[發明專利]一種含高空間位阻基團修飾的Pd-NHC配合物及用途有效
| 申請號： | 201711179432.3 | 申請日： | 2017-11-23 |
| 公開（公告）號： | CN108690086B | 公開（公告）日： | 2021-03-23 |
| 發明（設計）人： | 劉桂艷;韓方外;劉成鑫;徐穎 | 申請（專利權）人： | 天津師范大學 |
| 主分類號： | C07F15/00 | 分類號： | C07F15/00;B01J31/22;C07C1/32;C07C15/14 |
| 代理公司： | 天津市杰盈專利代理有限公司 12207 | 代理人： | 朱紅星 |
| 地址： | 300387 *** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 高空 間位 基團 修飾 pd nhc 配合 用途 | ||
【權利要求書】：
1.含高空間位阻基團修飾的Pd-NHC配合物具有如下結構式：
。
2.權利要求1所述含高空間位阻基團修飾的Pd-NHC配合物作為催化劑，在氯代芳烴和芳基硼酸的Suzuki-Miyaura偶聯反應中的應用。
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