[發(fā)明專利]陽極靶、射線光源、計算機斷層掃描設(shè)備及成像方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711136934.8 | 申請日： | 2017-09-18 |
| 公開（公告）號： | CN107731644B | 公開（公告）日： | 2019-10-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 譚承君;黃文會;唐傳祥;靳清秀;張東生;羅群;劉東海;張路明;吳沛東 | 申請（專利權(quán)）人： | 同方威視技術(shù)股份有限公司;清華大學 |
| 主分類號： | H01J35/08 | 分類號： | H01J35/08 |
| 代理公司： | 北京律智知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438 | 代理人： | 闞梓瑄;王衛(wèi)忠 |
| 地址： | 100084 北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 陽極 射線 光源 計算機 斷層 掃描 設(shè)備 成像 方法 | ||
1.一種陽極靶，其特征在于，包括：
多個靶結(jié)構(gòu)，用于接收由陰極發(fā)射出的電子束，以產(chǎn)生射線，所述多個靶結(jié)構(gòu)為具有斜面的立體結(jié)構(gòu)；
銅冷卻體，用于承載所述靶結(jié)構(gòu)，所述銅冷卻體包括無氧銅冷卻體；
冷卻油管，用于對陽極靶進行冷卻；以及
屏蔽層，用于產(chǎn)生屏蔽作用，所述屏蔽層包括鎢屏蔽層；
其中所述多個靶結(jié)構(gòu)中的相鄰兩個靶結(jié)構(gòu)之間交錯放置，交錯放置的所述多個靶結(jié)構(gòu)的靶點中心處于同一直線，所述多個靶結(jié)構(gòu)中的相鄰兩個靶結(jié)構(gòu)的斜面在各自靶點中心處的法線分別位于所述直線所在的垂直于銅冷卻體上表面的平面的兩側(cè)。
2.如權(quán)利要求1所述的陽極靶，其特征在于，所述靶結(jié)構(gòu)的材質(zhì)包括：
錸鎢材質(zhì)。
3.如權(quán)利要求1所述的陽極靶，其特征在于，所述多個靶結(jié)構(gòu)通過釬焊方式焊接在所述銅冷卻體上。
4.一種射線光源，其特征在于，包括：
陰極組件，用于發(fā)射電子束；以及
陽極組件，用于接收來自于所述陰極組件的所述電子束，生成射線光源；
其中，所述陽極組件包括陽極靶，所述陽極靶包括：
多個靶結(jié)構(gòu)，用于接收由陰極發(fā)射出的電子束，以產(chǎn)生射線，所述多個靶結(jié)構(gòu)為具有斜面的立體結(jié)構(gòu)；
銅冷卻體，用于承載所述靶結(jié)構(gòu)，所述銅冷卻體包括無氧銅冷卻體；
冷卻油管，用于對陽極靶進行冷卻；
屏蔽層，用于產(chǎn)生屏蔽作用，所述屏蔽層包括鎢屏蔽層；
其中所述多個靶結(jié)構(gòu)中的相鄰兩個靶結(jié)構(gòu)之間交錯放置，交錯放置的所述多個靶結(jié)構(gòu)的靶點中心處于同一直線，所述多個靶結(jié)構(gòu)中的相鄰兩個靶結(jié)構(gòu)的斜面在各自靶點中心處的法線分別位于所述直線所在的垂直于銅冷卻體上表面的平面的兩側(cè)。
5.一種計算機斷層掃描設(shè)備，其特征在于，包括：
陰極組件，用于發(fā)射電子束；
陽極組件，用于接收來自于所述陰極組件的所述電子束，生成射線光源；
其中，所述陽極組件包括陽極靶，所述陽極靶包括：
多個靶結(jié)構(gòu)，用于接收由陰極發(fā)射出的電子束，以產(chǎn)生射線，所述多個靶結(jié)構(gòu)為具有斜面的立體結(jié)構(gòu)；
銅冷卻體，用于承載所述靶結(jié)構(gòu)，所述銅冷卻體包括無氧銅冷卻體；
冷卻油管，用于對陽極靶進行冷卻；
屏蔽層，用于產(chǎn)生屏蔽作用，所述屏蔽層包括鎢屏蔽層；
成像裝置，用于通過所述射線進行射線成像；
其中所述多個靶結(jié)構(gòu)中的相鄰兩個靶結(jié)構(gòu)之間交錯放置，交錯放置的所述多個靶結(jié)構(gòu)的靶點中心處于同一直線，所述多個靶結(jié)構(gòu)中的相鄰兩個靶結(jié)構(gòu)的斜面在各自靶點中心處的法線分別位于所述直線所在的垂直于銅冷卻體上表面的平面的兩側(cè)。
6.一種計算機斷層掃描設(shè)備的成像方法，其特征在于，包括：
計算機斷層掃描設(shè)備產(chǎn)生射線；
所述射線作用于被測物體，產(chǎn)生測試數(shù)據(jù)；以及
通過所述測試數(shù)據(jù)直接進行射線成像；
其中，所述計算機斷層掃描設(shè)備，包括：
陰極組件，用于發(fā)射電子束；
陽極組件，用于接收來自于所述陰極組件的所述電子束，生成射線光源；
其中，所述陽極組件包括陽極靶，所述陽極靶包括：
陰極組件，用于發(fā)射電子束；以及
陽極組件，用于接收來自于所述陰極組件的所述電子束，生成射線光源；
其中，所述陽極組件包括陽極靶，所述陽極靶包括：
多個靶結(jié)構(gòu)，用于接收由陰極發(fā)射出的電子束，以產(chǎn)生射線，所述多個靶結(jié)構(gòu)為具有斜面的立體結(jié)構(gòu)；
銅冷卻體，用于承載所述靶結(jié)構(gòu)，所述銅冷卻體包括無氧銅冷卻體；
冷卻油管，用于對陽極靶進行冷卻；以及
屏蔽層，用于產(chǎn)生屏蔽作用，所述屏蔽層包括鎢屏蔽層；
其中所述多個靶結(jié)構(gòu)中的相鄰兩個靶結(jié)構(gòu)之間交錯放置，交錯放置的所述多個靶結(jié)構(gòu)的靶點中心處于同一直線，所述多個靶結(jié)構(gòu)中的相鄰兩個靶結(jié)構(gòu)的斜面在各自靶點中心處的法線分別位于所述直線所在的垂直于銅冷卻體上表面的平面的兩側(cè)。
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