[發明專利]雷射噴頭的導正構造在審
| 申請號： | 201711205170.3 | 申請日： | 2017-11-27 |
| 公開（公告）號： | CN109865950A | 公開（公告）日： | 2019-06-11 |
| 發明（設計）人： | 方菘嶺 | 申請（專利權）人： | 方菘嶺 |
| 主分類號： | B23K26/70 | 分類號： | B23K26/70;B23K26/38 |
| 代理公司： | 廈門市新華專利商標代理有限公司 35203 | 代理人： | 朱凌 |
| 地址： | 中國臺灣臺南*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 抵止 噴頭 底座 承載面 螺接部 插入口 螺孔中 導正 雷射 螺孔 鄰接 螺接 相抵 穩固 延伸 | ||
【權利要求書】：
1.一種雷射噴頭的導正構造，其特征在于，包括：
一底座，有一螺孔，該螺孔有一插入口，該底座有一第一抵止斜面位于該螺孔中并鄰接該插入口；
一噴頭，有一承載面，以及有一螺接部自該承載面延伸，在該承載面及該螺接部之間有一第二抵止斜面；
該噴頭以該螺接部螺接在該底座的螺孔中，并使該第二抵止斜面抵止在該第一抵止斜面上。
2.如權利要求1所述的雷射噴頭的導正構造，其特征在于：該第一抵止斜面及該第二抵止斜面的傾斜角度介于30度至60度之間。
3.如權利要求2所述的雷射噴頭的導正構造，其特征在于：該第一抵止斜面及該第二抵止斜面的傾斜角度為45度。
4.如權利要求1所述的雷射噴頭的導正構造，其特征在于：該底座上有多個散熱鰭片。
5.如權利要求4所述的雷射噴頭的導正構造，其特征在于：相鄰散熱鰭片的間距介于1.5厘米至2.5厘米之間。
6.如權利要求5所述的雷射噴頭的導正構造，其特征在于：相鄰散熱鰭片的間距為2厘米。
7.如權利要求1所述的雷射噴頭的導正構造，其特征在于：在該底座上有一環型的凹溝。
8.如權利要求7所述的雷射噴頭的導正構造，其特征在于：該凹溝的深度介于2厘米至4厘米之間。
9.如權利要求8所述的雷射噴頭的導正構造，其特征在于：該凹溝的深度為2.5厘米。
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