[發明專利]一種二氧化釩納米團簇及其制備方法

在審

• 申請號: 201711158935.2
• 申請日: 2017-11-20
• 公開（公告）號: CN107955934A
• 公開（公告）日: 2018-04-24
• 發明（設計）人: 樊樂樂;王峰;陳星;張勤芳;朱雷;孟強強
• 申請（專利權）人: 鹽城工學院
• 主分類號: C23C14/14
• 分類號: C23C14/14;C23C14/35;C23C14/58;C01G31/02;B82Y40/00
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙)11371
• 代理人: 鄧超

1.一種二氧化釩納米團簇的制備方法，其特征在于，其包括：

金屬釩納米團簇沉積：采用氣體磁控濺射的方式將金屬釩靶材濺射沉積到沉積室的襯底上；

后退火處理：對沉積在所述襯底上的所述金屬釩納米團簇進行加熱，并在所述沉積室中引入氧氣，完成對所述金屬釩納米團簇的退火處理。

2.根據權利要求1所述的二氧化釩納米團簇的制備方法，其特征在于，所述金屬釩靶材的純度為99.9％，所述金屬釩靶材的直徑為50mm，厚度為3mm。

3.根據權利要求1所述的二氧化釩納米團簇的制備方法，其特征在于，在進行氣體磁控濺射過程中，濺射、緩沖氣體采用純度為99.99％的氬氣。

4.根據權利要求1所述的二氧化釩納米團簇的制備方法，其特征在于，所述襯底采用厚度為500μm的單晶氧化鋁或TEM銅網。

5.根據權利要求1-4任意一項所述的二氧化釩納米團簇的制備方法，其特征在于，所述金屬釩靶材濺射沉積過程中依次進行了管道清洗和團簇沉積，其中，團簇沉積過程中，真空度為10^-4Pa，濺射、緩沖氣體的流量為20％-30％，濺射功率為40-60W，沉積時間為5-30min。

6.根據權利要求5所述的二氧化釩納米團簇的制備方法，其特征在于，所述金屬釩靶材濺射沉積過程中，還采用晶振對團簇束流的大小進行了檢測，并選出了的團簇束流。

7.根據權利要求5所述的二氧化釩納米團簇的制備方法，其特征在于，團簇沉積過程中，還對飛行中的金屬釩團簇進行了液氮處理。

8.根據權利要求1所述的二氧化釩納米團簇的制備方法，其特征在于，對所述金屬釩納米團簇進行加熱時的溫度為500℃，且保持30-60min的時間完成退火。

9.根據權利要求8所述的二氧化釩納米團簇的制備方法，其特征在于，引入所述氧氣時，采用質量流量計引入，并使所述沉積室的真空度控制在30-50Pa。

10.一種二氧化釩納米團簇，其特征在于，所述二氧化釩納米團簇是通過權利要求1-9任意一項所述的二氧化釩納米團簇的制備方法制得。