[發明專利]用于沉積的掩模、制造掩模的方法及制造顯示裝置的方法

有效

• 申請號: 201711170669.5
• 申請日: 2017-11-22
• 公開（公告）號: CN108103437B
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發明（設計）人: 金楨國;文敏浩;文英慜
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;H01L51/56
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204
• 代理人: 王達佐;劉錚

1.用于沉積的掩模，所述掩模能夠通過在第一方向上施加到所述掩模的相對端的張力而聯接到框架，所述掩模包括：

第一肋部，具有第一厚度；以及

圖案部，包括：

多個圖案孔，沉積材料能夠傳輸經過所述多個圖案孔，以及

至少一個蝕刻部，所述至少一個蝕刻部具有小于所述第一厚度的第二厚度并且連接在所述多個圖案孔中的一部分之間，

其中，所述至少一個蝕刻部包括：

第一蝕刻部，沿著所述第一方向延伸；以及

第二蝕刻部，沿著與所述第一方向交叉的第二方向延伸。

2.根據權利要求1所述的掩模，其中，所述圖案部還包括至少一個圖案凹部，所述至少一個圖案凹部具有小于所述第二厚度的第三厚度。

3.根據權利要求2所述的掩模，其中：

所述至少一個圖案凹部包括多個圖案凹部，以及

所述多個圖案凹部以菱形形狀設置。

4.根據權利要求2所述的掩模，其中：

所述至少一個圖案凹部包括多個圖案凹部，以及

所述多個圖案孔中的每個圖案孔位于所述多個圖案凹部之中的相鄰圖案凹部之間。

5.根據權利要求1所述的掩模，其中，所述多個圖案孔中的一部分以菱形形狀設置。

6.根據權利要求1所述的掩模，其中，所述第一蝕刻部與所述第二蝕刻部交叉。

7.根據權利要求1所述的掩模，其中，所述圖案部具有等于或小于所述第一厚度的厚度。

8.根據權利要求1所述的掩模，其中，所述圖案部包括位于除了所述多個圖案孔和所述至少一個蝕刻部之外的區域中的第二肋部，所述第二肋部具有比所述至少一個蝕刻部的所述第二厚度大的厚度。

9.用于沉積的掩模，所述掩模能夠通過在第一方向上施加到所述掩模的相對端的張力而聯接到框架，所述掩模包括：

第一肋部，具有第一厚度；以及

圖案部，包括：

多個圖案孔，沉積材料能夠傳輸經過所述多個圖案孔，以及

至少一個蝕刻部，所述至少一個蝕刻部具有小于所述第一厚度的第二厚度并且連接在所述多個圖案孔中的一部分之間，

其中，所述至少一個蝕刻部具有沿著所述第一方向或與所述第一方向交叉的第二方向延伸的之字形形狀。

10.根據權利要求9所述的掩模，其中，所述多個圖案孔設置在所述之字形形狀的頂點處。

11.根據權利要求9所述的掩模，其中：

所述至少一個蝕刻部包括多個蝕刻部，以及

所述多個蝕刻部在所述第一方向上彼此間隔開。

12.根據權利要求9所述的掩模，其中：

所述至少一個蝕刻部包括沿著所述第一方向延伸的多個蝕刻部，以及

所述多個蝕刻部在與所述第一方向交叉的第二方向上彼此間隔開。

13.制造用于沉積的掩模的方法，所述掩模包括第一肋部和圖案部，所述掩模能夠通過在第一方向上施加到所述掩模的相對端的張力而聯接到框架，所述方法包括：

使第一激光束照射所述圖案部的一部分并形成被所述第一激光束蝕刻的至少一個蝕刻部；以及

使第二激光束照射所述至少一個蝕刻部的一部分并形成多個圖案孔，沉積材料能夠傳輸經過所述多個圖案孔，

其中，使所述第一激光束在所述第一方向和與所述第一方向交叉的第二方向上照射，使得所述至少一個蝕刻部包括第一蝕刻部和第二蝕刻部，所述第一蝕刻部在所述第一方向上延伸，并且所述第二蝕刻部在與所述第一方向交叉的所述第二方向上延伸。