[發(fā)明專利]一種稀土摻雜鋁酸鍶長(zhǎng)余輝薄膜制備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711133528.6 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109796969A | 公開(公告)日: | 2019-05-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 不公告發(fā)明人 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇三聯(lián)新材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | C09K11/64 | 分類號(hào): | C09K11/64 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 223100 江蘇省淮安市*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 沉積 鋁酸鍶長(zhǎng)余輝 薄膜制備 稀土摻雜 熒光粉 射頻磁控濺射 退火 弱還原氣氛 同質(zhì)緩沖層 熱處理 成分制備 工作氣壓 濺射氣壓 陶瓷靶材 緩沖層 濺射 | ||
1.一種稀土摻雜鋁酸鍶長(zhǎng)余輝薄膜制備,首先按名義成分制備Sr0.995Al2O4∶0.005Eu2+熒光粉和陶瓷靶材,然后在0.1 Pa的工作氣壓、2.5 W/cm2的功率密度和923 K的基片溫度下,利用射頻磁控濺射技術(shù)沉積1 h,在1 223 K弱還原氣氛下熱處理后,得到了同質(zhì)緩沖層.然后在緩沖層上繼續(xù)沉積,在濺射氣壓0.2 Pa、功率密度2.5 W/cm2以及基片溫度873 K的濺射參數(shù)下,沉積3 h,最后在相同條件下退火。
2.根據(jù)權(quán)利要求 1 所述的在藍(lán)寶石襯底上制備取向的SrAl2O4∶Eu2+薄膜,以O(shè)2和Ar混合氣體作為濺射工作氣體隨著氧分壓的提高,薄膜的Sr/Al原子比越接近靶材的比例,結(jié)晶度越高。
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C09K 不包含在其他類目中的各種應(yīng)用材料;不包含在其他類目中的材料的各種應(yīng)用
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C09K11-04 .含有天然或人造放射性元素或未經(jīng)指明的放射性元素
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