[發(fā)明專利]電子書畫臨摹學(xué)習(xí)系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711201270.9
• 申請(qǐng)日: 2017-11-27
• 公開（公告）號(hào): CN107742445A
• 公開（公告）日: 2018-02-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱超華
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 朱超華
• 主分類號(hào): G09B5/02
• 分類號(hào): G09B5/02;G09B11/00
• 代理公司: 廣州市南鋒專利事務(wù)所有限公司44228
• 代理人: 劉媖,王允輝

1.一種電子書畫臨摹學(xué)習(xí)系統(tǒng)，其特征在于：包括臨摹臺(tái)、顯示器、處理器，顯示器水平鑲嵌在臨摹臺(tái)上且與臨摹臺(tái)的臺(tái)面平齊，顯示器與處理器電連接，使用時(shí)，顯示器上鋪有畫紙；

還包括安裝在處理器中的軟件，所述軟件包括：

●書畫臨摹范本存貯模塊，用以將書畫臨摹范本存貯到處理器的存儲(chǔ)單元中；

●書畫臨摹范本顯示模塊，用以將處理器的存儲(chǔ)單元中被臨摹的書畫臨摹范本輸出到顯示器進(jìn)行顯示；

●臨摹范本區(qū)域分隔模塊，用以在顯示器上顯示的被臨摹的書畫臨摹范本的外圍顯示一個(gè)方格，并將方格分隔成多個(gè)臨摹范本區(qū)域；

●區(qū)域內(nèi)容隱藏控制模塊，對(duì)臨摹范本區(qū)域分隔模塊所分隔的臨摹范本區(qū)域進(jìn)行單區(qū)域內(nèi)容隱藏、雙區(qū)域內(nèi)容隱藏、多區(qū)域內(nèi)容隱藏或者全區(qū)域內(nèi)容隱藏。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子書畫臨摹學(xué)習(xí)系統(tǒng)，其特征在于：還包括立柱和攝像頭，所述攝像頭與處理器電連接，立柱設(shè)在臨摹臺(tái)上，攝像頭設(shè)在立柱。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子書畫臨摹學(xué)習(xí)系統(tǒng)，其特征在于：所述臨摹臺(tái)的側(cè)壁上設(shè)有顯示器電源開關(guān)和處理器電源開關(guān)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子書畫臨摹學(xué)習(xí)系統(tǒng)，其特征在于：還包括操作鍵盤，操作鍵盤和顯示器與處理器電連接，所述操作鍵盤與臨摹臺(tái)側(cè)壁鉸接，不使用時(shí)，操作鍵盤緊貼臨摹臺(tái)側(cè)壁，使用時(shí)，將操作鍵盤向上翻起呈水平狀態(tài)。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電子書畫臨摹學(xué)習(xí)系統(tǒng)，其特征在于：還包括學(xué)習(xí)者書寫書畫采集模塊和臨摹對(duì)比模塊，所述的學(xué)習(xí)者書寫書畫采集模塊，通過攝像頭采集學(xué)習(xí)者用毛筆書寫的書畫，并將書畫信息暫存到處理器的內(nèi)存中；所述的臨摹對(duì)比模塊，用以將學(xué)習(xí)者書寫書畫與被臨摹的書畫臨摹范本進(jìn)行對(duì)比，得到分值形式的量化評(píng)判結(jié)果。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電子書畫臨摹學(xué)習(xí)系統(tǒng)，其特征在于：所述的區(qū)域內(nèi)容隱藏控制模塊，依據(jù)臨摹對(duì)比模塊得到的量化評(píng)判結(jié)果，對(duì)臨摹范本區(qū)域分隔模塊所分隔的臨摹范本區(qū)域按先后順序逐級(jí)進(jìn)行單區(qū)域內(nèi)容隱藏、雙區(qū)域內(nèi)容隱藏、多區(qū)域內(nèi)容隱藏和全區(qū)域內(nèi)容隱藏。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子書畫臨摹學(xué)習(xí)系統(tǒng)，其特征在于：所述臨摹范本區(qū)域分隔模塊，對(duì)方格以米字形分隔成8個(gè)臨摹范本區(qū)域，或者以十字形將方格分隔成4個(gè)臨摹范本區(qū)域。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子書畫臨摹學(xué)習(xí)系統(tǒng)，其特征在于：所述臨摹臺(tái)設(shè)在支架上。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子書畫臨摹學(xué)習(xí)系統(tǒng)，其特征在于：所述顯示器采用觸摸屏式顯示器。