[發(fā)明專利]廢氣再循環(huán)裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711214431.8 | 申請日: | 2017-11-28 |
| 公開(公告)號: | CN109469566A | 公開(公告)日: | 2019-03-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 尹圣日;李東映;樸度俊;尹仁圣;高昇佑 | 申請(專利權(quán))人: | 現(xiàn)代自動(dòng)車株式會(huì)社;起亞自動(dòng)車株式會(huì)社 |
| 主分類號: | F02M26/32 | 分類號: | F02M26/32;F02M26/29 |
| 代理公司: | 北京戈程知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11314 | 代理人: | 程偉;郭海娜 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 汽缸蓋 冷卻液室 廢氣再循環(huán)裝置 渦流 廢氣再循環(huán) 渦流生成器 冷卻液 再循環(huán) 進(jìn)氣 排氣 冷卻 | ||
本發(fā)明涉及一種廢氣再循環(huán)(EGR)裝置,所述裝置包括:汽缸蓋,在該汽缸蓋中形成有EGR通路,所述EGR通路從排氣側(cè)至進(jìn)氣側(cè)再循環(huán)EGR氣體;冷卻液室,其形成于汽缸蓋內(nèi)部并處于EGR通路的周圍,使經(jīng)過EGR通路的EGR氣體冷卻的冷卻液經(jīng)過所述冷卻液室;以及渦流生成器,其設(shè)置于EGR通路的一側(cè)以在經(jīng)過EGR通路的EGR氣體中形成渦流。
相關(guān)申請的交叉引用
本申請根據(jù)要求2017年9月7日在韓國知識產(chǎn)權(quán)局所提出的韓國專利申請第10-2017-0114573號的優(yōu)先權(quán)權(quán)益,并通過引用將其全文納入本文。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種發(fā)動(dòng)機(jī),更具體地,涉及一種廢氣再循環(huán)裝置,其將廢氣的一部分從排氣側(cè)再循環(huán)至進(jìn)氣側(cè)以降低燃燒室的溫度,從而減少氮氧化物的產(chǎn)生并降低燃料消耗。
背景技術(shù)
通常,EGR(Exhaust Gas Recirculation,廢氣再循環(huán))裝置將廢氣的一部分(在下文中稱為“EGR氣體”)從發(fā)動(dòng)機(jī)的排氣側(cè)再循環(huán)至進(jìn)氣側(cè),EGR氣體與外部空氣混合以供應(yīng)至燃燒室。
具體而言,當(dāng)廢氣再循環(huán)的時(shí)候,燃燒溫度變低以通過再利用未燃燒的燃料從而抑制氮氧化物(NOx)的產(chǎn)生并降低燃料消耗。
常規(guī)的EGR裝置典型地安裝于排氣歧管(燃燒的廢氣從該排氣歧管排出)與進(jìn)氣歧管(該進(jìn)氣歧管引導(dǎo)進(jìn)氣)之間以使經(jīng)過排氣歧管的廢氣的一部分(EGR氣體)再循環(huán)至進(jìn)氣歧管。
進(jìn)一步地,EGR裝置安裝于EGR管路,并包括EGR閥和EGR冷卻器,該EGR閥打開和關(guān)閉EGR管件的通路,該EGR冷卻器冷卻經(jīng)過EGR管路的EGR氣體。
EGR管件連接至EGR冷卻器的兩端,在EGR管件的一側(cè)處形成入口(在該入口處冷卻液進(jìn)入發(fā)動(dòng)機(jī)),在EGR管件的另一側(cè)處形成出口(在該出口處冷卻液排出),從而EGR氣體可以被經(jīng)過EGR冷卻器的冷卻液所冷卻。
在常規(guī)的EGR裝置中,因?yàn)椴坏貌辉龃驟GR冷卻器的容量用于有效地冷卻EGR氣體,所以背壓、重量以及尺寸也必須增大,但是可能限制安裝空間。
公開于背景技術(shù)部分的上述信息僅僅旨在加深對本公開背景技術(shù)的理解,因此其可以包含的信息并不構(gòu)成在本國已為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的現(xiàn)有技術(shù)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種廢氣再循環(huán)(Exhaust Gas Recirculation,EGR)裝置,其沒有增大EGR冷卻器的容量而是預(yù)先冷卻EGR氣體,從而防止背壓增大。
根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方案的廢氣再循環(huán)裝置包括:汽缸蓋,在所述汽缸蓋中形成有EGR通路,所述EGR通路從排氣側(cè)至進(jìn)氣側(cè)再循環(huán)EGR氣體;冷卻液室,其形成于汽缸蓋內(nèi)部并處于EGR通路的周圍,使經(jīng)過EGR通路的EGR氣體冷卻的冷卻液經(jīng)過所述冷卻液室,以及渦流生成器,其設(shè)置于EGR通路的一側(cè)以在經(jīng)過EGR通路的EGR氣體中形成渦流。
所述廢氣再循環(huán)裝置可以進(jìn)一步包括:第一EGR管路,其連接排氣歧管和EGR通路的入口側(cè),所述排氣歧管連接至所述汽缸蓋的排氣側(cè);以及第二EGR管路,其連接EGR通路的出口側(cè)和進(jìn)氣歧管,所述進(jìn)氣歧管連接至汽缸蓋的進(jìn)氣側(cè)。
渦流生成器可以設(shè)置于EGR通路的入口處。
所述廢氣再循環(huán)裝置可以進(jìn)一步包括:EGR閥,其安裝于第二EGR管路的一側(cè)處以控制再循環(huán)的廢氣;以及EGR冷卻器,其安裝于第二EGR管路的另一側(cè)處以冷卻再循環(huán)的廢氣。
所述渦流生成器可以包括:外管件,其緊密地接觸EGR通路的內(nèi)圓周;內(nèi)管件,其與外管件的內(nèi)圓周以預(yù)定間隔設(shè)置;以及渦流生成翼,其形成于內(nèi)管件與外管件之間從而在經(jīng)過的EGR氣體中形成渦流。
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