[發明專利]一種多通道集成濾光片及其制造方法

在審

• 申請號: 201711220449.9
• 申請日: 2017-11-29
• 公開（公告）號: CN107703575A
• 公開（公告）日: 2018-02-16
• 發明（設計）人: 周東平
• 申請（專利權）人: 蘇州晶鼎鑫光電科技有限公司
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種多通道集成濾光片，其特征在于，包括一塊完整的基片，所述基片上設置有至少兩處光學濾光片膜層。

2.一種多通道集成濾光片的制造方法，其特征在于，依次包括以下步驟：

S1、在基片待設置光學通道的一側表面均勻涂覆光刻膠，采用光刻工藝處理涂覆有光刻膠的基片，僅保留光學通道設計區域內的光刻膠；

S2、通過蒸鍍、電鍍或印刷工藝在步驟S1所得基片留有光刻膠的一側表面上設置質地松散的納米掩膜層；

S3、通過光學高真空蒸鍍工藝在步驟S2所得基片的納米掩膜層上設置至少一層質地松散的金屬膜層或介質膜層；

S4、采用光刻膠去除液與步驟S3所得基片反應，以得到光學通道設計區域內鏤空，其它區域層疊覆蓋有納米掩膜層和金屬膜層或者是介質膜層的基片；

S5、通過光學高真空蒸鍍工藝在步驟S4所得基片待設置光學通道的一側表面上形成光學濾光片膜層；

S6、采用納米掩膜層和金屬膜層或者是介質膜層的去除液與步驟S5所得基片反應，然后水洗，以得到只在光學通道設計區域內留有光學濾光片膜層的基片；

S7、重復上述步驟S1-S6，以在同一完整基片上設置至少兩處光學濾光片膜層。

3.根據權利要求2所述的一種多通道集成濾光片的制造方法，其特征在于，步驟S3中執行光學高真空蒸鍍工藝的溫度為室溫至160攝氏度。

4.根據權利要求2所述的一種多通道集成濾光片的制造方法，其特征在于，步驟S5中執行光學高真空蒸鍍工藝的溫度為150至300攝氏度。

5.根據權利要求2所述的一種多通道集成濾光片的制造方法，其特征在于，所述基片為玻璃、石英、藍寶石、硅、鍺、硫化鋅、硒化鋅光學基片材料中的一種。

6.根據權利要求2所述的一種多通道集成濾光片的制造方法，其特征在于，所述納米掩膜層的材料選自Ag、Cu、Al、CaCO3、Na3AlF6、CaF2、BaF2、NaCl、ZnS、ZnSe和感光膠、PI膠中的一種。

7.根據權利要求2所述的一種多通道集成濾光片的制造方法，其特征在于，所述金屬膜層或介質膜層的材料選自Ag、Cu、Al、CaCO3、Na3AlF6、CaF2、BaF2、NaCl、ZnS、ZnSe和感光膠、PI膠中的一種。

8.根據權利要求2所述的一種多通道集成濾光片的制造方法，其特征在于，步驟S3中所述金屬膜層或介質膜層為1-20層。

9.根據權利要求2所述的一種多通道集成濾光片的制造方法，其特征在于，所述光學濾光片膜層由SiO2、Ta2O5、Nb2O5、TiO2、ZrO2、Al2O3、MgF2中至少兩種材料構成的膜結構層疊構成。

10.根據權利要求2所述的一種多通道集成濾光片的制造方法，其特征在于，納米掩膜層和金屬膜層或者是介質膜層的去除液選自鹽酸、硝酸、硫酸、氫氧化鈉、氫氧化鉀、乙醇、乙醚、丙酮、IPA、石油醚中的一種或多種。