[發(fā)明專利]一種陶瓷無(wú)光釉及利用其制備無(wú)光釉陶瓷制品的工藝

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711218445.7
• 申請(qǐng)日: 2017-11-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107814489B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-12-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 曾憲城;王建國(guó)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 福建省德化縣暉德陶瓷有限公司
• 主分類號(hào): C03C8/14
• 分類號(hào): C03C8/14;C03C8/20;C03C8/06;C04B41/86
• 代理公司: 泉州協(xié)創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 35231
• 代理人: 王偉強(qiáng)

1.一種陶瓷無(wú)光釉，其特征在于，由以下重量份的組分制成：氧化硅35~45份、低溫熔塊30~37份、氧化鋁18~26份、氧化鈉5~12份、氧化鉀5~10份、氧化鈣5~10份、氧化鋰5~10份、氧化硼5~10份、氧化鋇1~4份、顏料8~17份；所述低溫熔塊由以下重量百分含量的原料組成：高嶺土20~25%、硅酸鈉8~15%、硝酸鋅8~12%、透輝石8~12%、鈦酸鋁8~10%、鋇長(zhǎng)石6~12%、石英5~10%、二苯甲酮4~10%、硼鈉鈣石5~8%、螢石5~8%、硼砂1~3%。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷無(wú)光釉，其特征在于，由以下重量份的組分制成：氧化硅40份、低溫熔塊34份、氧化鋁22份、氧化鈉8份、氧化鉀7份、氧化鈣8份、氧化鋰7份、氧化硼8份、氧化鋇3份、顏料12份；所述低溫熔塊由以下重量百分含量的原料組成：高嶺土23%、硅酸鈉11%、硝酸鋅10%、透輝石10%、鈦酸鋁9%、鋇長(zhǎng)石9%、石英7%、二苯甲酮7%、硼鈉鈣石6%、螢石6%、硼砂2%。

3.一種利用權(quán)利要求1或2所述的無(wú)光陶瓷釉制備無(wú)光釉陶瓷制品的工藝，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1、按照重量份分別稱取各原料，備用；

步驟2、將各原料混合后加入占其總重量1.5~3倍的水后進(jìn)行球磨，球磨后過(guò)500目篩得到釉水，其篩余量為0.5%以下；

步驟3、將步驟2中得到釉水的含水量調(diào)節(jié)為65~72%后對(duì)陶瓷坯體進(jìn)行上釉，晾干后釉層厚度為0.5~2mm，接著進(jìn)行高溫?zé)频玫綗o(wú)光釉陶瓷制品。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的利用無(wú)光陶瓷釉制備無(wú)光釉陶瓷制品的工藝，其特征在于，所述步驟2中進(jìn)行球磨的速率為250~450r/min。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的利用無(wú)光陶瓷釉制備無(wú)光釉陶瓷制品的工藝，其特征在于，所述步驟3中的陶瓷坯體為經(jīng)750~900℃下素?zé)?小時(shí)得到的素坯。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的利用無(wú)光陶瓷釉制備無(wú)光釉陶瓷制品的工藝，其特征在于，所述步驟3中上釉后進(jìn)行高溫?zé)茣r(shí)采用的溫度為1050~1150℃、燒制的時(shí)間為50~120分鐘。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的利用無(wú)光陶瓷釉制備無(wú)光釉陶瓷制品的工藝，其特征在于，所述步驟3中上釉后進(jìn)行高溫?zé)频木唧w溫度曲線為：以400℃/h的速率升溫至650℃，接著以250℃/h的速率升溫至900℃，然后以180℃/h的速率升溫至1050~1150℃，保溫結(jié)束后以80℃/h的速率降溫至1000℃，然后以200℃/h的速率降溫至最800℃，最后以100℃/h的速率降溫至常溫。