[發(fā)明專利]運用載具采逐片連續(xù)生產(chǎn)的化學沉積方法及設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711169294.0
• 申請日: 2017-11-15
• 公開（公告）號: CN109778151B
• 公開（公告）日: 2020-11-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黃信翔;黃信航;傅新民
• 申請（專利權(quán)）人: 黃信翔;黃信航
• 主分類號: C23C18/16
• 分類號: C23C18/16
• 代理公司: 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;安利霞

一種運用載具采逐片連續(xù)生產(chǎn)的化學沉積方法及設(shè)備，其中該方法是運用載具將至少一電路板采直立式承載著；之后由該載具將該電路板移入一沉積反應(yīng)槽內(nèi)進行化學沉積反應(yīng)，該沉積反應(yīng)槽內(nèi)依序設(shè)有初始位置、多個中繼位置、以及最終位置；由移動機構(gòu)帶動該載具依序由該初始位置、多個中繼位置、移動至該最終位置，利用該電路板在沉積反應(yīng)槽內(nèi)等留預(yù)定時間，完成該沉積反應(yīng)槽內(nèi)金屬沉積于該電路板的作業(yè)；本發(fā)明是設(shè)計采用逐片電路板以漸進式移動而完成金屬沉積于電路板的相關(guān)作業(yè)，能擴大應(yīng)用于各種化學沉積作業(yè)，例如沉積鎳、沉積金、沉積銅、沉積钖、沉積銀等。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明為一種電路板的化學沉積方法的技術(shù)領(lǐng)域，尤其指一種采逐片連續(xù)生產(chǎn)的化學沉積方法及設(shè)備。

背景技術(shù)

在習用化學鎳金制程中，是利用單一吊籃將多片電路板為一組，將所述電路板依序上升、下降及移動至各化學溶液槽或各類槽室內(nèi)進行相關(guān)作業(yè)，以滿足大量生產(chǎn)的需。其具體流程為上料→清潔→水洗→微蝕→水洗→酸洗→水洗→預(yù)浸→活化→水洗→化學沉鎳→水洗→化學沉金→水洗→烘干→下料。所采用的生產(chǎn)設(shè)備，如圖1所示，多個反應(yīng)槽室呈直線狀依序排形成一生產(chǎn)線，包括：清潔槽101及多個水洗槽102、微蝕槽103及多個水洗槽104、酸洗槽105及多個水洗槽106、預(yù)浸槽107、交換位槽108、活化槽109、多個化學沉鎳槽110及多個水洗槽111、多個化學沉金槽112及多個水洗槽113、最后至干燥槽114。生產(chǎn)作業(yè)方式是將多片(例如20～60片)電路板為一組，呈垂直狀插置于吊籃115內(nèi)，本實施例是利用兩臺龍門式天車116、117，帶動吊籃115垂直升降且而于前述反應(yīng)槽室依序移動。當?shù)趸@115由龍門式天車116依序移動至交換位槽108后，將由龍門式天車117接手移動至后續(xù)反應(yīng)槽室內(nèi)作業(yè)。

在前述生產(chǎn)設(shè)備中，每組吊籃115的多片電路板皆需下降至各槽室內(nèi)，完成相關(guān)作業(yè)后上升，之后再移動至下一個槽室，因體積龐大，負載重量極重，一個人無法搬動，需要較大的機構(gòu)作動空間，因此機臺縱向高度高(可達4米)，寬度達2米(若含操作人員的作動平臺，寬度可達4米)。雖然整條生產(chǎn)線可設(shè)計一機殼封閉，但龐大的生產(chǎn)線并無法有效的封閉，若產(chǎn)線發(fā)生小故障，也必須打開操作窗口加以排除，過程中容易讓制程中有害氣體飄散，影響操作者的健康。

再者，每個槽室皆必須容納吊籃垂直放入，并且讓液體完全浸泡電路板，相對地所需容量大，基本上每個槽所需液體可達500升，故制程中各種反應(yīng)槽液的需求量大，槽體尺寸大造價也高。另外生產(chǎn)后的大量廢液處理也是一個成本負擔。

在后段制程中由于仍然是采用容納直立式多片電路板的吊籃來移動，經(jīng)水洗后的干燥作業(yè)中，容易使電路板表面殘留干燥后的水漬，影響電路板質(zhì)量，因此電路板仍須再進行一次后處理，即單獨將每片電路板水平輸送，進行水洗、吹干、烘干等作業(yè)，而增加額外的生產(chǎn)成本。綜合以上所述習用方式存在著許多缺點，極需改善。

因此本發(fā)明人思考是否能針對習用制程加以分析及改善，期待提出較佳及創(chuàng)新的方式，分析習用制程，其可分為三個大部份：前處理、沉積制程、以及后處理，前處理包括：清潔→水洗→微蝕→水洗→酸洗→水洗。沉積制程包括：預(yù)浸→活化→水洗→化學沉鎳→水洗→化學沉金→水洗。后處理包括：水洗→烘干。為此本發(fā)明人思考改變習用以吊籃一次吊掛大量電路板的生產(chǎn)模式，本發(fā)明改采逐片移動生產(chǎn)的模式，其中在前處理及后處理作業(yè)中，該電路板皆采水平逐片漸進式移動，在沉積制程中，電路板則包括水平逐片漸進式移動及直立式逐片漸進式移動。在前處理及后處理皆有相關(guān)的設(shè)備可以采用，但本發(fā)明改良后的沉積制程并無相關(guān)設(shè)備可以采用，因為沉積反應(yīng)所需時間較長，例如沉積鎳需20～30分、沉積金需10分鐘以上，若采用水平漸進式移動，所需的槽體長度尺寸將非常巨大，化學反應(yīng)液所需量也非常多，成本太高根本無法導(dǎo)入生產(chǎn)，因此本發(fā)明針對沉積制程開發(fā)一組運用載具采用逐片連續(xù)生產(chǎn)的化學沉積設(shè)備及方法，采用直立式逐片漸進式移動，使本發(fā)明的此制程能順利運行。

發(fā)明內(nèi)容