[發明專利]基于規則的OPC方法

有效

• 申請號: 201711112632.7
• 申請日: 2017-11-10
• 公開（公告）號: CN107831636B
• 公開（公告）日: 2020-09-01
• 發明（設計）人: 何大權;趙寶燕
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: G03F1/36
• 分類號: G03F1/36
• 代理公司: 上海浦一知識產權代理有限公司 31211
• 代理人: 戴廣志

本發明公開了一種基于規則的OPC方法，包括：步驟一、輸入初始圖形；步驟二、選擇不作移動的圖形邊；步驟三、選擇規則二圖形邊，該圖形邊記為B2；步驟四、選擇規則一圖形邊，該圖形邊記為B1；步驟五、設定圖形邊移動規則一；步驟六、根據規則一移動圖形邊B1，得到的圖形記為T1；步驟七、選擇圖形T1中與圖形邊B2的共邊，該共邊記為B21；步驟八、設定圖形邊移動規則二；步驟九、根據移動規則二移動圖形邊B21；步驟十、輸出圖形。本發明能夠使經過OPC處理后的修正圖形不會產生多余的凹凸。

技術領域

本發明涉及微電子版圖數據光學修正領域，特別是涉及一種基于規則的OPC(光學臨近修正)方法。

背景技術

在深亞微米微影工藝中，光學臨近效應已經成為光刻工藝流程必須考慮的因素，而OPC技術已經廣泛應用于集成電路的制造流程中?；谝巹t的OPC方法廣泛應用于補償因圖形密度不同引起的CD(關鍵尺寸)差異，并且在基于模型的OPC方法得到推廣之后，仍經常用于選擇性尺寸調整等步驟，用以增加光刻工藝窗口等目的。

表1

基于規則的OPC方法通過收集一系列硅片數據，從而建立一套基于圖形尺寸的規則，并用適當的OPC工具實現這些規則。規則一般指根據圖形的線寬和間距，將對應的圖形邊做出相應的移動，如上表1所示。

由于同一圖形不同位置所處環境差異，同一圖形不同位置的偏移量可能不同，從而產生一些圖形凹凸。這些圖形凹凸既可能導致后續基于模型OPC方法產生修正弱點，也會影響掩模板制作精度，因此應該盡量避免或減少圖形上的凹凸。

Mentor公司的SVRF(標準驗證規則格式)語言是實現基于規則的OPC方法的常用工具，通過將如表1所示的規則表翻譯成SVRF語句，實現對目標圖形的修正。在修正過程中，首先測量圖形邊片段的間距和線寬，并根據間距和線寬值做出相應的移動，測量中如果沒有做一定的偏置，就會導致移動后的圖形產生違反設計規則的情況，如圖2和圖3所示，其中，圖2中箭頭所指示的位置為間距違反設計規則，圖3中箭頭所指示的位置為線寬違反設計規則；而在測量圖形邊的間距和線寬時作一定的偏置，就可以避免上述情況，如圖4和圖5所示，其中，圖4雙箭頭所指示的是間距偏置量，圖5雙箭頭所指示的是線寬偏置量。

使用測量偏置的方法能很好的解決移動圖形邊后產生違反設計規則問題，但是也會導致一些特殊形狀圖形產生多余的凹凸，比如對于具有錘頭狀的圖形，由于測量偏置后圖形邊的線寬變得不同，因此偏移量也有所不同，從而導致產生多余的凹凸，如圖6所示，其中標號1表示凹凸。

現有的基于規則的OPC方法為了避免修正后圖形尺寸違反設計規則，在測量圖形邊的間距和線寬時作一定的偏置，這會引起部分圖形產生多余的凹凸，對最終OPC結果造成不利的影響。

結合圖1所示，現有基于規則的OPC方法處理流程如下：

輸入初始圖形T0，選擇不作移動的圖形邊X，選擇需要移動的圖形邊B，設定圖形邊移動規則，根據規則移動圖形邊B，輸出圖形T1。

上述流程中不作移動的圖形邊X是指不適用既定規則的圖形邊，比如線終端。需要移動的圖形邊是指初始圖形T0的所有圖形邊T0E減去不作移動的圖形邊,即B＝T0E–X。圖形邊移動規則是指根據間距和線寬對圖形邊進行移動?，F有的規則在測量圖形間距和線寬時，使用一定的偏置量避免修正后出現違反設計規則圖形。根據規則移動圖形邊B時，目標圖形T0作為OPC待修正圖形。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供一種基于規則的OPC方法，能夠使經過OPC處理后的修正圖形不會產生多余的凹凸。

為解決上述技術問題，本發明的基于規則的OPC方法，包括如下步驟：

步驟一、輸入初始圖形T0；