[發明專利]一種耐高低溫紅外光學窗口片的制造方法

在審

• 申請號: 201711200976.3
• 申請日: 2017-11-27
• 公開（公告）號: CN109839677A
• 公開（公告）日: 2019-06-04
• 發明（設計）人: 韓崇利
• 申請（專利權）人: 成都中源紅科技有限公司
• 主分類號: G02B1/111
• 分類號: G02B1/111;G02B1/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種耐高低溫紅外光學窗口片的制造方法，包括：基板、增透膜、耐高溫膜和隔層；所述基板兩側分別沉積有增透膜，增透膜設置有4層，每層厚度為30-40nm，增透膜為HfON膜，其材料為乙烯基倍半硅氧烷；在所述基板處于常溫的一側還沉積有耐高溫膜，耐高溫膜有2層每層厚度為35-50nm，耐高溫膜材料為氣態硅氧烷；所述耐高溫膜、增透膜與基板的外側周邊上包繞有隔層，所述隔層為錫箔紙；其特征在于，包括如下步驟：(1)清洗預處理：用去污劑清洗錫箔紙去油后用清水清洗，然后用酒精清洗并晾干；之后清洗基板，將基板放置在酒精中超聲波清洗10min，然后用去離子水反復沖洗后吹干；(2)將基片放置在PECVD設備射頻陰極極板上，并將真空室真空抽至3×10^-3Pa，接著向射頻源充入氬氣，同時射頻源放電將氬氣離子化形成氬離子，氬離子對準基片進行7-15min轟擊；(3)向真空室內充滿乙烯基倍半硅氧烷，即在基片表面沉積形成增透膜；(4)將工件溫度緩慢降至室溫，降溫速率為50-70℃/h；(5)重復步驟(2)后向真空室內充滿硅氧烷，即在基片表面沉積形成耐高低溫膜；(6)將工件溫度緩慢降至室溫，降溫速率為50-60℃/h；(7)將鍍膜冷卻后的基片側周邊均勻涂抹固體膠，然后將第一層錫箔紙粘于基板、增透膜、耐高溫膜上，然后在粘好的錫箔紙表面再次均勻涂抹固體膠，將第二層錫箔紙粘于第一次的錫箔紙上，然后風干固化1-1.5天形成隔層，即得。

2.根據權利要求1所述的一種耐高低溫紅外光學窗口片的制造方法，其特征在于，所述步驟(2)和步驟(5)中所述基片離射頻源190mm，丁烷充入的流量為50sccm。