[發明專利]等離子蝕刻裝置及其放電腔體

有效

• 申請號: 201711121481.1
• 申請日: 2017-11-14
• 公開（公告）號: CN107887249B
• 公開（公告）日: 2019-06-04
• 發明（設計）人: 趙公魄;丁雪苗;梁庭杰
• 申請（專利權）人: 珠海寶豐堂電子科技有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 珠海智專專利商標代理有限公司 44262
• 代理人: 林永協

1.用于等離子蝕刻裝置的放電腔體，其特征在于：

包括外殼體、頂座、固定座、底座以及至少一個氣體管口，所述頂座位于所述固定座的上方，所述固定座位于所述外殼體的上方，所述氣體管口位于所述外殼體表面的一側，所述底座位于所述外殼體的下方；

所述放電腔體具有空腔，所述空腔內設置有電源電極，所述頂座的中部具有定位口，所述電源電極相對于所述底座垂直設置并穿過所述定位口向外延伸，且所述電源電極的正極通過連接電纜與射頻電源電連接；

所述定位口具有導通孔和定位孔，所述導通孔與所述定位孔同軸設置，且所述導通孔的直徑大于所述定位孔的直徑。

2.根據權利要求1所述的用于等離子蝕刻裝置的放電腔體，其特征在于：

所述固定座包括第一固定座、第二固定座以及第三固定座，所述第一固定座、所述第二固定座以及所述第三固定座同軸設置；

所述第一固定座與所述第二固定座螺紋連接，所述第二固定座與所述第三固定座螺紋連接。

3.根據權利要求2所述的用于等離子蝕刻裝置的放電腔體，其特征在于：

所述第一固定座的直徑小于所述第二固定座的直徑，所述第二固定座的直徑小于所述第三固定座的直徑。

4.根據權利要求2所述的用于等離子蝕刻裝置的放電腔體，其特征在于：

所述第三固定座包括第一固定部件和第二固定部件，所述第一固定部件與所述第二固定部件螺紋連接，且所述第一固定部件的直徑與所述第二固定部件的直徑相同。

5.根據權利要求1或2所述的用于等離子蝕刻裝置的放電腔體，其特征在于：

所述氣體管口包括連接部和固定部，所述連接部和所述固定部固定連接，所述固定部上具有至少一個進氣孔，所述進氣孔設置于所述固定部的中部。

6.等離子蝕刻裝置，包括外框、多個電極板以及多個電路板、所述外框所圍成的真空腔體，多個所述電極板設置于所述真空腔體內，一個所述電路板位于兩個所述電極板之間，其特征在于：

所述等離子蝕刻裝置還包括放電腔體，所述放電腔體位于所述外框上表面的一側；

所述放電腔體包括外殼體、頂座、固定座、底座以及至少一個氣體管口，所述頂座位于所述固定座的上方，所述固定座位于所述外殼體的上方，所述氣體管口位于所述外殼體表面的一側，所述底座位于所述外殼體的下方；

所述放電腔體具有空腔，所述空腔內設置有電源電極，所述頂座的中部具有定位口，所述電源電極相對于所述底座垂直設置并穿過所述定位口向外延伸，且所述電源電極的正極通過連接電纜與射頻電源電連接；

所述定位口具有導通孔和定位孔，所述導通孔與所述定位孔同軸設置，且所述導通孔的直徑大于所述定位孔的直徑；

所述底座與所述外框的上表面螺紋連接，且所述底座與所述外框的上表面之間設置有密封圈。

7.根據權利要求6所述的等離子蝕刻裝置，其特征在于：

所述固定座包括第一固定座、第二固定座以及第三固定座，所述第一固定座、所述第二固定座以及所述第三固定座同軸設置；

所述第一固定座與所述第二固定座螺紋連接，所述第二固定座與所述第三固定座螺紋連接。

8.根據權利要求7所述的等離子蝕刻裝置，其特征在于：

所述第一固定座的直徑小于所述第二固定座的直徑，所述第二固定座的直徑小于所述第三固定座的直徑。

9.根據權利要求7所述的等離子蝕刻裝置，其特征在于：

所述第三固定座包括第一固定部件和第二固定部件，所述第一固定部件與所述第二固定部件螺紋連接，且所述第一固定部件的直徑與所述第二固定部件的直徑相同。

10.根據權利要求6或7所述的等離子蝕刻裝置，其特征在于：

所述氣體管口包括連接部和固定部，所述連接部和所述固定部固定連接，所述固定部上具有至少一個進氣孔，所述進氣孔設置于所述固定部的中部。