[發明專利]光學防偽元件及光學防偽產品

有效

• 申請號: 201711167143.1
• 申請日: 2017-11-21
• 公開（公告）號: CN109808337B
• 公開（公告）日: 2021-08-17
• 發明（設計）人: 朱軍;張寶利
• 申請（專利權）人: 中鈔特種防偽科技有限公司;中國印鈔造幣總公司
• 主分類號: B42D25/30
• 分類號: B42D25/30;G02B3/00
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 金旭鵬;肖冰濱

本發明涉及光學防偽領域，公開了一種光學防偽元件及光學防偽產品，其中所述光學防偽元件包括：基材，該基材包括彼此相對的第一表面和第二表面；形成在所述第一表面或所述第二表面且位于所述基材的第一區域的采樣合成層，該采樣合成層由一個或多個微采樣單元構成；以及形成在所述第一表面或所述第二表面且位于所述基材的第二區域的微圖像層；其中，當使得所述第一區域和所述第二區域相互靠近時，所述采樣合成層能夠對所述微圖像層進行采樣合成，從而形成由一個或多個宏觀合成圖像構成的視覺特征。所述光學防偽元件具有易識別難偽造的特點。

技術領域

本發明涉及光學防偽領域，具體地，涉及一種光學防偽元件及光學防偽產品。

背景技術

為了防止利用掃描和復印等手段產生的偽造，鈔票、證卡和產品包裝等各類高安全或高附加值印刷品中廣泛采用了光學防偽技術，并且取得了非常好的效果。

公開號為CN1271106A和授權公告號CN1552589B的中國專利，或者Kamal H,Voelkel R,Alda J的Properties ofmagnifiers[J].Optical Engineering,1998,37(11):3007-3014，董小春,杜春雷的微透鏡陣列顯示技術研究[J].微納電子技術,2003,40(6):29-32.等文獻均公開了在基材的兩個表面上分別帶有微透鏡陣列和微圖文陣列的微光學元件，并且其中，微圖文陣列位于微透鏡陣列的焦平面附近，通過微透鏡陣列對微圖文陣列的莫爾放大作用來再現呈現動態效果的或具有一定景深的圖案。

如上所述，現有技術中均采用在基材兩側分別加工微透鏡陣列和微圖文陣列，并按照預先設定好的微透鏡陣列和微圖文陣列之間的相對位置關系或旋轉角度關系，以及二者各自的陣列形式，特別是微圖文陣列的形式來形成特定的光學防偽特征。

然而，上述方式具有兩個方面的問題：其一，所形成的光學防偽特征是單一的、固定不變的；其二，所謂的設定好的相對位置關系或旋轉角度關系，在實際加工過程中通常是無法達到嚴格統一的參數或在加過程中可能會產生誤差的，因此實際獲得的光學防偽特征又存在著不確定性。這些問題使得光學防偽元件的特征單一或質量無法保證。

由于包裝品、印刷品、有價證券等產品對防偽技術不斷提高的要求，以上問題亟待解決。

發明內容

本發明的目的是提供一種光學防偽元件以及光學防偽產品，以解決或至少部分解決上述技術缺陷。

為了實現上述目的，本發明一方面提供一種所述光學防偽元件包括：基材，該基材包括彼此相對的第一表面和第二表面；形成在所述第一表面或所述第二表面且位于所述基材的第一區域的采樣合成層，該采樣合成層由一個或多個微采樣單元構成；以及形成在所述第一表面或所述第二表面且位于所述基材的第二區域的微圖像層；其中，當使得所述第一區域和所述第二區域相互靠近時，所述采樣合成層能夠對所述微圖像層進行采樣合成，從而形成由一個或多個宏觀合成圖像構成的視覺特征。

本發明第二方面提供一種光學防偽產品，包括上述的光學防偽元件。

根據本發明的光學防偽元件和光學防偽產品具有以下優點：

(1)所述第一區域的采樣合成層與第二區域的微圖像層相互靠近的過程為彼此之間提供了相互平移自由度和相互旋轉自由度，所以能夠提供更加豐富而多變的光學防偽特征，并且提供給用戶控制光學防偽特征的自由度；

(2)能夠實現豐富的光學防偽特征，從而產生更強的公眾吸引力和更高的抗偽造能力；

(3)可利用本領域通用設備進行批量生產。

本發明的其它特征和優點將在隨后的具體實施方式部分予以詳細說明。

附圖說明

附圖是用來提供對本發明的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與下面的具體實施方式一起用于解釋本發明，但并不構成對本發明的限制。在附圖中：