[發明專利]物理氣相沉積設備和物理氣相沉積方法

在審

• 申請號: 201711146898.3
• 申請日: 2017-11-17
• 公開（公告）號: CN107723675A
• 公開（公告）日: 2018-02-23
• 發明（設計）人: 李揚德;盧昆;高寬
• 申請（專利權）人: 東莞顛覆產品設計有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50
• 代理公司: 廣州市越秀區哲力專利商標事務所(普通合伙)44288
• 代理人: 羅偉添,秦維

技術領域

本發明涉及產品表面鍍膜技術領域，尤其涉及一種物理氣相沉積設備和物理氣相沉積方法。

背景技術

目前，隨著生活水平的不斷提高以及生產技術的持續發展，市場上對各種產品的外觀需求顯著提高，產品結構越做越精致的同時，表面顏色和硬度的要求也越來越高，這種情況大大的推動了物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)的工藝進步。物理氣相沉積在表面處理方面有著極大的優勢，對基材的材質要求不高，無廢氣廢水排除，對環境無污染。最大的優勢在于能夠大幅度提高產品的硬度和耐磨度，同時又擁有多種多樣的顏色選擇，在表面處理領域有著極大的潛力。

但是，現有的物理氣相沉積方法存在以下缺陷：現有技術的物理氣相沉積由于是在真空環境下進行，每一批次能夠加工的產品數量有限，限制了物理氣相沉積的加工效率。現階段進行大規模生產時對于具有一定結構的產品往往采用在靶材周圍設置掛具的形式，利用人工將產品掛置在掛具上，采用掛具固有的優勢在于可以有效的利用真空鍍膜室的空間，將產品放置于接近靶材的位置，鍍膜的效果均勻穩定。該方式的缺點第一在于產品上掛的過程要求工作人員手工上掛，在該環節效率較低，并且對于小件產品容易丟失；第二點，由于掛具一般設計為產品具有固定的朝向，或者為旋轉的結構，這兩種結構中產品面向靶材的方向是固定的，接受鍍膜的工作面相對也是固定的，所有會限制產品的鍍膜方向，無法滿足全方位鍍膜產品的需求。

而對于放置在水平工作臺上的方式來說，工作臺的空間有限，每次抽真空的時間較長的情況下，放置的產品數量有限。同時，該方式主要針對平面結構，單面需要鍍膜的產品。對于具有一定結構的產品或者需要全方位鍍膜的產品效果不理想。

發明內容

為了克服現有技術的不足，本發明的目的之一在于提供一種物理氣相沉積設備，該物理氣相沉積設備不僅能夠批量處理大量的待鍍膜產品，而且能夠對待鍍膜產品進行全方位的鍍膜，能夠同時滿足平面產品和具有立體結構產品的鍍膜需求，此外還能夠克服手工上掛缺陷。

本發明的目的之二在于提供一種物理氣相沉積方法，該物理氣相沉積方法同樣能夠達到與上述物理氣相沉積設備的目的。

本發明的目的之一采用以下技術方案實現：

一種物理氣相沉積設備，所述物理氣相沉積設備包括殼體、發射源、承載裝置和動力裝置，其中，所述殼體的內部形成真空鍍膜室，所述發射源、承載裝置和動力裝置位于所述真空鍍膜室內，所述動力裝置連接至所述承載裝置以使位于所述承載裝置上的待鍍膜產品產生上下振動、由里向外的翻轉以及沿預定方向的旋轉。

可選地，所述動力裝置為振動式動力裝置、電磁式動力裝置、機械攪動式動力裝置中的至少一種。

可選地，所述承載裝置具有用于容置待鍍膜產品的內凹的容置部。

可選地，所述承載裝置的容置部的開口朝向所述發射源，所述動力裝置連接至所述承載裝置的非開口的一側。

可選地，所述物理氣相沉積設備包括多個承載裝置。

可選地，所述動力裝置為所述承載裝置提供勻速或變速的動力。

可選地，所述物理氣相沉積設備還包括用于監測待鍍膜產品上的鍍膜厚度的膜厚監測裝置，所述膜厚監測裝置位于所述真空鍍膜室內。

可選地，所述發射源為蒸發源或濺射源。

本發明的目的之二采用以下技術方案實現：

一種物理氣相沉積方法，所述物理氣相沉積方法包括以下步驟：

將多個待鍍膜產品置于真空鍍膜室內；

對真空鍍膜室進行抽真空；

使待鍍膜產品產生上下振動、由里向外的翻轉以及沿預定方向的旋轉；

采用物理氣相沉積法對多個待鍍膜產品進行鍍膜。

可選地，所述物理氣相沉積方法還包括對待鍍膜產品上的鍍膜厚度進行監測，并根據監測結果確定是否停止鍍膜。

相比現有技術，本發明的有益效果在于：

本發明的物理氣相沉積設備鍍膜時，不僅省略了大量人工手動上掛這一步驟，極大地提高了加工效率，一次加工的產品是普通掛具方式鍍膜的幾十倍之多，極大地降低了加工成本，鍍膜過程的自動化程度更高；而且可以使得待鍍膜產品能夠獲得完整全面的PVD鍍層，顯著的提高了產品的適用性，鍍膜質量也能得到進一步的保障。

附圖說明

圖1是本發明實施例的物理氣相沉積設備的立體圖。

圖2是本發明一個實施例的物理氣相沉積設備的截面示意圖。

圖3是本發明另一實施例的物理氣相沉積設備的截面示意圖。

圖中：