[發明專利]一種低價態氧化鉭光學鍍膜材料及制備方法在審
| 申請號： | 201711124575.4 | 申請日： | 2017-11-14 |
| 公開（公告）號： | CN107892571A | 公開（公告）日： | 2018-04-10 |
| 發明（設計）人： | 秦海波 | 申請（專利權）人： | 北京富興凱永興光電技術有限公司 |
| 主分類號： | C04B35/495 | 分類號： | C04B35/495;C04B35/622 |
| 代理公司： | 北京市商泰律師事務所11255 | 代理人： | 毛燕生 |
| 地址： | 102629 北*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 低價 氧化 光學 鍍膜 材料 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種低價態氧化鉭光學鍍膜材料，其特征在于由五氧化二鉭和金屬鉭粉燒結而成；
五氧化二鉭和金屬鉭粉的摩爾百分比在1：0.3～1:3之間，在真空條件下燒結而成，燒結溫度為在1350℃～1750℃之間，可以形成TaO2、Ta2O3、TaO幾種低態氧化鉭。
2.根據權利要求1所述的一種低價態氧化鉭光學鍍膜材料，其特征在于低價態氧化鉭光學鍍膜材料是不同尺寸顆粒，或者是不同尺寸的片。
3.一種低價態氧化鉭光學鍍膜材料制備方法,其特征在于含有以下步驟；
按五氧化二鉭與金屬鉭粉的質量比1：0.3～1:3的比例進行配料、混合、造粒或壓片、真空狀態下燒結，燒結溫度為1350℃～1750℃，形成導電性良好的低價態氧化鉭。
4.根據權利要求3所述的一種低價態氧化鉭光學鍍膜材料制備方法，其特征在于制備的低價態氧化鉭光學鍍膜材料用于生產光學元件。
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