[發明專利]一種檢測光學鍍膜厚度的反射式光學監控方法

有效

• 申請號: 201711184077.9
• 申請日: 2017-11-23
• 公開（公告）號: CN107916410B
• 公開（公告）日: 2019-11-05
• 發明（設計）人: 吳志涵;陸春媚
• 申請（專利權）人: 湖北東田光電材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54
• 代理公司: 重慶中之信知識產權代理事務所(普通合伙) 50213
• 代理人: 張景根

本發明公布了一種檢測光學鍍膜厚度的反射式光學監控方法，采用反射式光控控制的鍍膜機進行光學鍍膜，所采用的鍍膜機內嵌有檢測、控制鍍膜厚度的控制模塊和用于向所述控制模塊內輸入運行參數的輸入端口，所述運行參數按以下規則輸入：如果peak<1；輸入設備參數是：start，Stop Point；如果peak＝整數；輸入設備參數是：start，peak；如果peak>1and單數；輸入設備參數是：start，peak，ratio1；如果peak>1and雙數；輸入設備參數是：start，peak，ratio2；上述peak為光控光量曲線的波峰數，start為開始光量，Stop Point為鍍膜厚度到達的點，ratio1和ratio2為光控入機數據用的比值。本方法可以得到較高精度的鍍膜厚度。

技術領域

本發明屬于光學鍍膜厚度檢測技術領域，尤其涉及一種檢測光學鍍膜厚度的光學監控方法。

背景技術

光學鍍膜技術廣泛應用于各行各業中，從精密光學設備、顯示器設備到日常生活中的光學薄膜應用，比方說，平時戴的眼鏡、數碼相機、各式家電用品，或者是鈔票上的防偽技術，皆能被稱之為光學薄膜技術應用或者其技術上的延伸。倘若沒有光學薄膜技術作為發展基礎，近代光電、通訊或是激光技術將無法進展，這顯示出光學薄膜技術研究發展重要性。

一般來說，要使用多層薄膜時，必須根據設計者需求，借用高低折射率薄膜堆棧技術，做為各類型光學薄膜設計之用，才能達到事先預期后評估的光學特性。比方說：抗反射鏡、高反射鏡、分光鏡、截止濾光鏡、帶通濾光鏡、帶止濾光鏡等；而在計算機分析軟、硬件發展健全的今日，不僅使光學薄膜在設計上變得更為便捷，且光學薄膜技術研究發展也將更為快速。而要得到預期的薄膜效果，就要對薄膜的厚度進行控制、檢測，目前主流的檢測方法有兩種：光學監控(目視法、反射式、透過式)和物理監控(石英晶體監控)，其中，目前的光學監控方法主要采用反射式光控控制的鍍膜機，其相關檢測監控原理如圖1所示，利用在光學玻璃材料上鍍上一層介質薄膜的過程中，介質薄膜與光學玻璃之間的光學特征(反射率和透過率)都會發生變化，通過這種變化，從理論上任意膜厚都可以找到光學特征與之對應。把光學特征的光的變化變為光信號的變化。在使用時需要向鍍膜機內輸入用于檢測并反饋控制鍍膜厚度是否精確的參數，以此來保證鍍膜機鍍膜厚度的準確性，在使用時，需要向反射式光控控制的鍍膜機輸入相關參數，目前，各個廠家輸入的參數類型有多種，start為開始光量，Stop Point為鍍膜厚度到達的點，ratio1和ratio2為光控入機數據用的比值，這些參數都基于現有的鍍膜機內的程序模塊(控制模塊)進行的條件性運算，即將各自的相關參數輸入到鍍膜機原有的程序模塊中運行，并配有專門的輸入端口將上述參數中的一個或多個輸入現有的程序模塊，其內部運算程序較為復雜，各個廠商的設備存在一定差距，但都需要輸入上述參數中的一個或幾個，現有的控制程序將根據輸入的參數個數與類型進行相應的自動運算，并啟動相應控制程序控制執行元件運行。目前最大的問題是在使用時所輸入的相應參數都是統一的一個或者幾個參數，這些參數都是廠商提供的整齊劃一的參數，是廠商自己擬定的一種推薦性參數標準，只是一種概念上的未做區分的條件參數輸入，導致加工不同產品時，整個設備鍍出的膜厚度精度不盡人意，有的由于適合輸入的參數精度而鍍膜精度高，而有的由于輸入的參數不合理，鍍膜精度較低，亟待改進。

發明內容

本發明的目的在于解決上述技術問題，提供一種檢測光學鍍膜厚度的反射式光學監控方法，

本發明的技術方案如下：

一種檢測光學鍍膜厚度的反射式光學監控方法，采用反射式光控控制的鍍膜機進行光學鍍膜，所采用的鍍膜機內嵌有檢測、控制鍍膜厚度的控制模塊和用于向所述控制模塊內輸入運行參數的輸入端口，所述運行參數按以下規則輸入：

如果peak<1；

輸入設備參數是：start，Stop Point；

如果peak＝整數；

輸入設備參數是：start，peak；