[發(fā)明專利]雷射噴頭的導(dǎo)正構(gòu)造在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711205170.3 | 申請日: | 2017-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN109865950A | 公開(公告)日: | 2019-06-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 方菘嶺 | 申請(專利權(quán))人: | 方菘嶺 |
| 主分類號: | B23K26/70 | 分類號: | B23K26/70;B23K26/38 |
| 代理公司: | 廈門市新華專利商標(biāo)代理有限公司 35203 | 代理人: | 朱凌 |
| 地址: | 中國臺灣臺南*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 抵止 噴頭 底座 承載面 螺接部 插入口 螺孔中 導(dǎo)正 雷射 螺孔 鄰接 螺接 相抵 穩(wěn)固 延伸 | ||
本發(fā)明為一種雷射噴頭的導(dǎo)正構(gòu)造,包括:一底座,有一螺孔,該螺孔有一插入口,該底座有一第一抵止斜面位于該螺孔中并鄰接該插入口;一噴頭,有一承載面,以及有一螺接部自該承載面延伸,在該承載面及該螺接部之間有一第二抵止斜面;該噴頭以該螺接部螺接在該底座的螺孔中,并使該第二抵止斜面抵止在該第一抵止斜面上。通過該第一抵止斜面與該第二抵止斜面相抵接,使該噴頭可以穩(wěn)固的結(jié)合在該底座上。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及雷射噴頭技術(shù)領(lǐng)域,特別是指一種雷射噴頭的導(dǎo)正構(gòu)造。
背景技術(shù)
參閱圖6所示,習(xí)知雷射噴頭的組裝方式是由一底座A提供一第一螺接部A1,由一噴頭B提供一第二螺接部B1,并通過該第一螺接部A1與該第二螺接部B1相螺接,使該噴頭B結(jié)合在該底座A上。
參閱圖7所示,習(xí)知雷射噴頭有以下缺失:
1、由于機(jī)械加工的容許誤差,當(dāng)該第一螺接部A1與該第二螺接部B1相螺合時,可能在相鄰接的齒部之間形成一間隙D,此間隙D可能造成雷射加工時,該噴頭B的些微震動,影響加工件的精度。
2、雷射加工通常會產(chǎn)生高溫,習(xí)知噴頭有散熱不佳的缺失。
3、加工時,切割完成的加工件可能因掉落位置不佳而阻礙該雷射噴頭的位移,使得雷射噴頭碰撞該加工件,造成設(shè)備損壞。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種噴頭與底座可穩(wěn)固結(jié)合的雷射噴頭的導(dǎo)正構(gòu)造。
基于此,本發(fā)明主要采用下列技術(shù)手段,來實(shí)現(xiàn)上述目的。
一種雷射噴頭的導(dǎo)正構(gòu)造,包括:一底座,有一螺孔,該螺孔有一插入口,該底座有一第一抵止斜面位于該螺孔中并鄰接該插入口;一噴頭,有一承載面,以及有一螺接部自該承載面延伸,在該承載面及該螺接部之間有一第二抵止斜面;該噴頭以該螺接部螺接在該底座的螺孔中,并使該第二抵止斜面抵止在該第一抵止斜面上。
進(jìn)一步,該第一抵止斜面及該第二抵止斜面的傾斜角度介于30度至60度之間。
進(jìn)一步,該第一抵止斜面及該第二抵止斜面的傾斜角度為45度。
進(jìn)一步,該底座上有多個散熱鰭片。
進(jìn)一步,相鄰散熱鰭片的間距介于1.5厘米至2.5厘米之間。
進(jìn)一步,相鄰散熱鰭片的間距為2厘米。
進(jìn)一步,在該底座上有一環(huán)型的凹溝。
進(jìn)一步,該凹溝的深度介于2厘米至4厘米之間。
進(jìn)一步,該凹溝的深度為2.5厘米。
采用上述技術(shù)手段后,本發(fā)明雷射噴頭的導(dǎo)正構(gòu)造通過噴頭與底座之間利用斜面相抵接,使得噴頭與底座可穩(wěn)固結(jié)合,具體而言,可達(dá)成以下功效:
1、解決該噴頭與該底座之間因?yàn)樵撀萁硬颗c該螺孔螺合時產(chǎn)生的間隙,造成噴頭結(jié)合的不穩(wěn)固,因而降低加工精度的問題。
2、該底座的第一抵止斜面與該噴頭的第二抵止斜面采用傾斜45度的抵接,可以使該噴頭更加穩(wěn)固的結(jié)合在該底座上。
3、該噴頭因?yàn)槔咨浼庸さ睦咨渌a(chǎn)生的高溫可利用該散熱鰭片快速的散熱。
4、該底座上的凹溝可以在加工件阻擋在該噴頭的動作路徑時,使該底座的一部分與該噴頭折斷掉落,使用者只要更換底座及噴頭即可再次加工,避免雷射噴頭的基座因?yàn)榕鲎布庸ぜ鴵p壞,造成更大的損失。
附圖說明
圖1為本發(fā)明的立體分解圖。
圖2為本發(fā)明的立體組合圖。
圖3為圖2的剖視圖。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于方菘嶺,未經(jīng)方菘嶺許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711205170.3/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種鋁合金表面疏水處理工藝
- 下一篇:激光焊送絲裝置





