[發明專利]一種多金屬配位嗎啡印跡高聚物新材料的制備方法及用途有效
| 申請號: | 201711114926.3 | 申請日: | 2017-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN107722153B | 公開(公告)日: | 2019-11-29 |
| 發明(設計)人: | 李輝;黃信慧;龔夢婷;宋俊杰 | 申請(專利權)人: | 駱雅雅 |
| 主分類號: | C08F126/06 | 分類號: | C08F126/06;C08F2/46;C08J3/24;C08J9/28;B01J20/26;B01D15/08;C08L39/08 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 金屬 嗎啡 印跡 高聚物 新材料 制備 方法 用途 | ||
本發明公開了一種多金屬配位嗎啡印跡高聚物新材料的制備方法及用途,該方法包括稱取多金屬共沉淀的生成及用去離子水洗滌沉淀至中性,加入嗎啡、二甲基亞砜、乙腈?甲苯混合溶劑、助配劑,超聲混合所得的沉淀、靜置,制得多金屬?嗎啡配合物模板物溶液;在模板物溶液中加入4?VP?多巴胺混合功能單體,超聲,再加入AIBN,超聲混勻;將所得混合物溶液置于水浴中,反應系統置于微波反應系統中,透過保鮮膜用微波間斷照射混合物,反應6h即得。本發明反應時間縮短,得到的多金屬配位嗎啡印跡高聚物對嗎啡分子具有較高的選擇吸附能力,吸附性能穩定,重現性好,可將本發明得到的分子印跡聚合物用于嗎啡的固相萃取,適應一些特殊場合的需要。
技術領域
本發明涉及一種多金屬配位嗎啡印跡高聚物新材料的微波制備方法及用途。
背景技術
分子印跡技術是通過人工手段制備對目標化合物具有高度選擇識別性能的分子印跡聚合物的新技術。金屬配位印跡技術基于金屬原子與模板分子較強的配位作用而使得由模板產生的印跡位點更加穩定,特別是金屬配位鍵較強的作用力增加了所得印跡聚合物對目標化合物的鍵合能力,且鍵合的化合物分子在常規洗脫條件下也易于脫落,因此金屬配位印跡識別是一種比氫鍵印跡位點識別能力更強,選擇性更高的分子識別模式,而且處在結合位點的目標化合物又比共價鍵結合物更易于脫除。這種中等強度的分子識別極大提高了分子印跡聚合物的應用能力。近年來,金屬配位印跡技術主要通過具有較強能力的單配位金屬同時對模板分子及功能單體配位而實現印跡,由于單一金屬原子對多種配體的選擇配位差異,常常使得單金屬配位印跡聚合物的結合能力及選擇性能不夠突出。采用多金屬配位印跡可克服單金屬原子配位能力不足及不均的現象,極大促進金屬-模板化合物-功能單體配合物的有效生成,從而提高印跡位點的真實度和位點穩定性。微波輔助化學合成在有機化合物的合成中具有合成速度快,操作簡單,產率高等優勢,但微波較少用于分子印跡高聚物的制備過程。
為獲得多金屬配位印跡聚合物,首先需要篩選和制備復合金屬混合物,為此考察多金屬的電子層結構及配位能力是十分必要的,通過廣泛研究和篩選,獲得具有較高配位能力的金屬混合物;其次是多金屬原子與模板分子的配位,考察實驗條件,獲得穩定性高的配位化合物;第三步是模板分子與功能單體通過共價或非共價作用形成功能單體-模板分子復合物,又稱主客體配合物(Host-guest complex);然后加入交聯劑,通過引發劑引發聚合反應而生成高度交聯的高聚物,用溶劑洗脫移除高聚物中的模板分子,從而在分子印跡聚合物基體中留下與模板分子在大小、形狀及功能基方面相匹配的印跡孔穴,即印跡位點,這些吸附位點對目標分子具有特異選擇性。分子印跡聚合物既具備與生物抗體相似的高選擇識別性能,又能耐高溫、強酸堿等苛刻環境條件,具有較好的穩定性和較高的使用壽命。因此分子印跡聚合物在色譜分離、固體萃取、酶模擬催化、臨床藥物分析及傳感器技術等領域均表現出良好的應用前景。
固相萃取是利用固體吸附劑對液體試樣中各組分吸附力差異而實現分離的。由于分子印跡聚合物(MIP)的選擇識別能力較高,對于模板物質的選擇性遠遠高于固相萃取的傳統填料,穩定性較好,因此MIP 可作為專屬的固相填料對痕量組分進行富集。將MIP 作為固相萃取填料的技術稱為分子印跡固相萃取(molecular imprint solid phaseextraction,MISPE)技術。
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