[發明專利]一種稀土摻雜鋁酸鍶長余輝薄膜制備

在審

• 申請號: 201711133528.6
• 申請日: 2017-11-16
• 公開（公告）號: CN109796969A
• 公開（公告）日: 2019-05-24
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 江蘇三聯新材料有限公司
• 主分類號: C09K11/64
• 分類號: C09K11/64
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明公開了一種稀土摻雜鋁酸鍶長余輝薄膜制備，首先按名義成分制備Sr0.995Al2O4∶0.005Eu2+熒光粉和陶瓷靶材，然后在0.1 Pa的工作氣壓、2.5 W/cm2的功率密度和923 K的基片溫度下，利用射頻磁控濺射技術沉積1 h，在1223 K弱還原氣氛下熱處理后，得到了同質緩沖層.然后在緩沖層上繼續沉積，在濺射氣壓0.2 Pa、功率密度2.5 W/cm2以及基片溫度873 K的濺射參數下，沉積3 h，最后在相同條件下退火。

技術領域

本發明涉及新材料制備技術，其中所涉及一種稀土摻雜鋁酸鍶長余輝薄膜制備。

背景技術

熒光粉是一種性能卓越的商用長余輝材料，具有275～420 nm連續寬帶激發譜，發射峰值為520 nm，呈黃綠光，余輝時間可達20 h以上.SrAl2O4∶Eu2+，Dy3+發光材料不僅具有高效的光致發光、優異的長余輝性能、較高的量子效率和穩定的物化性能，而且擁有良好的力致發光、電致發光和壓電性能.與傳統的材料相比，薄膜材料以自身固有的較小晶粒尺寸和較低側向散射而具備優異的分辨率，在對比度、熱傳導、釋氣速率、均勻性以及與基底的附著性等方面都表現出顯著的優越性，因此薄膜材料具備優異的性能組合.為了滿足電子信息化和自動化技術發展的需要，功能材料將進一步朝薄膜化、微型化、集成化和智能化等方向發展SrAl2O4∶Eu2+，Dy3+薄膜在長余輝夜視照明、無損實時可視化探測、機械應力傳感器、納米光電子器件、二維溫度傳感器以及薄膜太陽能電池等領域具有極為廣闊、誘人的應用前景，要實現SrAl2O4∶Eu2+，Dy3+長余輝薄膜的應用，首要條件是制備出質量高、性能優良的長余輝薄膜，而制備方法又與薄膜的性能息息相關。

發明內容

本發明解決本發明為了解決上述問題，從而提供一種稀土摻雜鋁酸鍶長余輝薄膜制備。

本發明的目的在于提供一種稀土摻雜鋁酸鍶長余輝薄膜制備，首先按名義成分制備Sr0.995Al2O4∶0.005Eu2+熒光粉和陶瓷靶材，然后在0.1 Pa的工作氣壓、2.5 W/cm2的功率密度和923 K的基片溫度下，利用射頻磁控濺射技術沉積1 h，在1 223 K弱還原氣氛下熱處理后，得到了同質緩沖層.然后在緩沖層上繼續沉積，在濺射氣壓0.2 Pa、功率密度2.5W/cm2以及基片溫度873 K的濺射參數下，沉積3 h，最后在相同條件下退火。

在藍寶石襯底上制備取向的SrAl2O4∶Eu2+薄膜，以O2和Ar混合氣體作為濺射工作氣體隨著氧分壓的提高，薄膜的Sr/Al原子比越接近靶材的比例，結晶度越高。

具體實施方式

對本發明的較佳實施例進行詳細闡述，以使本發明的優點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本發明的保護范圍做出更為清楚明確的界定。

本發明首先按名義成分制備Sr0.995Al2O4∶0.005Eu2+熒光粉和陶瓷靶材，然后在0.1 Pa的工作氣壓、2.5 W/cm2的功率密度和923 K的基片溫度下，利用射頻磁控濺射技術沉積1 h，在1 223 K弱還原氣氛下熱處理后，得到了同質緩沖層.然后在緩沖層上繼續沉積，在濺射氣壓0.2 Pa、功率密度2.5 W/cm2以及基片溫度873 K的濺射參數下，沉積3 h，最后在相同條件下退火。

在藍寶石襯底上制備取向的SrAl2O4∶Eu2+薄膜，以O2和Ar混合氣體作為濺射工作氣體隨著氧分壓的提高，薄膜的Sr/Al原子比越接近靶材的比例，結晶度越高。對于本領域的技術人員來說，其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分技術特征進行等同替換,凡在本發明的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發明的保護范圍之內。