[發明專利]一種柔性基板及其制備方法有效
| 申請號: | 201711125895.1 | 申請日: | 2017-11-09 |
| 公開(公告)號: | CN107994134B | 公開(公告)日: | 2020-01-03 |
| 發明(設計)人: | 王選蕓 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/56 | 分類號: | H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司: | 44280 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) | 代理人: | 鐘子敏 |
| 地址: | 430000 湖北省武漢市東湖新技術*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 柔性 及其 制備 方法 | ||
1.一種柔性基板的制備方法,其特征在于,所述方法包括:
將玻璃基板進行清洗,所述清洗的過程至少包括紫外光處理、毛刷清洗、藥液清洗以及二流體清洗,在清洗結束后,經風刀干燥系統以進行干燥處理;
對柔性襯底材料進行脫泡處理,其中,脫泡處理的時間范圍為12-24h;
將柔性襯底材料涂布至玻璃基板上;其中,所述柔性襯底材料為聚酰亞胺,所述聚酰亞胺濕膜的厚度范圍為200-300μm;
將涂布有柔性襯底材料濕膜的玻璃基板進行真空干燥,包括:對涂布有柔性襯底材料濕膜的玻璃基板進行兩次抽真空,其中,第一次的抽氣速率小于第二次的抽氣速率,第一次的時間為20-100s,第二次的時間為400-600s,所述進行真空干燥的溫度范圍為50-80℃,壓力為小于或等于50pa,以去除所述柔性襯底材料濕膜中的部分溶劑;
所述進行干燥后,去除的所述柔性襯底材料濕膜中的溶劑的體積分數為50-90%;真空干燥后的聚酰亞胺薄膜的厚度與聚酰亞胺濕膜的厚度之間的比例范圍為1.5-2:1;
將真空干燥后的柔性襯底材料進行固化成型,其中,所述進行固化成型的溫度與所述進行真空干燥的溫度相匹配,所述進行固化成型的溫度范圍是50-80℃。
2.一種柔性基板,其特征在于,所述柔性基板是通過權利要求1的方法獲得的。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于武漢華星光電半導體顯示技術有限公司,未經武漢華星光電半導體顯示技術有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711125895.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:有機發光顯示屏
- 下一篇:一種應用于現代農業的鋼架結構蔬果培養大棚
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





