[發(fā)明專利]一種基于納米二氧化硅的顯示屏玻璃基板用蝕刻液

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• 申請日: 2017-11-24
• 公開（公告）號: CN107935400A
• 公開（公告）日: 2018-04-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 章鋒;趙麗;馬勇
• 申請（專利權(quán)）人: 無錫南理工新能源電動車科技發(fā)展有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00;C23F1/14
• 代理公司: 北京卓特專利代理事務(wù)所(普通合伙)11572
• 代理人: 段宇

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種基于納米二氧化硅的顯示屏玻璃基板用蝕刻液。

背景技術(shù)

目前在制作顯示屏玻璃基板的過程中，顯示屏玻璃基板品質(zhì)的好壞，品質(zhì)問題的發(fā)現(xiàn)及解決，制程改進的評估都需要通過金相切片來對其客觀檢查和判斷。金相切片制作的好壞直接影響到電路板的質(zhì)量評估。傳統(tǒng)的金相切片過程包括，用銑的方式進行取樣；采用樹脂鑲嵌法對樣品進行封膠；對樣品進行研磨；對樣品進行拋光；對樣品進行微蝕刻。其中，微蝕刻液的配方為質(zhì)量百分比為50％的雙氧水2～3滴、25％～28％的氨水8ml，去離子水(Deionizedwater，簡稱DI水)8ml。其缺點在于，該微蝕刻液中的氨水易揮發(fā)且有刺激性氣味，因此不利于操作，配置后使用的時間短，只能維持0.5小時左右，從而給金相切片的工藝帶來了不便。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明目的是針對現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷提供一種基于納米二氧化硅的顯示屏玻璃基板用蝕刻液。

本發(fā)明為實現(xiàn)上述目的，采用如下技術(shù)方案：一種基于納米二氧化硅的顯示屏玻璃基板用蝕刻液，包括以下重量百分比的組合物：

納米二氧化硅 1.5％～2.5％；

硫酸鎂 1.2％～1.6％；

氟硼酸鈉 0.5％～1.6％；

硅酸鈉 2.5％～3.3％；

非質(zhì)子性溶劑 1.5％～2.3％；

穩(wěn)定劑 0.5％～1.5％；

消泡劑 3.5％～5.6％；

其余為蒸餾水。

進一步的，包括以下重量百分比的組合物：

納米二氧化硅 1.5％；

硫酸鎂 1.2％；

氟硼酸鈉 0.5％；

硅酸鈉 2.5％；

非質(zhì)子性溶劑 1.5％；

穩(wěn)定劑 0.5％；

消泡劑 3.5％；

其余為蒸餾水。

進一步的，包括以下重量百分比的組合物：

納米二氧化硅 2％；

硫酸鎂 1.4％；

氟硼酸鈉 1.1％；

硅酸鈉 2.8％；

非質(zhì)子性溶劑 1.9％；

穩(wěn)定劑 0.9％；

消泡劑 4.6％；

其余為蒸餾水。

進一步的，包括以下重量百分比的組合物：

納米二氧化硅 2.5％；

硫酸鎂 1.6％；

氟硼酸鈉 1.6％；

硅酸鈉 3.3％；

非質(zhì)子性溶劑 2.3％；

穩(wěn)定劑 1.5％；

消泡劑 5.6％；

其余為蒸餾水。

進一步的，所述氟硼酸鈉的濃度大于97.5％(重量百分比)，所述硅酸鈉的濃度大于89％(重量百分比)。

進一步的，所述非質(zhì)子性溶劑為司盤類非質(zhì)子性溶劑。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明通過在原有工藝的基礎(chǔ)上新加入了納米二氧化硅，不僅能夠在不發(fā)生抗蝕涂層滲透的情況下進行蝕刻，顯著提高鉻金屬膜的蝕刻速度，具有蝕刻速度可控性，有效抑制抗蝕保護層的劣化，得到表面平坦光滑的鉻金屬膜配線，具有重要的應(yīng)用價值；而且能有效降低蝕刻液的表面張力，不僅能夠產(chǎn)生滲透，浸潤的作用，而且能夠蝕刻銦錫氧化物半導(dǎo)體透明導(dǎo)電膜速率適中，反應(yīng)穩(wěn)定，使其在不影響產(chǎn)品質(zhì)量的前提下提高產(chǎn)品的蝕刻效果，并使產(chǎn)品能在較低的環(huán)境溫度下保存，避免了原有技術(shù)造成的蝕刻不干凈，不能在低溫下儲存的缺點，本方法能適用于大規(guī)模生產(chǎn)。

具體實施方式

本發(fā)明涉及一種基于納米二氧化硅的顯示屏玻璃基板用蝕刻液，包括以下重量百分比的組合物：納米二氧化硅 1.5％～2.5％；硫酸鎂 1.2％～1.6％；氟硼酸鈉 0.5％～1.6％；硅酸鈉 2.5％～3.3％；非質(zhì)子性溶劑 1.5％～2.3％；穩(wěn)定劑 0.5％～1.5％；消泡劑 3.5％～5.6％；其余為蒸餾水。

實施例1

上述顯示屏玻璃基板用蝕刻液的制備方法，包括如下步驟：

第一步：將弱酸性陽離子交換樹脂加入到重量百分比為2.5％硅酸鈉中，攪拌混合，攪拌的速度為50轉(zhuǎn)/分鐘，攪拌時間為5分鐘，攪拌溫度為10℃，然后濾出弱酸性陽離子交換樹脂，控制或去除硅酸鈉中的雜質(zhì)離子；

第二步：將重量百分比為1.5％的納米二氧化硅和三分之一的蒸餾水到入反應(yīng)釜中，在常溫、常壓下充分攪拌，攪拌時間為10分鐘，攪拌速度為60轉(zhuǎn)/分鐘，攪拌溫度為14℃；