[發明專利]改進的研磨拋光機

有效

• 申請號: 201711115608.9
• 申請日: 2009-06-04
• 公開（公告）號: CN108081116B
• 公開（公告）日: 2020-05-26
• 發明（設計）人: 查爾斯·E·休伊;道格拉斯·A·希克考斯基;邁克爾·F·哈特
• 申請（專利權）人: 伊利諾斯工具制品有限公司
• 主分類號: B24B37/04
• 分類號: B24B37/04;G01N1/32;B24B37/34;B24B37/005
• 代理公司: 上海脫穎律師事務所 31259
• 代理人: 脫穎

1.一種改進的研磨機/拋光機，包括：

基座，所述基座具有碗狀物、旋轉式驅動盤和驅動盤驅動裝置，所述驅動盤適于支撐壓盤，所述壓盤為限定了外圍的圓形并且位于所述碗狀物中；

頭部，所述頭部被設置成支撐樣品支架并具有用于樣品支架的旋轉驅動的第一驅動裝置，所述頭部具有用于移動樣品支架接近和遠離所述壓盤的第二驅動裝置；以及

可替換的用于與碗狀物匹配的碗狀襯墊，所述碗狀物和碗狀襯墊大體上呈D形，從而在所述壓盤的外圍和所述碗狀襯墊之間限定空間，用于手接近所述壓盤。

2.根據權利要求1所述的研磨機/拋光機，其中所述碗狀襯墊是透明的。

3.根據權利要求1所述的研磨機/拋光機，其中所述碗狀襯墊由塑料形成。

4.根據權利要求1所述的研磨機/拋光機，所述頭部包括測壓元件和計數器，所述測壓元件可操作地與第一驅動裝置連接，所述計數器設置為確定頭部接近和遠離壓盤的移動和移動程度；以及

控制系統。

5.根據權利要求4所述的研磨機/拋光機，其中，當第二驅動裝置以前進方向操作來移動樣品支架與壓盤接觸時，測壓元件適于檢測樣品支架和壓盤之間的接觸，并且一旦檢測到樣品支架和壓盤相接觸時停止所述第二驅動器向前進方向的移動；

其中，在檢測到樣品支架和壓盤相接觸之后，所述第二驅動裝置停止并且反轉以移動樣品支架遠離壓盤預定的距離。

6.根據權利要求4所述的研磨機/拋光機，其中，所述測壓元件設置用于檢測由樣品和壓盤之間的接觸產生的負荷，并且當研磨機/拋光機運轉時，所述測壓元件隨著負荷的變化產生信號以致動所述第二驅動裝置以前進方向操作來移動所述樣品接近所述壓盤。

7.根據權利要求5所述的研磨機/拋光機，包括主驅動軸，所述主驅動軸可操作地與樣品支架連接并可操作地連接到所述測壓元件上，其中施加在所述主驅動軸上的力提供對由樣品支架和壓盤之間的接觸所產生的負荷的檢測。

8.根據權利要求4所述的研磨機/拋光機，包括導螺桿，所述導螺桿用于移動樣品支架接近和遠離壓盤，所述導螺桿可操作地與所述計數器連接。

9.根據權利要求4所述的研磨機/拋光機，包括托架和軌道，所述托架和軌道用于移動所述頭部和樣品支架接近和遠離所述壓盤。

10.根據權利要求4所述的研磨機/拋光機，其中所述控制系統至少部分地封裝在外殼中并且包括微處理器控制的控制系統。

11.根據權利要求10所述的研磨機/拋光機，其中所述控制系統包括觸摸板或屏幕。

12.根據權利要求1所述的研磨機/拋光機，還包括指狀物，所述指狀物可以從所述頭部的可與所述樣品支架一起旋轉的部分伸出或縮回，所述指狀物設置成與定位在樣品支架上的樣品接觸并在樣品上施加壓力以使所述樣品接合所述壓盤。

13.根據權利要求12所述的研磨機/拋光機，其中所述指狀物被偏置于縮回位置。

14.根據權利要求12所述的研磨機/拋光機，包括用于伸展所述指狀物的裝置。

15.根據權利要求12所述的研磨機/拋光機，其中所述指狀物由具有涂層的基材形成，其中所述涂層是陶瓷材料。

16.根據權利要求1所述的研磨機/拋光機，還包括設置在所述頭部的照明設備，其中所述照明設備對準所述碗狀物和壓盤。