[發(fā)明專利]一種陶瓷無光釉及利用其制備無光釉陶瓷制品的工藝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711218445.7 | 申請日: | 2017-11-28 |
| 公開(公告)號: | CN107814489B | 公開(公告)日: | 2020-12-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 曾憲城;王建國 | 申請(專利權(quán))人: | 福建省德化縣暉德陶瓷有限公司 |
| 主分類號: | C03C8/14 | 分類號: | C03C8/14;C03C8/20;C03C8/06;C04B41/86 |
| 代理公司: | 泉州協(xié)創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 35231 | 代理人: | 王偉強(qiáng) |
| 地址: | 362500 福*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 陶瓷 無光 利用 制備 釉陶 制品 工藝 | ||
本發(fā)明提供一種陶瓷無光釉及利用其制備無光釉陶瓷制品的工藝,屬于陶瓷技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明的陶瓷無光釉包括以下重量份的組分:氧化硅35~45份、低溫熔塊30~37份、氧化鋁18~26份、氧化鈉5~12份、氧化鉀5~10份、氧化鈣5~10份、氧化鋰5~10份、氧化硼5~10份、氧化鋇1~4份、顏料8~17份。采用本發(fā)明提供的無光釉原料與工藝制得的無光釉陶瓷制品,其釉面滋潤、細(xì)膩且具備一定的硬度、耐磨性與抗水性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于陶瓷技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種陶瓷無光釉及利用其制備無光釉陶瓷制品的工藝。
背景技術(shù)
無光釉是指呈絲光或玉石狀光澤而無強(qiáng)烈反射光的釉,這種釉施于藝術(shù)陶瓷上,可獲得較佳的效果,在中國古代最具代表性的為哥窯,其顏色有米白、粉青、灰綠、奶酪黃等色。無光釉通常在燒制過程中采用透明釉析出微晶的方法來生成,無光釉的原料與工藝對其成釉效果具有較大的影響,市場上出現(xiàn)的普通無光釉陶瓷制品通常存在硬度低、耐磨性差或抗水性差等缺陷,因而,提供一種陶瓷無光釉。
發(fā)明內(nèi)容
基于以上現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明的目的在于提供一種陶瓷無光釉及利用其制備無光釉陶瓷制品的工藝,采用本發(fā)明提供的原料與工藝制得的無光釉陶瓷制品,其釉面滋潤、細(xì)膩,硬度高、耐磨性強(qiáng)、抗水性好,其光學(xué)性能優(yōu)異,反射光強(qiáng)度低,不會產(chǎn)生光反射污染。
為了實(shí)現(xiàn)以上目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案為:一種陶瓷無光釉,包括以下重量份的組分:氧化硅35~45份、低溫熔塊30~37份、氧化鋁18~26份、氧化鈉5~12份、氧化鉀5~10份、氧化鈣5~10份、氧化鋰5~10份、氧化硼5~10份、氧化鋇1~4份、顏料8~17份。
作為優(yōu)選,所述陶瓷無光釉包括以下重量份的組分:氧化硅40份、低溫熔塊34份、氧化鋁22份、氧化鈉8份、氧化鉀7份、氧化鈣8份、氧化鋰7份、氧化硼8份、氧化鋇3份、顏料12份。
所述低溫熔塊由以下重量百分含量的原料組成:高嶺土20~25%、硅酸鈉8~15%、硝酸鋅8~12%、透輝石8~12%、鈦酸鋁8~10%、鋇長石6~12%、石英5~10%、二苯甲酮4~10%、硼鈉鈣石5~8%、螢石5~8%、硼砂1~3%。
所述顏料為市場上常見的陶瓷釉用顏料,優(yōu)選鈷藍(lán)顏料、鈷綠顏料、鋯鐠黃顏料、鋯釩藍(lán)顏料、無鈷黑顏料、鐵紅顏料、鈦黃顏料。
本發(fā)明還提供一種使用無光陶瓷釉制備無光釉陶瓷制品的工藝,包括以下步驟:
步驟1、按照重量份分別稱取各原料,備用;
步驟2、將各原料混合后加入占其總重量1.5~3倍的水后進(jìn)行球磨,球磨后過500目篩得到釉水,其篩余量為0.5%以下;
步驟3、將步驟2中得到釉水的含水量調(diào)節(jié)為65~72%后對陶瓷坯體進(jìn)行上釉,晾干后釉層厚度為0.5~2mm,接著進(jìn)行高溫?zé)频玫綗o光釉陶瓷制品。
作為優(yōu)化,所述步驟2中進(jìn)行球磨的速率為250~450r/min。
作為優(yōu)化,所述步驟3中的陶瓷坯體為經(jīng)750~900℃下素?zé)?小時得到的素坯。
作為優(yōu)化,所述步驟3中上釉后進(jìn)行高溫?zé)茣r采用的溫度為1050~1150℃、燒制的時間為50~120分鐘,燒結(jié)溫度過高,會導(dǎo)致早期形成的無光釉重新溶解,這樣熔解的釉中玻璃相增加,從而使無光釉變成光澤釉,燒成溫度過低,則會導(dǎo)致生成的無光釉面不均勻、光澤暗淡且失去亞光效果。
作為優(yōu)化,所述步驟3中上釉后進(jìn)行高溫?zé)频木唧w溫度曲線為:以400℃/h的速率升溫至650℃,接著以250℃/h的速率升溫至900℃,然后以180℃/h的速率升溫至1050~1150℃,保溫結(jié)束后以80℃/h的速率降溫至1000℃,然后以200℃/h的速率降溫至最800℃,最后以100℃/h的速率降溫至常溫,合理的升降溫速率與保溫時間也是燒成無光釉陶瓷制品的關(guān)鍵因素,是形成優(yōu)質(zhì)無光釉效果不可缺少的保證。
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