[發(fā)明專利]用于電阻式晶種襯底電鍍的導(dǎo)電總線條的結(jié)構(gòu)及方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711213472.5 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108122891B | 公開(公告)日: | 2021-03-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | S·艾哈邁德;S·V·德斯潘德;荻野淳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 格芯(美國(guó))集成電路科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L23/58 | 分類號(hào): | H01L23/58 |
| 代理公司: | 北京戈程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11314 | 代理人: | 程偉;王錦陽(yáng) |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 電阻 式晶種 襯底 電鍍 導(dǎo)電 線條 結(jié)構(gòu) 方法 | ||
1.一種制造半導(dǎo)體裝置的方法,該方法包含:
提供半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包含半導(dǎo)體襯底,其上具有多條水平與垂直切割道,該切割道就多個(gè)半導(dǎo)體界定多個(gè)半導(dǎo)體區(qū),該多個(gè)半導(dǎo)體至少有一些位于該多個(gè)半導(dǎo)體區(qū)的至少一些中;以及
在該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)上方形成就該多個(gè)半導(dǎo)體作用為總線條的金屬性結(jié)構(gòu),其中,形成該金屬性結(jié)構(gòu)包含:
沿著該多條水平與垂直切割道的諸對(duì)立側(cè)形成多個(gè)連續(xù)溝槽;以及
金屬化該連續(xù)溝槽而產(chǎn)生金屬化連續(xù)溝槽,使得該金屬化連續(xù)溝槽作用為該總線條。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,更包含在該金屬化之后,制作/印刷該多個(gè)半導(dǎo)體的任何剩余部分。
3.如權(quán)利要求2所述的方法,其中,該制作/印刷包含:
在該金屬化連續(xù)溝槽上方形成保護(hù)層;
就該多個(gè)半導(dǎo)體的該任何剩余部分進(jìn)行圖型化而產(chǎn)生圖型:
移除該保護(hù)層;以及
金屬化該圖型。
4.如權(quán)利要求1所述的方法,其中,形成該金屬性結(jié)構(gòu)包含:
在該多個(gè)半導(dǎo)體區(qū)的轉(zhuǎn)角處形成多個(gè)止裂溝槽;以及
金屬化該多個(gè)止裂溝槽而產(chǎn)生金屬化止裂溝槽,使得該金屬化止裂溝槽電連接在一起。
5.如權(quán)利要求4所述的方法,更包含在金屬化該多個(gè)連續(xù)溝槽及該多個(gè)止裂溝槽之后,制作/印刷該多個(gè)半導(dǎo)體的任何剩余部分。
6.如權(quán)利要求5所述的方法,其中,該制作/印刷包含:
在該金屬化連續(xù)溝槽及該金屬化止裂溝槽上方形成保護(hù)層;
就該多個(gè)半導(dǎo)體的該任何剩余部分進(jìn)行圖型化而產(chǎn)生圖型:
移除該保護(hù)層;以及
金屬化該圖型。
7.一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),包含:
半導(dǎo)體襯底,其上具有多條水平與垂直切割道,該切割道就多個(gè)半導(dǎo)體界定多個(gè)半導(dǎo)體區(qū),其中,該多個(gè)半導(dǎo)體位于該半導(dǎo)體襯底上方及/或該多個(gè)半導(dǎo)體區(qū)中;以及
金屬性結(jié)構(gòu),位在該多個(gè)半導(dǎo)體上方從而作用為總線條,其中,該金屬性結(jié)構(gòu)包含沿著該多條水平與垂直切割道的諸對(duì)立側(cè)的多個(gè)金屬化連續(xù)溝槽。
8.如權(quán)利要求7所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其中,該金屬性結(jié)構(gòu)包含位于該多個(gè)半導(dǎo)體的印刷電路的轉(zhuǎn)角處的多個(gè)電連接金屬化止裂溝槽。
9.一種制造半導(dǎo)體裝置的方法,該方法包含:
提供起始半導(dǎo)體結(jié)構(gòu);
就該起始半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)進(jìn)行FEOL(前段制程)制作而產(chǎn)生已制作半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其中,該已制作半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包含半導(dǎo)體襯底,其上具有多條水平與垂直切割道,該切割道就多個(gè)半導(dǎo)體界定多個(gè)半導(dǎo)體區(qū),該多個(gè)半導(dǎo)體至少有一些位于該多個(gè)半導(dǎo)體區(qū)的至少一些中,其中,該已制作半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包含在該多個(gè)半導(dǎo)體區(qū)的轉(zhuǎn)角處的多個(gè)止裂溝槽;以及
在BEOL(后段制程)形成導(dǎo)電結(jié)構(gòu),該導(dǎo)電結(jié)構(gòu)就該已制作半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)作用為總線條,其中,該形成導(dǎo)電結(jié)構(gòu)包含金屬化該多個(gè)止裂溝槽而產(chǎn)生金屬化止裂溝槽,使得該金屬化止裂溝槽電連接在一起。
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