[發明專利]聲波生成裝置

在審

• 申請號: 201711207566.1
• 申請日: 2017-11-27
• 公開（公告）號: CN108737942A
• 公開（公告）日: 2018-11-02
• 發明（設計）人: 鐘強;趙豪;徐傳毅
• 申請（專利權）人: 納智源科技（唐山）有限責任公司
• 主分類號: H04R19/02
• 分類號: H04R19/02;H04R7/02
• 代理公司: 北京市浩天知識產權代理事務所(普通合伙) 11276
• 代理人: 宋菲;劉云貴

1.一種聲波生成裝置，其特征在于，包括：固定保護殼體、第一電極層、第一振膜、第二振膜和第二電極層；其中，

所述固定保護殼體用于固定和保護所述第一電極層、所述第一振膜、所述第二振膜和所述第二電極層；

所述第一電極層、所述第一振膜、所述第二振膜和所述第二電極層依次設置在所述固定保護殼體中；

所述第一振膜和所述第二振膜的極性相反，且所述第一振膜和所述第二振膜之間的距離符合預設間距范圍；所述第一振膜和所述第二振膜之間產生內電場，并在所述內電場的作用下發生形變而相互靠近接觸；

當所述第一電極層和所述第二電極層上施加有外電壓時，在所述第一電極層和所述第二電極層之間產生外電場，所述外電場能夠迫使所述第一振膜和所述第二振膜克服所述內電場的作用而相互分離，使得所述第一振膜和所述第二振膜產生振動，生成聲波。

2.根據權利要求1所述的聲波生成裝置，其特征在于，當所述外電場的方向與所述內電場的方向相反時，所述外電場能夠迫使所述第一振膜和所述第二振膜克服所述內電場的作用而相互分離；

當所述外電場的方向與所述內電場的方向相同時，所述第一振膜和所述第二振膜在所述外電場的作用下接觸區域增大。

3.根據權利要求1或2所述的聲波生成裝置，其特征在于，所述預設間距范圍為2μm～2000μm。

4.根據權利要求1-3任一項所述的聲波生成裝置，其特征在于，所述第一振膜的厚度為0.5μm～50μm；所述第二振膜的厚度為0.5μm～50μm。

5.根據權利要求1-4任一項所述的聲波生成裝置，其特征在于，所述第一電極層和/或所述第二電極層上設置有第一鏤空結構；所述第一鏤空結構用于將所述第一振膜和所述第二振膜生成的聲波傳播出去。

6.根據權利要求5所述的聲波生成裝置，其特征在于，所述第一鏤空結構為孔狀鏤空結構或條狀鏤空結構。

7.根據權利要求1-6任一項所述的聲波生成裝置，其特征在于，所述固定保護殼體上設置有固定件，所述第一電極層、所述第一振膜、所述第二振膜和所述第二電極層通過所述固定件與所述固定保護殼體固定連接。

8.根據權利要求7所述的聲波生成裝置，其特征在于，所述固定件為插槽結構，所述第一電極層、所述第一振膜、所述第二振膜和所述第二電極層插入至所述插槽結構中與所述固定保護殼體固定連接。

9.根據權利要求1-8任一項所述的聲波生成裝置，其特征在于，所述固定保護殼體上設置有第二鏤空結構；所述第二鏤空結構用于將所述第一振膜和所述第二振膜生成的聲波傳播出去。

10.根據權利要求9所述的聲波生成裝置，其特征在于，所述第二鏤空結構為孔狀鏤空結構或條狀鏤空結構。

11.根據權利要求1-10任一項所述的聲波生成裝置，其特征在于，所述聲波生成裝置還包括：電壓供給模塊；所述電壓供給模塊分別與所述第一電極層和所述第二電極層相連，用于為所述第一電極層和所述第二電極層提供所述外電壓。

12.根據權利要求11所述的聲波生成裝置，其特征在于，所述聲波生成裝置還包括：控制模塊；所述控制模塊與所述電壓供給模塊相連，用于控制所述電壓供給模塊的閉合或斷開狀態，以及對所述電壓供給模塊提供的外電壓的大小和/或頻率進行調節。

13.根據權利要求1所述的聲波生成裝置，其特征在于，所述聲波生成裝置還包括：第一管腳和第二管腳；其中，

所述第一管腳的一端穿過所述固定保護殼體與所述第一電極層相連，所述第一管腳的另一端伸出所述固定保護殼體的外部；

所述第二管腳的一端穿過所述固定保護殼體與所述第二電極層相連，所述第二管腳的另一端伸出所述固定保護殼體的外部。