[發明專利]用于調整模板的位置的系統和方法

有效

• 申請號: 201711200016.7
• 申請日: 2017-11-27
• 公開（公告）號: CN108121171B
• 公開（公告）日: 2021-02-19
• 發明（設計）人: 崔炳鎮;水野誠
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/00
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 楊小明

本發明涉及用于調整模板的位置的系統和方法。用于調整模板的相對位置的方法、系統和裝置包括：確定第一模板的有效區域的相鄰區域的表面的第一多個位置點，所述相鄰區域的表面和有效區域的表面形成第一模板的連續表面；基于第一多個位置點識別第一模板的所述相鄰區域的表面的平面；確定第二模板的有效區域的表面的第二多個位置點，第二模板的有效區域從第二模板的表面突出；基于第二多個位置點識別第二模板的有效區域的表面的平面；和基于識別的平面，調整第一模板和第二模板的相對位置。

背景技術

納米制造包括制造非常小的結構，所述非常小的結構具有100納米或更小的量級的特征。納米制造具有相當大影響的一個應用是集成電路的處理。半導體加工業繼續致力于實現更大的產量，同時增加在基板上形成的每單位面積的電路，因此納米制造變得越來越重要。納米制造提供更佳的工藝控制，同時允許不斷減小所形成的結構的最小特征尺寸。已經采用納米制造的其他開發領域包括生物技術、光學技術和機械系統等。

發明內容

在本說明書中描述的主題的創新方面可以體現在包括調整第一壓印光刻模板和第二壓印光刻模板的相對位置的動作的方法，該方法包括：確定第一模板的有效區域的相鄰區域的表面的第一多個位置點，所述相鄰區域的表面和有效區域的表面形成第一模板的連續表面；基于第一多個位置點識別第一模板的所述相鄰區域的表面的平面；確定第二模板的有效區域的表面的第二多個位置點，第二模板的有效區域從第二模板的表面突出；基于第二多個位置點識別第二模板的有效區域的表面的平面；以及基于第一模板的所述相鄰區域的表面的平面和第二模板的有效區域的表面的平面，調整第一模板和第二模板的相對位置。

這些方面的其它實施例包括相應的系統并且被配置為執行所述方法的動作。

這些和其它實施例可分別任選地包括以下特征中的一個或更多個。例如，比較第一模板的所述相鄰區域的表面的平面與第二模板的有效區域的表面的平面；以及，基于所述比較，評估第一模板的所述相鄰區域的表面的平面與第二模板的有效區域的表面的平面之間的調平誤差(leveling error)，其中基于調平誤差調整第一模板與第二模板的相對位置。第一模板和第二模板的相對位置被調整，以補償調平誤差。調整第一模板和第二模板的相對位置包含調整第一模板的所述相鄰區域的表面的平面與第二模板的有效區域的表面的平面之間的相對角度。第一模板的所述相鄰區域包圍第一模板的有效區域。第一模板的有效區域包含一個或更多個構圖特征。第二模板的有效區域基本上是平坦的。第一多個位置點和第二多個位置點被同時確定。

在本說明書中描述的主題的創新方面可以體現在用于調整第一壓印光刻模板和第二壓印光刻模板的相對位置的系統，所述系統包括：第一模板保持器，被配置為保持第一模板，第一模板包含有效區域和有效區域的相鄰區域，其中，所述相鄰區域的表面和有效區域的表面形成第一模板的連續表面；第二模板保持器，被配置為保持第二模板，第二模板包含有效區域，第二模板的有效區域從第二模板的表面突出；第一感測設備，被配置為確定第一模板的所述相鄰區域的表面的第一多個位置點；第二感測設備，被配置為確定第二模板的有效區域的表面的第二多個位置點；致動器系統，被配置為調整第一模板和第二模板的相對位置；以及，處理設備，被配置為i)基于第一多個位置點識別第一模板的所述相鄰區域的表面的平面、ii)基于第二多個位置點識別第二模板的有效區域的表面的平面、以及iii)向致動器系統提供信號使得致動器系統基于第一模板的所述相鄰區域的表面的平面和第二模板的有效區域的表面的平面調整第一模板和第二模板的相對位置。

這些方面的其它實施例包括由所述系統執行的相應的方法。

在本說明書中描述的主題的特定實施例可以被實施，以實現以下優點中的一個或更多個。本公開的實施例使得最小化(如果沒有防止)i)復制品模板的圖像放置誤差、ii)位于復制品模板上的材料的不均勻的流體擴散、以及iii)超出復制品模板上的期望區域的流體擠出。

在附圖和下面的描述中闡述了在本說明書中描述的主題的一個或多個實施例的細節。根據說明書、附圖和權利要求，所述主題的其它潛在特征、方面和優點將變得清晰。

附圖說明