[發明專利]一種光敏電阻器的光敏材料及光敏電阻器的制備方法

在審

• 申請號: 201711149321.8
• 申請日: 2017-11-18
• 公開（公告）號: CN107910391A
• 公開（公告）日: 2018-04-13
• 發明（設計）人: 江明泓
• 申請（專利權）人: 四川啟興電子有限公司
• 主分類號: H01L31/032
• 分類號: H01L31/032;H01L31/08;H01L31/18
• 代理公司: 成都弘毅天承知識產權代理有限公司51230
• 代理人: 趙宇,劉東

技術領域

本發明涉及光敏電阻器技術領域，具體涉及一種光敏電阻器的光敏材料及光敏電阻器的制備方法。

背景技術

光敏電阻是采用半導體材料制作，利用內光電效應工作的光電元件。它在光線的作用下起阻值往往變小，這種現象稱為光導效應，因此，光敏電阻又稱光導管。

用于制造光敏電阻的材料主要是金屬的硫化物、硒化物和碲化物等半導體。通常采用涂敷、噴涂、燒結等方法在絕緣襯底上制作很薄的光敏電阻及梳妝歐姆電極，然后接出引線，封裝在具有透光鏡的密封殼體內，以免受潮影響其靈敏度。在光敏電阻兩端的金屬電極之間加上電壓，其中便有電流通過，受到適當波長的光線照射時，電流就會隨光強的增加而變大，從而實現光電轉換。光敏電阻沒有極性，純粹是一個電阻器件，使用時既可加直流電壓，也可以加交流電壓。

傳統的光敏電阻器的光敏層主要包括硫化鎘、硒化鎘和氯化鎘三種材料混合后溶解在離子水中得到。傳統的光敏電阻器的靈敏度已不能滿足現代光電控制系統的高精度要求。目前，人們通過在光敏層添加氯化銅材料來提高光敏電阻器的暗電阻并降低其亮電阻，從而提高光敏電阻器的靈敏度，但引入的游離態氯離子難以消除，對光敏電阻器的靈敏度造成負面影響。

發明內容

本發明的目的在于提供一種光敏電阻器的光敏材料及光敏電阻器的制備方法，以顯著提高光敏電阻器的靈敏度。

本發明采用的技術方案如下：一種光敏電阻器的光敏材料，按重量份數計，所述光敏材料包括以下組分：硫化鎘20-50份，硒化鎘30-50份，氯化鎘0.1-1份，氯化釤0.1-0.3份，硫化鋅1-10份，硫酸銅溶液1-3份，離子水10-100份。

本申請的技術方案中，通過在光敏電阻器的光敏材料硫化鎘、硒化鎘、氯化鎘、硫化鋅中再加入少量稀土氯化物氯化釤，溶解在離子水中，攪拌混合均勻，之后再加入硫酸銅溶液攪拌混合均勻，得到光敏溶液，用硫酸銅代替氯化銅，消除了氯離子對光敏電阻的負面影響，隔離層為環氧樹脂或金屬的好處是可靠性好，靈敏度高，反應速度快，光譜特性好，利用本發明提供的制備方法所得到的光敏電阻器具有顯著靈敏度高的優點。

優選的，按重量份數計，所述光敏材料包括以下組分：硫化鎘30-40份，硒化鎘35-45份，氯化鎘0.3-0.8份，氯化釤0.15-0.25份，硫化鋅3-8份，硫酸銅溶液1.5-2.5份，離子水30-80份。

更優選的，按重量份數計，所述光敏材料包括以下組分：硫化鎘35份，硒化鎘40份，氯化鎘0.5份，氯化釤0.2份，硫化鋅5份，硫酸銅溶液2份，離子水60份。

一種光敏電阻器的制備方法，包括以下步驟：

(1)制備陶瓷基體，用純度為90％-95％的三氧化鋁制備而成；

(2)制備光敏溶液，將硫化鎘，硒化鎘，氯化鎘，氯化釤，硫化鋅溶解在離子水中，攪拌混合均勻，再加入硫酸銅溶液攪拌混合均勻，得到光敏溶液；

(3)將光敏溶液均勻噴涂在陶瓷基體的表面，形成光敏層；

(4)將噴涂后用的陶瓷基體靜止15-25分鐘后，再在1000-1500℃高溫下燒結25-45分鐘，然后在400-600℃下保溫1小時，得到光敏電阻主體；

(5)在步驟(4)得到的光敏電阻主體表面噴涂隔離層，得到光敏電阻；

(6)將兩個電機安裝在步驟(5)形成的光敏電阻兩端，得到光敏電阻器。

優選的，所述隔離層為環氧樹脂或金屬。

綜上所述，由于采用了上述技術方案，本發明的有益效果是：(1)用硫酸銅代替氯化銅，消除了氯離子對光敏電阻的負面影響；(2)隔離層為環氧樹脂或金屬的好處是可靠性好，靈敏度高，反應速度快，光譜特性好；(3)本申請的光敏電阻器具有靈敏度高的優點。

具體實施方式

本說明書中公開的所有特征，或公開的所有方法或過程中的步驟，除了互相排斥的特征和/或步驟以外，均可以以任何方式組合。

實施例1

一種光敏電阻器的光敏材料，按重量份數計，所述光敏材料包括以下組分：硫化鎘20份，硒化鎘30份，氯化鎘0.1份，氯化釤0.1份，硫化鋅1份，硫酸銅溶液1份，離子水10份。

一種光敏電阻器的制備方法，包括以下步驟：

(1)制備陶瓷基體，用純度為90％-95％的三氧化鋁制備而成；

(2)制備光敏溶液，將硫化鎘，硒化鎘，氯化鎘，氯化釤，硫化鋅溶解在離子水中，攪拌混合均勻，再加入硫酸銅溶液攪拌混合均勻，得到光敏溶液；

(3)將光敏溶液均勻噴涂在陶瓷基體的表面，形成光敏層；