[發明專利]一種新型祛痘天然提取組合物、祛痘霜及其制備方法

在審

• 申請號: 201711142601.6
• 申請日: 2017-11-17
• 公開（公告）號: CN107898681A
• 公開（公告）日: 2018-04-13
• 發明（設計）人: 王貴清
• 申請（專利權）人: 珠海姍拉娜化妝品有限公司
• 主分類號: A61K8/9789
• 分類號: A61K8/9789;A61Q19/00;A61P17/10;A61K8/92;A61K8/64
• 代理公司: 中山市銘洋專利商標事務所(普通合伙)44286
• 代理人: 鄒建平

【技術領域】

本發明涉及化妝品配方技術領域，特別是一種新型祛痘天然提取組合物及其制備的祛痘霜。

【背景技術】

目前，很多祛痘產品用到激素，抗生素，維甲酸、果酸等成分，刺激性大，容易引起皮膚對唑瘡桿菌的耐藥性，安全性不斷受到質疑。現有技術中缺乏活性成分完全純天然的祛痘產品。

【發明內容】

本發明的目的所要解決的技術問題是要提供一種新型祛痘天然提取組合物、祛痘霜及其制備方法，天然環保，具有控油、祛痘、祛痘印的功效，添加護膚品常用的基質或載體，可制成洗面乳或祛痘霜、精華、水劑、啫喱等化妝品。

為了實現上述目的，本發明采用的技術方案：

一種新型祛痘天然提取組合物，包括番石榴果提取物和/或去痘印亮膚劑，所述去痘印亮膚劑包括厚樸樹皮提取物和朝鮮當歸根提取物。

于本發明的一種實施例或多種實施例中，所述的一種新型祛痘天然提取組合物包括番石榴果提取物和去痘印亮膚劑，按重量百分比，

所述番石榴果提取物的含量為50-99％；

所述去痘印亮膚劑的含量為1-50％。

一種祛痘霜，其特征在于，其包括有以下原料：

A組原料：羥丙基淀粉磷酸酯(XL)、烷醇丙烯酸酯交聯聚合物(TR-1)、甘草酸二鉀、PG、去離子水；

B組原料：A165(德國贏創集團)、十六十八醇、DC345(廣州市東雄化工有限公司)、2EHP、單甘脂；

C組原料：丙烯酸酯/丙烯酰二甲基牛磺酸鈉共聚物、異十六烷、聚山梨醇酯-60(INS100)；

D組原料：KOH和去離子水；

E組原料：祛痘天然提取組合物、丙二醇；所述祛痘天然提取組合物為番石榴果提取物；

F組原料：痤瘡克星(日本一丸制藥公司)、冰片、薄荷油、乙醇、茶樹油、粉刺平(萊博藥妝技術(上海)股份有限公司)、辛酰羥肟酸、苯氧乙醇。

一種祛痘霜，其特征在于，其包括有以下原料：

A組原料：羥丙基淀粉磷酸酯(XL)、烷醇丙烯酸酯交聯聚合物(TR-1)、甘草酸二鉀、PG、去離子水；

B組原料：A165(德國贏創集團)、十六十八醇、DC345(廣州市東雄化工有限公司)、2EHP、單甘脂；

C組原料：丙烯酸酯/丙烯酰二甲基牛磺酸鈉共聚物、異十六烷、聚山梨醇酯-60(INS100)；

D組原料：KOH和去離子水；

E組原料：祛痘天然提取組合物、丙二醇；所述祛痘天然提取組合物為去痘印亮膚劑；

F組原料：痤瘡克星、冰片、薄荷油、乙醇、茶樹油、粉刺平、辛酰羥肟酸、苯氧乙醇。

一種祛痘霜，其特征在于，其包括有以下原料：

A組原料：羥丙基淀粉磷酸酯(XL)、烷醇丙烯酸酯交聯聚合物(TR-1)、甘草酸二鉀、PG、去離子水；

B組原料：A165(德國贏創集團)、十六十八醇、DC345(廣州市東雄化工有限公司)、2EHP、單甘脂；

C組原料：INS100；

D組原料：KOH和去離子水；

E組原料：祛痘天然提取組合物、丙二醇；所述祛痘天然提取組合物為番石榴果提取物和去痘印亮膚劑；

F組原料：痤瘡克星、冰片、薄荷油、乙醇、茶樹油、粉刺平、辛酰羥肟酸、苯氧乙醇。

上述的痤瘡克星的制備原料包括：水、丁二醇、羥基乙酸、PEG-60氫化蓖麻油、乙基己基甘油、甘油辛酸酯、乳酸桿菌/梨汁發酵產物濾液、o- 傘花烴-5-醇、黃檗樹皮提取物、白柳樹皮提取物、中國地黃根提取物、印度印度楝葉提取物、黃芩根提取物、魚腥草提取物和野大豆蛋白。

上述的粉刺平的制備原料包括：甘油、水、苦參根提取物、丙二醇、乙醇、歐蒲公英根莖/根提取物、甘草根提取物、黃芩根提取物、忍冬花提取物、PEG-40蓖麻油和苯甲酸鈉。

一種祛痘霜的制備方法，其特征在于，包括有權利要求3-5任一項所述的祛痘霜，所述方法步驟如下：

(1)按原料名稱和原料重量秤取各原料；

(2)將A組、B組兩組原料各自加熱至85℃后，形成A相和B相；

(3)將B相加入至A相中高速攪拌后，形成AB混合相；

(4)將C組原料加入AB混合相中，攪拌均質3分鐘，形成ABC混合相；

(5)將ABC混合相降溫至50℃～60℃后，加入D組、E組原料，攪拌并高速均質3min，形成ABCDE混合相；