[發(fā)明專利]改進(jìn)的研磨拋光機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711115608.9
• 申請(qǐng)日: 2009-06-04
• 公開（公告）號(hào): CN108081116B
• 公開（公告）日: 2020-05-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 查爾斯·E·休伊;道格拉斯·A·希克考斯基;邁克爾·F·哈特
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 伊利諾斯工具制品有限公司
• 主分類號(hào): B24B37/04
• 分類號(hào): B24B37/04;G01N1/32;B24B37/34;B24B37/005
• 代理公司: 上海脫穎律師事務(wù)所 31259
• 代理人: 脫穎

一種改進(jìn)的研磨拋光機(jī)，包括基座，所述基座具有碗狀物，轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)盤和適于支撐壓盤的驅(qū)動(dòng)盤驅(qū)動(dòng)器。所述研磨拋光機(jī)包括頭部，所述頭部設(shè)置用于支撐樣品支架。頭部具有用于樣品支架的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)器和用于移動(dòng)樣品架接近和遠(yuǎn)離驅(qū)動(dòng)盤的第二驅(qū)動(dòng)器。根據(jù)第一個(gè)方面，頭部包括可操作地與第一驅(qū)動(dòng)器連接的測(cè)壓元件和可操作地與第二驅(qū)動(dòng)器連接的計(jì)數(shù)器。計(jì)數(shù)器設(shè)置用于確定頭部接近和遠(yuǎn)離驅(qū)動(dòng)盤的移動(dòng)和移動(dòng)程度。具有控制系統(tǒng)。根據(jù)第二個(gè)方面，具有指狀物，指狀物可從可與樣品支架一起轉(zhuǎn)動(dòng)的頭部的部分延伸和縮回。根據(jù)第三個(gè)方面，具有用于與碗狀物配合的可替換的碗狀襯墊。在第四個(gè)方面，在頭部設(shè)有照明設(shè)備。

本申請(qǐng)是申請(qǐng)日為2009年6月4日、申請(qǐng)?zhí)枮?01610035016.5、發(fā)明名稱為“改進(jìn)的研磨拋光機(jī)”的發(fā)明專利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。且申請(qǐng)日為2009年6月4日、申請(qǐng)?zhí)枮?01610035016.5、發(fā)明名稱為“改進(jìn)的研磨拋光機(jī)”的發(fā)明專利申請(qǐng)是國際申請(qǐng)?zhí)枮镻CT/US2009/046190、國家申請(qǐng)?zhí)枮?00980123745.4、發(fā)明名稱為“改進(jìn)的研磨拋光機(jī)”的發(fā)明專利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。

相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用

本申請(qǐng)要求于2008年6月20提交的美國專利臨時(shí)申請(qǐng)No.61/074,455的優(yōu)先權(quán)。

背景技術(shù)

本發(fā)明涉及研磨拋光機(jī)。更具體地，本發(fā)明涉及一種用于為實(shí)驗(yàn)制備樣品的改進(jìn)的研磨拋光機(jī)

研磨拋光機(jī)應(yīng)用于許多產(chǎn)業(yè)。它們經(jīng)常用于制備為進(jìn)一步實(shí)驗(yàn)用的金屬樣品、聚合物樣品、陶瓷樣品或類似樣品，例如用于金相實(shí)驗(yàn)。

已知的研磨拋光機(jī)包括標(biāo)本支架或樣品支架，所述標(biāo)本支架或樣品支架設(shè)置成可相對(duì)于壓盤轉(zhuǎn)動(dòng)，所述壓盤也被設(shè)置成可以轉(zhuǎn)動(dòng)。用這種方式，有兩個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)的動(dòng)作同時(shí)發(fā)生。漿(通常為研磨料)被注入到壓盤上為研磨和拋光樣品提供研磨介質(zhì)。

樣品支架被支撐用于在卡盤上轉(zhuǎn)動(dòng)。支架是具有多孔的平面盤，樣品位于孔中。在一種方式中，樣品被鎖入支架中并且由支架施加向下的壓力壓在壓盤上。當(dāng)支架和壓盤轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，支架(和樣品)施加的壓力與漿的研磨作用一起，對(duì)樣品產(chǎn)生研磨和拋光的作用。

在另一種方式中，樣品漂浮在支架內(nèi)并且柱塞被移動(dòng)與樣品接觸以對(duì)樣品施加壓力。此外，當(dāng)所述支架和壓盤轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，柱塞施加的壓力與漿的研磨作用一起導(dǎo)致對(duì)樣品產(chǎn)生研磨和拋光的作用。

支架接近和遠(yuǎn)離壓盤的移動(dòng)被位于研磨拋光機(jī)頭部的驅(qū)動(dòng)器控制。驅(qū)動(dòng)馬達(dá)被用于定位支架并且因此相對(duì)于壓盤的樣品。已知研磨拋光機(jī)的一個(gè)缺陷是沒有良好的定位控制器或機(jī)構(gòu)以精確控制支架相對(duì)于壓盤的位置。

壓盤被支撐在碗狀物內(nèi)。碗狀物用作在研磨或拋光操作中產(chǎn)生碎片的容器。水或其他液體用于沖洗碗狀物以清除碎片。實(shí)踐證明使用已知的沖洗系統(tǒng)，碎片被收集在碗狀物內(nèi)，并且導(dǎo)致其難看和不便地堆積在碗狀物內(nèi)。實(shí)踐還證明如果研磨特別地猛烈，壓盤會(huì)發(fā)熱從而會(huì)不利地影響樣品制備。

因此地，需要一種改進(jìn)的研磨拋光機(jī)。所需的這種研磨拋光機(jī)包括改進(jìn)的照明系統(tǒng)以提高工作區(qū)域的能見度。更所需地，這種研磨拋光機(jī)具有改進(jìn)的沖洗/碗狀物清洗系統(tǒng)。更值得向往地，這種研磨拋光機(jī)具有用于定位頭部和樣品支架以及用于相對(duì)于旋轉(zhuǎn)壓盤將樣品固定在適當(dāng)位置的改進(jìn)系統(tǒng)。

發(fā)明內(nèi)容

一種改進(jìn)的研磨拋光機(jī)包括具有碗狀物的基座，轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)盤，驅(qū)動(dòng)盤驅(qū)動(dòng)器和控制系統(tǒng)。所述驅(qū)動(dòng)盤適于支撐壓盤。

該研磨拋光機(jī)包括改進(jìn)的照明系統(tǒng)以提高工作區(qū)域的能見度并且具有改進(jìn)的沖洗或碗狀物清洗系統(tǒng)。一種改進(jìn)的系統(tǒng)還被提供用于定位頭部和樣品支架以及用于相對(duì)于轉(zhuǎn)動(dòng)壓盤將所述樣品固定在適當(dāng)位置。

在本實(shí)施例中，所述頭部設(shè)置用于支撐樣品支架。研磨拋光機(jī)包括封裝在頭部?jī)?nèi)的用于樣品支架的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)器(轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)器)和用于垂直地移動(dòng)頭部和樣品支架使其接近和遠(yuǎn)離壓盤的第二驅(qū)動(dòng)器(高度驅(qū)動(dòng)器)。