[發明專利]一種檢測光學鍍膜厚度的反射式光學監控方法

有效

• 申請號: 201711184077.9
• 申請日: 2017-11-23
• 公開（公告）號: CN107916410B
• 公開（公告）日: 2019-11-05
• 發明（設計）人: 吳志涵;陸春媚
• 申請（專利權）人: 湖北東田光電材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54
• 代理公司: 重慶中之信知識產權代理事務所(普通合伙) 50213
• 代理人: 張景根

1.一種檢測光學鍍膜厚度的反射式光學監控方法，采用反射式光控控制的鍍膜機進行光學鍍膜，所采用的鍍膜機內嵌有檢測、控制鍍膜厚度的控制模塊和用于向所述控制模塊內輸入運行參數的輸入端口，其特征在于，所述運行參數按以下規則輸入：

如果peak<1；

輸入設備參數是：start，Stop Point；

如果peak＝整數；

輸入設備參數是：start，peak；

如果peak>1and單數；

輸入設備參數是：start，peak，ratio1；

如果peak>1and雙數；

輸入設備參數是：start，peak，ratio2；

上述peak為光控光量曲線的波峰數，start為開始光量，Stop Point為鍍膜厚度到達的點，ratio1和ratio2為光控入機數據用的比值；所述peak＝integer(ND*4/(λ*C2))，ND為鍍膜的光學厚度且ND＝Nf*d，Nf為鍍膜材料折射率，λ為監控鍍膜厚度時所用光的波長；C2為鍍膜機鍍出一個1/4倍λ的監控波長的厚度與鍍出來的實際厚度的比值，d為鍍膜厚度的變化量；所述Stop Point＝((Rd-R0)/((2+C)*R0))*start*0.01+start*0.01，Rd和R0分別指鍍膜變化量為d時的監控片的反射率和開始鍍膜時監控片的反射率；ratio1＝[(StopPoint-extremal point1)*100/(extremal point1-extremal point2)]；ratio2＝[(StopPoint*-extremal point2)*100/(extremal point2-extremal point1)]；extremalpoint1為鍍制過程中光控光量剛好到1個peak時產生的第一個極值點，extremal point2為光控光量剛好到2個peak時產生的第二個極值點。