[發明專利]一種新型祛痘天然提取組合物、祛痘霜及其制備方法

在審

• 申請號: 201711142601.6
• 申請日: 2017-11-17
• 公開（公告）號: CN107898681A
• 公開（公告）日: 2018-04-13
• 發明（設計）人: 王貴清
• 申請（專利權）人: 珠海姍拉娜化妝品有限公司
• 主分類號: A61K8/9789
• 分類號: A61K8/9789;A61Q19/00;A61P17/10;A61K8/92;A61K8/64
• 代理公司: 中山市銘洋專利商標事務所(普通合伙)44286
• 代理人: 鄒建平

1.一種新型祛痘天然提取組合物，其特征在于，包括番石榴果提取物和/或去痘印亮膚劑，所述去痘印亮膚劑包括厚樸樹皮提取物和朝鮮當歸根提取物。

2.根據權利要求1所述的一種新型祛痘天然提取組合物，其特征在于，包括番石榴果提取物和去痘印亮膚劑，按重量百分比，

所述番石榴果提取物的含量為50-99％；

所述去痘印亮膚劑的含量為1-50％。

3.一種祛痘霜，其特征在于，其包括有以下原料：

A組原料：羥丙基淀粉磷酸酯(XL)、烷醇丙烯酸酯交聯聚合物(TR-1)、甘草酸二鉀、PG、去離子水；

B組原料：A165、十六十八醇、DC345、2EHP、單甘脂；

C組原料：丙烯酸酯/丙烯酰二甲基牛磺酸鈉共聚物、異十六烷、聚山梨醇酯-60(INS100)；

D組原料：KOH和去離子水；

E組原料：祛痘天然提取組合物、丙二醇；所述祛痘天然提取組合物為番石榴果提取物；

F組原料：痤瘡克星、冰片、薄荷油、乙醇、茶樹油、粉刺平、辛酰羥肟酸、苯氧乙醇。

4.一種祛痘霜，其特征在于，其包括有以下原料：

A組原料：羥丙基淀粉磷酸酯(XL)、烷醇丙烯酸酯交聯聚合物(TR-1)、甘草酸二鉀、PG、去離子水；

B組原料：A165、十六十八醇、DC345、2EHP、單甘脂；

C組原料：INS100；

D組原料：KOH和去離子水；

E組原料：祛痘天然提取組合物、丙二醇；所述祛痘天然提取組合物為去痘印亮膚劑；

F組原料：痤瘡克星、冰片、薄荷油、乙醇、茶樹油、粉刺平、辛酰羥肟酸、苯氧乙醇。

5.一種祛痘霜，其特征在于，其包括有以下原料：

A組原料：羥丙基淀粉磷酸酯(XL)、烷醇丙烯酸酯交聯聚合物(TR-1)、甘草酸二鉀、PG、去離子水；

B組原料：A165、十六十八醇、DC345、2EHP、單甘脂；

C組原料：INS100；

D組原料：KOH和去離子水；

E組原料：祛痘天然提取組合物、丙二醇；所述祛痘天然提取組合物為番石榴果提取物和去痘印亮膚劑；

F組原料：痤瘡克星、冰片、薄荷油、乙醇、茶樹油、粉刺平、辛酰羥肟酸、苯氧乙醇。

6.一種祛痘霜的制備方法，其特征在于，包括有權利要求3-5任一項所述的祛痘霜，所述方法步驟如下：

(1)按原料名稱和原料重量秤取各原料；

(2)將A組、B組兩組原料各自加熱至85℃后，形成A相和B相；

(3)將B相加入至A相中高速攪拌后，形成AB混合相；

(4)將C組原料加入AB混合相中，攪拌均質3分鐘，形成ABC混合相；

(5)將ABC混合相降溫至50℃～60℃后，加入D組、E組原料，攪拌并高速均質3min，形成ABCDE混合相；

(6)將ABCDE混合相攪拌降溫至45℃，加入F組原料，攪拌均勻，形成ABCDEF混合相；

(7)將ABCDEF混合相降溫至38℃后，出料，即可得到目標產品；

(8)將步驟(7)所得的目標產品進行分裝后，即為成品。