[發明專利]模板復制

有效

• 申請號: 201711118552.2
• 申請日: 2017-11-14
• 公開（公告）號: CN108073036B
• 公開（公告）日: 2022-08-23
• 發明（設計）人: 崔炳鎮;A·切若拉;M·J·邁斯爾
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 張勁松

1.一種壓印光刻方法，包括：

識別模板的第一有效區的一個或多個尺寸屬性；

在使所述模板與基板接觸之前，至少部分地基于所識別的所述模板的第一有效區的尺寸屬性，確定所述基板的第二有效區的倍率校正；

測量所述模板的面外變形；

測量所述基板的面外變形；

在確定所述倍率校正之前，將背壓力施加于所述模板，以補償所測量的所述模板的面外變形；

在確定所述倍率校正之前，將背壓力施加于所述基板，以補償所測量的所述基板的面外變形；

在補償所述模板和基板的面外變形之后：

i)使定位在所述基板上的壓印抗蝕劑與所述模板接觸，使得所述模板的第一有效區中的圖案特征被所述壓印抗蝕劑填充，并且

ii)將另外的背壓力施加于所述模板、基板或這二者，其中，施加的另外的背壓力被選擇使得所述基板的第二有效區呈現所述倍率校正，

其中，在確定所述倍率校正之前將背壓力施加于所述模板以補償所測量的所述模板的面外變形進一步包括通過在所述第一有效區上方凹陷到所述模板中的第一室將背壓力施加于所述模板，并且

其中，在確定所述倍率校正之前將背壓力施加于所述基板以補償所測量的所述基板的面外變形進一步包括通過在所述第二有效區下方凹陷到所述基板中的第二室將背壓力施加于所述基板。

2.根據權利要求1所述的壓印光刻方法，其中，所述基板的第二有效區的倍率校正在使所述壓印抗蝕劑與所述模板接觸之前被確定。

3.根據權利要求1所述的壓印光刻方法，其中，在所述模板與定位在所述基板上的壓印抗蝕劑接觸的同時，所述另外的背壓力被施加于所述模板、基板或這二者。

4.根據權利要求1所述的壓印光刻方法，其中，所述面外變形是凸變形或凹變形中的一個。

5.根據權利要求1所述的壓印光刻方法，其中，將所述另外的背壓力施加于所述模板、基板或這二者包括基于所述倍率校正將正的另外的背壓力施加于所述模板并且將負的另外的背壓力施加于所述基板，以增大所述基板的第二有效區的大小。

6.根據權利要求1所述的壓印光刻方法，其中，將所述另外的背壓力施加于所述模板、基板或這二者包括基于所述倍率校正將負的另外的背壓力施加于所述模板并且將正的另外的背壓力施加于所述基板，以減小所述基板的第二有效區的大小。