[發(fā)明專利]陽極靶、射線光源、計(jì)算機(jī)斷層掃描設(shè)備及成像方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711136934.8
• 申請日: 2017-09-18
• 公開（公告）號: CN107731644B
• 公開（公告）日: 2019-10-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 譚承君;黃文會;唐傳祥;靳清秀;張東生;羅群;劉東海;張路明;吳沛東
• 申請（專利權(quán)）人: 同方威視技術(shù)股份有限公司;清華大學(xué)
• 主分類號: H01J35/08
• 分類號: H01J35/08
• 代理公司: 北京律智知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438
• 代理人: 闞梓瑄;王衛(wèi)忠

本申請公開一種陽極靶、射線光源、計(jì)算機(jī)斷層掃描設(shè)備及成像方法。涉及射線處理技術(shù)領(lǐng)域，該陽極靶包括：多個(gè)靶結(jié)構(gòu)，用于接收由陰極發(fā)射出的電子束，以產(chǎn)生射線，所述多個(gè)靶點(diǎn)為具有斜面的立體結(jié)構(gòu)；銅冷卻體，用于承載所述靶點(diǎn)，所述銅冷卻體包括無氧銅冷卻體；冷卻油管，用于對陽極靶進(jìn)行冷卻；以及屏蔽層，用于產(chǎn)生屏蔽作用，所述屏蔽層包括鎢屏蔽層。本申請的陽極靶、射線光源、計(jì)算機(jī)斷層掃描設(shè)備及成像方法，能夠使得陽極靶上所有的靶點(diǎn)均分布在一條直線上，提高射線系統(tǒng)的成像質(zhì)量，簡化成像系統(tǒng)的復(fù)雜性。

本申請是申請?zhí)枮?01710842782.7，申請日為2017年09月18日，發(fā)明名稱為《陽極靶、射線光源、計(jì)算機(jī)斷層掃描設(shè)備及成像方法》的分案申請。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及射線成像技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種陽極靶、射線光源、計(jì)算機(jī)斷層掃描設(shè)備及成像方法。

背景技術(shù)

X射線在工業(yè)無損檢測、安全檢查、醫(yī)學(xué)診斷和治療等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。特別是，利用X射線的高穿透能力制成的X射線透視成像設(shè)備在人們?nèi)粘Ｉ畹姆椒矫婷姘l(fā)揮著重要作用。這類設(shè)備早期的是膠片式的平面透視成像設(shè)備，目前的先進(jìn)技術(shù)是數(shù)字化、多視角并且高分辨率的立體成像設(shè)備，例如CT(computed tomography，計(jì)算機(jī)斷層)成像設(shè)備，可以獲得高清晰度的三維立體圖形或切片圖像，是先進(jìn)的高端應(yīng)用。在現(xiàn)有的CT設(shè)備中，X射線發(fā)生裝置需要在滑環(huán)上運(yùn)動，為了提高檢查速度，通常X射線發(fā)生裝置的運(yùn)動速度非常高，導(dǎo)致設(shè)備整體的可靠性和穩(wěn)定性降低，此外，受運(yùn)動速度的限制，CT的檢查速度也受到了限制，因此檢查效率較低。另外，此類設(shè)備的X射線源在滑環(huán)上運(yùn)動，導(dǎo)致等效的X射線源焦點(diǎn)變大，從而使得的成像的圖片存在運(yùn)動偽影，清晰度差，對一些較小的違禁品存在漏檢的可能性。并且此類設(shè)備只能檢查靜止(或者緩慢運(yùn)動)的物體，對于運(yùn)動的物體，幾乎無法成三維立體圖。

現(xiàn)有技術(shù)中，采用熱陰極作為電子發(fā)射單元，并且對熱陰極進(jìn)行陣列排布，利用熱陰極柵極間的電壓控制電子的發(fā)射，從而控制每一個(gè)陰極按順序發(fā)射電子，在陽極上按相應(yīng)順序位置轟擊靶點(diǎn)，成為分布式X射線源。通過電控開關(guān)代替螺旋CT的機(jī)械旋轉(zhuǎn)，可以在多個(gè)視角快速產(chǎn)生X射線源，從而從過個(gè)角度進(jìn)行快速成像，該方法相比較以往的方法可大大的提高檢查效率；提高圖像的清晰度；并且該方案結(jié)構(gòu)簡單、系統(tǒng)穩(wěn)定、可靠性高。但是由于現(xiàn)有技術(shù)中CT設(shè)備輸出高能射線只能為單一能量級的射線束，不滿足更多使用需求。

因此，需要一種新的陽極靶、射線光源、計(jì)算機(jī)斷層掃描設(shè)備及成像方法。

在所述背景技術(shù)部分公開的上述信息僅用于加強(qiáng)對本發(fā)明的背景的理解，因此它可以包括不構(gòu)成對本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明提供一種陽極靶、射線光源、計(jì)算機(jī)斷層掃描設(shè)備及成像方法，能夠提供雙能分布式射線成像數(shù)據(jù)，提高射線系統(tǒng)的成像質(zhì)量。

本發(fā)明的其他特性和優(yōu)點(diǎn)將通過下面的詳細(xì)描述變得顯然，或部分地通過本發(fā)明的實(shí)踐而習(xí)得。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，提出一種陽極靶，該陽極靶包括：第一陽極靶，用于通過其上承載的第一電壓使得由陰極發(fā)射出的電子束在所述第一陽極靶的靶點(diǎn)上產(chǎn)生第一射線；第二陽極靶，用于通過其上承載的第二電壓使得由陰極發(fā)射出的電子束在所述第二陽極靶的靶點(diǎn)上產(chǎn)生第二射線；以及陶瓷體，用于隔離所述第一陽極靶與所述第二陽極靶。

在本公開的一種示例性實(shí)施例中，還包括：冷卻油管，用于對所述第一陽極靶與所述第二陽極靶進(jìn)行冷卻；以及屏蔽層，用于對所述陽極靶產(chǎn)生的射線進(jìn)行屏蔽。

在本公開的一種示例性實(shí)施例中，所述陶瓷體包括：被金屬化的陶瓷體。

在本公開的一種示例性實(shí)施例中，所述第一陽極靶，所述第二陽極靶與所述金屬化的陶瓷體通過金銅焊接相連。

在本公開的一種示例性實(shí)施例中，所述陰極在所述陽極靶的兩端錯(cuò)開排布。