[發(fā)明專利]一種單片微波集成電路中靜電防護(hù)結(jié)構(gòu)及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711113846.6 | 申請日: | 2017-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN107994015B | 公開(公告)日: | 2020-07-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 魏鴻基;許燕麗;王江;朱慶芳 | 申請(專利權(quán))人: | 廈門市三安集成電路有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/02 | 分類號: | H01L27/02;H01L21/82 |
| 代理公司: | 廈門市首創(chuàng)君合專利事務(wù)所有限公司 35204 | 代理人: | 張松亭;張迪 |
| 地址: | 361000 福建省廈門*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 單片 微波集成電路 靜電 防護(hù) 結(jié)構(gòu) 及其 制造 方法 | ||
本發(fā)明提供了一種單片微波集成電路中靜電防護(hù)結(jié)構(gòu),在晶體管的基區(qū)?發(fā)射區(qū)、基區(qū)?集電區(qū)之間分別并聯(lián)設(shè)置有呈背對背結(jié)構(gòu)設(shè)置的二極管組;每一個(gè)所述二極管組中包括兩個(gè)二極管,兩個(gè)二極管的陽極相互連接或者陰極相互連接形成背對背結(jié)構(gòu)。本發(fā)明提供了一種單片微波集成電路中靜電防護(hù)結(jié)構(gòu),有效降低靜電防護(hù)結(jié)構(gòu)在集成電路中所占用的面積大小。本發(fā)明還提供了上述靜電防護(hù)結(jié)構(gòu)的制造方法。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及集成電路領(lǐng)域,尤其涉及集成電路中的靜電防護(hù)結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
自然界的靜電放電(ESD)現(xiàn)象對集成電路的可靠性構(gòu)成嚴(yán)重的威脅。在工業(yè)界,集成電路產(chǎn)品的失效30%都是由于遭受靜電放電現(xiàn)象所引起的,而且越來越小的工藝尺寸,更薄的柵氧厚度、基區(qū)都使得集成電路受到靜電放電破壞的幾率大大增加。因此,改善集成電路靜電放電防護(hù)的可靠性對提高產(chǎn)品的成品率具有不可忽視的作用。
靜電放電現(xiàn)象的模式通常分為四種:HBM(人體放電模式),MM(機(jī)器放電模式),CDM(組件充電放電模式)以及電場感應(yīng)模式(FIM)。而最常見也是工業(yè)界產(chǎn)品必須通過的兩種靜電放電模式是HBM和MM。當(dāng)發(fā)生靜電放電時(shí),電荷通常從芯片的一只引腳流入而從另一只引腳流出,此時(shí)靜電電荷產(chǎn)生的電流通常高達(dá)幾個(gè)安培,在電荷輸入引腳產(chǎn)生的電壓高達(dá)幾伏甚至幾十伏。如果較大的ESD電流流入內(nèi)部芯片則會造成內(nèi)部芯片的損壞,同時(shí),在輸入引腳產(chǎn)生的高壓也會造成內(nèi)部器件發(fā)生柵氧、基區(qū)擊穿現(xiàn)象,從而導(dǎo)致電路失效。因此,為了防止內(nèi)部芯片遭受ESD損傷,對芯片的每個(gè)引腳都要進(jìn)行有效的ESD防護(hù),對ESD電流進(jìn)行泄放。
在集成電路的正常工作狀態(tài)下,靜電放電保護(hù)器件是處于關(guān)閉的狀態(tài),不會影響輸入輸出引腳上的電位。而在外部靜電灌入集成電路而產(chǎn)生瞬間的高電壓的時(shí)候,這個(gè)器件會開啟導(dǎo)通,迅速的排放掉靜電電流。
