道集成濾光片，包括一塊完整的基片，所述基片上設置有至少兩處光學濾光片膜層。