ESD靜電因?yàn)闀r(shí)間短,能量大,往往對電路產(chǎn)生瞬間的沖擊導(dǎo)致電路中各器件的損壞。這就要求ESD防護(hù)結(jié)構(gòu)不但要有很好的電流泄放能,而且對于ESD靜電有一種較快的反應(yīng)速度。
現(xiàn)有技術(shù)中的靜電防護(hù)結(jié)構(gòu)都是使用串聯(lián)連接的二極管形成的二極管串,將二極管串連接在晶體管的基極和集電極、基極和發(fā)射極之間。當(dāng)沒有ESD靜電發(fā)生時(shí),電流不經(jīng)過二極管串,晶體管正常工作。當(dāng)發(fā)生ESD靜電時(shí),二極管串導(dǎo)通,使得ESD靜電從二極管串中流過,不會對晶體管產(chǎn)生損傷。上述結(jié)構(gòu)的缺點(diǎn)在于,二極管串所要占用的集成電路面積比較大。對于當(dāng)前nm級的制程工藝下,集成電路的版圖面積非常有限,如果被二極管串占用了大量的面積,無疑會造成很大的浪費(fèi)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的主要技術(shù)問題是提供一種單片微波集成電路中靜電防護(hù)結(jié)構(gòu),有效降低靜電防護(hù)結(jié)構(gòu)在集成電路中所占用的面積大小。
本發(fā)明所要解決的另一主要技術(shù)問題是提供上述靜電防護(hù)結(jié)構(gòu)的制造方法。
為了解決上述的技術(shù)問題,本發(fā)明提供了一種單片微波集成電路中靜電防護(hù)結(jié)構(gòu),在晶體管的基區(qū)-發(fā)射區(qū)、基區(qū)-集電區(qū)之間分別并聯(lián)設(shè)置有呈背對背結(jié)構(gòu)設(shè)置的二極管組;每一個(gè)所述二極管組中包括兩個(gè)二極管,兩個(gè)二極管的陽極相互連接或者陰極相互連接形成背對背結(jié)構(gòu)。
在一較佳實(shí)施例中:所述晶體管為HBT管。
本發(fā)明還提供了一種單片微波集成電路中靜電防護(hù)結(jié)構(gòu),包括至少一個(gè)制備在外延片上的晶體管,在外延片上制備有獨(dú)立于所述晶體管的兩個(gè)二極管;兩個(gè)二極管共用一個(gè)阻擋層,并且兩個(gè)二極管分別具有依次層疊設(shè)置在阻擋層上的收集層、基極層和發(fā)射層;兩個(gè)二極管彼此的收集層、基極層和發(fā)射層相互獨(dú)立設(shè)置,形成陰極相互連接的背對背二極管組;
其中一個(gè)二極管的陽極連接至晶體管的基區(qū),另一個(gè)二極管的陽極連接至晶體管的集電區(qū);或者,其中一個(gè)二極管的陽極連接至晶體管的基區(qū),另一個(gè)二極管的陽極連接至晶體管的發(fā)射區(qū)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于廈門市三安集成電路有限公司,未經(jīng)廈門市三安集成電路有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711113846.6/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:影像感測器
- 下一篇:淺溝槽隔離結(jié)構(gòu)及其制作方法
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
- 防護(hù)裝置和防護(hù)方法
- 防護(hù)材料與防護(hù)結(jié)構(gòu)與防護(hù)方法
- 一種用于評估防護(hù)工程綜合防護(hù)效能的數(shù)學(xué)計(jì)算模型
- 平面防護(hù)板、拐角防護(hù)板及防護(hù)裝置
- 平面防護(hù)板、拐角防護(hù)板及防護(hù)裝置
- 防護(hù)裝置及防護(hù)系統(tǒng)
- 防護(hù)蓋(接頭防護(hù)蓋)
- 巖爆防護(hù)臺車防護(hù)網(wǎng)以及防護(hù)臺車防護(hù)架
- 巖爆防護(hù)臺車防護(hù)網(wǎng)以及防護(hù)臺車防護(hù)架
- 防護(hù)罩、防護(hù)服及防護(hù)系統(tǒng)





